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雷仁贵

作品数:5 被引量:10H指数:2
供职机构:中国矿业大学(北京)超硬刀具材料研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金北京市自然科学基金更多>>
相关领域:化学工程一般工业技术电气工程冶金工程更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 4篇化学工程
  • 1篇冶金工程
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇电沉积
  • 2篇软磁
  • 2篇金刚石
  • 2篇粉末
  • 2篇粉末触媒
  • 2篇刚石
  • 2篇触媒
  • 2篇磁感应
  • 1篇电镀
  • 1篇电解液
  • 1篇压机
  • 1篇人造金刚石
  • 1篇软磁薄膜
  • 1篇铁合金
  • 1篇镍铁
  • 1篇镍铁合金
  • 1篇腔体
  • 1篇六面顶
  • 1篇六面顶压机
  • 1篇金属

机构

  • 4篇中国矿业大学...
  • 2篇中国科学院
  • 1篇黑龙江科技学...
  • 1篇中国矿业大学...

作者

  • 5篇雷仁贵
  • 5篇邓福铭
  • 3篇王振廷
  • 3篇赵国刚
  • 2篇方光旦
  • 2篇陈启武
  • 2篇刘晓慧
  • 2篇郭港
  • 2篇李学伟
  • 1篇陈石林
  • 1篇郑日升
  • 1篇李启泉
  • 1篇王启宝
  • 1篇陈犁
  • 1篇刘瑞平
  • 1篇熊湘君
  • 1篇卢学军
  • 1篇王文霞
  • 1篇李飞跃
  • 1篇赵会友

传媒

  • 1篇功能材料
  • 1篇有色金属
  • 1篇超硬材料工程
  • 1篇2006中国...

年份

  • 2篇2006
  • 3篇2005
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
国产大型六面顶超高压设备人工合成高品质金刚石理论与实践
陈启武邓福铭李启泉赵国刚陈犁李飞跃熊湘君王振廷李学伟郑日升陈石林王启宝赵会友郭港雷仁贵周新东刘晓慧
上世纪九十年代,国际金刚石行业经过四十年的发展以超高压技术为背景形成三足鼎立的局面,即以美、英、日、德等为主的年轮式两面顶超高压技术与装置;前苏联使用的凹模两面顶超高压技术与装置;以及具有中国特色的六面顶超高压技术与设备...
关键词:
关键词:金刚石超高压技术六面顶压机
粉末触媒工艺合成金刚石的电解提纯研究
采用电子分析天平测试了不同电解液组成和工艺条件下阴极的增重和阳极的失重,实验研究了电解提纯金刚石的电解液组成如氯化镍、氯化铵、稳定剂等含量及工艺条件如电流密度和PH值等对电解效率和阳极失重的影响,并用金相显微镜观察了提纯...
邓福铭雷仁贵王文霞卢学军
关键词:人造金刚石粉末触媒电解液
文献传递
电镀工艺条件与高饱和磁感应CoNiFe软磁薄膜的性能被引量:2
2006年
研究电沉积钴镍铁合金工艺条件如电流密度、pH和温度以及镀层厚度对膜层性能的影响。用振动样品磁强计测试膜层的矫顽力Hc、磁化强度Ms及磁滞回线,用高频电感法测试膜层的磁导率μi,用四探针法测试膜层的电阻率ρ。结果表明,膜层的电磁性能与镀覆工艺条件相关,在最佳镀覆工艺条件下(电流密度10mA/cm2,pH=2.8,施镀温度25℃,时间10min)所得合金镀层光亮、致密,有较好电磁特性,Bs达1.9T,矫顽力Hc为1.15Oe,电阻率为45μΩ.cm,在1MHz下磁导率μi为602。
邓福铭雷仁贵赵国刚王振廷方光旦
关键词:金属材料电沉积
Φ38mm腔体粉末触媒工艺合成高品质金刚石研究被引量:4
2005年
采用气雾化Fe70Ni30粉末触媒及Φ38 mm合成腔体,在国产Y-500型六面顶压机(缸径Φ500 mm)上进行了高品质金刚石的合成实验研究.结果表明,平均单产为72ct, 静压强度值在198.9~260.7kN之间,合成金刚石的TI、TTI值分别为74%~79.5% 和66.8%~70.3%,且TI值和TTI值之差在10%以内,合成的金刚石为金黄色,晶型完整率高,呈六八面体,杂质含量少且呈规则分布,质量基本上接近于国外SMD20/SMD30产品水平.合成的金刚石质量的明显改善应归功于所采用的Fe70Ni30粉末触媒合成工艺对金刚石生长环境的改善和生长速率的有效控制.
邓福铭刘瑞平李学伟刘晓慧郭港雷仁贵陈启武
关键词:高温高压合成工艺
电镀高饱和磁感应(B_s)CoNiFe软磁薄膜研究被引量:5
2005年
研究了电沉积 CoNiFe 合金薄膜镀液中主盐离子浓度对膜层磁性能的影响。用振动样品磁强计(VSM)和四探针等方法测试分析了膜层的物理性能。结果表明膜层的物理性能与合金镀液中的主盐离子浓度密切相关,镀液中Ni2+、Fe2+、Co2+浓度分别为0.2、0.012和0.063mol/L时,电沉积的 CoNiFe合金膜层的电磁性能较佳。其饱和磁化强度 Bs 达 1.9T,矫顽力Hc 为91.5A/m,电阻率为45μΩ·cm,在 1MHz下磁导率μi 为602。
赵国刚邓福铭雷仁贵王振廷方光旦
关键词:电沉积
共1页<1>
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