贾越
- 作品数：3 被引量：6H指数：1
- 供职机构：北京师范大学化学学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>
- EUV光致抗蚀剂研究进展被引量：1
- 2009年
- 波长13.5nm的极紫外(EUV)光刻技术可以刻画线幅<32nm的图像,能满足信息技术对于光致抗蚀剂高分辨率的要求,即将成为下一代纳米成像技术,利用EUV成像技术,可以实现集成电路的超小型化。本文调研了近几年来EUV抗蚀剂的研究进展,指出影响抗蚀剂性能的主要因素,包括分辨率、LWR、LER、成像灵敏度、产气作用、成像侧面角度等,对近几年来有关EUV光致抗蚀剂的研究开发情况进行了归纳总结。
- 贾越刘永富
- 关键词：EUV抗蚀剂LWR
- 纳米压印抗蚀剂研究进展被引量：4
- 2008年
- 纳米压印是最有希望的下一代纳米成像技术之一.基于其机械压印原理,纳米压印技术可以实现的图形分辨率超越了在别的传统技术中由光衍射或粒子束散射造成的局限.本文介绍纳米压印技术的基本原理,回顾了近期纳米压印抗蚀剂的研究进展.对影响抗蚀剂性能的主要因素进行讨论,包括玻璃化转化温度/热稳定性、粘度/平均分子量、抗蚀性能等.分别介绍了热压印和紫外压印的常见抗蚀剂材料,这些抗蚀剂的主要部分包括聚甲基丙烯酸甲酯(PM-MA)、有机硅改性的聚(甲基)丙烯酸酯、聚酰胺酯、聚二甲基硅烷、聚乙烯基醚化合物、环氧树脂等,并给出这些抗蚀剂体系的优、缺点.本文还介绍了纳米压印抗蚀剂面临的主要问题,对纳米压印技术的优势和问题作了小结.
- 霍永恩贾越王力元
- 关键词：纳米压印抗蚀剂成像
- 高酸解性聚合物的合成及应用被引量：1
- 2010年
- 采用常见的芳香二酸（对苯二甲酸和1,4-萘二甲酸）与1,4-二（2-乙烯氧基乙氧基）苯（1,4-DVEB）聚合,得到了2种新型的芳香酯缩醛聚合物,这些聚合物在各种常用溶剂如丙二醇甲醚醋酸酯（PG-MEA）、二氧六环、乙二醇乙醚中有较好的溶解性,分子量（Mn）3 000~5 000,热分解温度都大于230℃,用DSC测得其玻璃化转变温度在60℃左右.这2种酯缩醛聚合物在室温即可酸解,因此可与光产酸剂等组成无需后烘加热的正性化学增幅型感光成像材料,可用于高感度PS版或UV-CTP版感光剂.
- 贾越孔繁荣王力元
- 关键词：光产酸剂感度CTP版材
