您的位置： 专家智库 > >

肖志力

作品数：14 被引量：6H指数：2
供职机构：四川大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术电气工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 2篇电气工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 4篇离子束
  • 4篇成膜
  • 3篇离子
  • 3篇离子源
  • 3篇超导
  • 2篇灯丝
  • 2篇多层膜
  • 2篇氧化物薄膜
  • 2篇金属
  • 2篇金属氧化物薄...
  • 2篇反应气体
  • 2篇辐照
  • 2篇衬底
  • 2篇衬底材料
  • 1篇导体
  • 1篇电介质膜
  • 1篇氧化物超导体
  • 1篇液氮温区
  • 1篇制备金属
  • 1篇酸盐

机构

  • 9篇四川大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 10篇肖志力
  • 8篇肖定全
  • 6篇朱居木
  • 5篇郭华聪
  • 2篇邵启文
  • 1篇陈立泉
  • 1篇成向荣
  • 1篇车广灿
  • 1篇沈电洪
  • 1篇薛荣坚
  • 1篇解思深
  • 1篇钱正洪
  • 1篇张文
  • 1篇朱建国
  • 1篇梁敬魁
  • 1篇陈维
  • 1篇贾顺莲
  • 1篇郑东宁
  • 1篇赵忠贤
  • 1篇陈景然

传媒

  • 2篇材料导报
  • 1篇第六届全国电...

年份

  • 1篇2006
  • 1篇1994
  • 1篇1992
  • 2篇1991
  • 2篇1990
  • 2篇1989
  • 1篇1988
共 14 条 记 录，以下是 1-10
全选 清除 导出
排序方式：
用离子束反应溅射方法成膜的装置
用离子束反应溅射方法成膜的装置，主要用于制作多成分膜和多成分多层膜。本发明在装置的靶室中设有2～4个溅射离子源，采用聚焦离子源，以基片为中心分布于基片周围。每个离子源前方相应有一组装有4块不同材料的靶片的转动靶。对着基片...
郭华聪肖定全谢必正邵启文朱居木肖志力
文献传递
用离子束反应溅射方法成膜的装置
用离子束反应溅射成膜的装置，主要用于制作多成份膜和多成份多层膜。本发明在装置的靶室中设有2～4个溅射离子源，果用聚集离子源，以基片为中心分布于基片周围。每个离子源前方相应有一组装置有4块不同材料的靶片的转动靶。对着基片设...
郭华聪肖定全谢必正邵启文朱居木肖志力
多离子束反应共溅射法在Pt/α-Al＃-[2]O＃-[3]、Si、Kg玻璃基片上制备PLT薄膜的初步
肖定全肖志力朱居木
关键词：离子束加工钛酸盐薄膜生长电介质膜
无稀土高温超导合金及其制备方法
本发明提供生产无稀土超导合金的方法及其产品。包括对合金粉末进行成型处理，再进行烧结，之后进行急速冷却的各种方法。产品的超导转变温度100K以上，零电阻温度在液氮温区的全新无稀土超导合金。
赵忠贤陈立泉黄玉玲解思深肖志力梁敬魁倪永明车广灿郑东宁张玉玲毕建清成向荣贾顺莲雷翎王连忠李光胜王冀洪黄元齐冉中原陈维薛荣坚付肃嘉陈景然赵瑾陈庚华沈电洪
文献传递
铁电薄膜制备与应用系列基础研究
肖定全朱建国朱居木郭华聪彭文斌张文肖志力钱正洪
在国际上率先提出多离子束反应共溅射制备多组元薄膜设计思想，在国际上最先发展MIBRECS技术；在国际上首次报道利用该技术制备外延或择优取向的铁电薄膜；在国际上第一次提出并建立了多离子束反应共溅射的物理数学模型，结合工艺参...
关键词：
关键词：铁电薄膜
多组元金属氧化物薄膜的制备方法
本发明公开了一种采用多离子束反应共溅射装置制备金属氧化物薄膜的方法，采用四个离子源，其中三个为溅射离子源，对着衬底的第四个离子源在成膜前对衬底进行预溅射清洗，并在成膜过程中进行动态混合，通过使衬底加热、旋转，经由专门的通...
肖定全肖志力朱居木郭华聪谢必正
文献传递
多组元金属氧化物薄膜的制备方法
本发明采用多离子束反应共溅射装置，选取高纯金属，以及双金属合金或双金属拼接靶等作为靶材，在使衬底旋转并对它进行高温加热的条件下，通过控制各溅射离子源的能量和束流，选择适当的工作气体和气压，在不同衬底材料上在位生长制备均匀...
肖定全肖志力朱居木郭华聪谢必正
文献传递
高Tc超导薄膜研究近况
1989年
新的氧化物超导体的高临界温度特性为人们利用物质的超导电性展现了光明的前景。但由于这类超导体是多组元的氧化物陶瓷,其体材料中允许通过的电流远不能满足实际应用的需要。
肖志力肖定全
关键词：超导材料
高温氧化物超导体研究
肖志力
离子束成膜技术进展
1991年
由于离子源参数可独立控制、工作室内无等离子体以及能够精确控制膜的生长过程等优点,离子束成膜技术受到广泛重视。它已被用于超导材料、超硬材料、铁电材料、磁牲材料等的薄膜的制备研究工作。为满足科学技术对薄膜性能越来越高的要求,近年来人们发展了离子束辅助淀积及多离子束反应共溅射技术。本文将介绍这两方面的工作进展。
肖志力肖定全
关键词：离子束成膜溅射
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0