王喜眉
- 作品数：4 被引量：10H指数：2
- 供职机构：清华大学更多>>
- 发文基金：国家重点基础研究发展计划国家自然科学基金中国博士后科学基金更多>>
- 相关领域：机械工程一般工业技术金属学及工艺更多>>
- 一种降低硬质薄膜应力的薄膜制备方法
- 本发明涉及一种降低硬质薄膜应力的薄膜制备方法，其包括以下步骤：1)加工具有图案的掩模板，并加工与掩模板外形尺寸相对应的底板；2)清洗掩模板、底板和衬底材料，并将衬底材料固定在掩模板和底板之间，使衬底材料表面只暴露出与掩模...
- 邵天敏王喜眉张远月
- 一种降低硬质薄膜应力的薄膜制备方法
- 本发明涉及一种降低硬质薄膜应力的薄膜制备方法，其包括以下步骤：1)加工具有图案的掩模板，并加工与掩模板外形尺寸相对应的底板；2)清洗掩模板、底板和衬底材料，并将衬底材料固定在掩模板和底板之间，使衬底材料表面只暴露出与掩模...
- 邵天敏王喜眉张远月
- 文献传递
- 样品位置对多弧离子镀TiAlN薄膜表面质量的影响被引量：4
- 2011年
- 采用多弧离子镀技术,在硅基体表面沉积TiAlN薄膜;固定试样与靶材间的距离,使试样表面与靶平面成0°、45°、60°、120°、135°、180°,研究偏转角度对薄膜表面质量的影响;固定试样与靶材的偏转角度(60°和120°),研究试样与靶材的距离(分别为240,265,295,325,350mm)对TiAlN薄膜质量的影响。采用三维白光干涉表面形貌仪、场发射环境扫描电子显微镜测试薄膜的表面粗糙度、表面形貌和厚度。结果表明:试样与靶材的偏转角度显著影响薄膜表面大颗粒的数量,而试样与靶材的距离则影响薄膜的厚度。TiAlN薄膜表面大颗粒物随偏转角度的增加明显减少,厚度随着试样与靶材距离的增加而减小。从靶材材料成分及蒸发出的粒子的分布、偏压电场下粒子的运动特性等方面讨论了基体和靶材的距离、偏转角度对薄膜沉积速率和大颗粒的影响机制。
- 王喜眉邵天敏
- 关键词：TIALN薄膜多弧离子镀大颗粒
- 温度对TiN/Ti多层膜微观结构和氧化行为的影响被引量：6
- 2009年
- 研究了TiN/Ti多层膜不同温度下的微观结构和氧化行为。采用阴极弧离子镀沉积的方法制备了19层调制周期为200 nm的TiN/Ti多层膜及相应的TiN单层膜。采用高分辨场发射电子显微镜(HR–FESEM)、光学显微镜和X射线衍射仪(XRD)分别对膜层断面结构、表面形貌和物相进行分析。结果表明,随着加热温度的升高,TiN单层膜在350℃时开始出现局部剥落,550℃出现大范围的剥落,而多层膜未发生剥落;相对TiN单层膜,TiN/Ti多层膜具有层状结构,其抗氧化能力有一定的提高。结合试验结果,讨论了TiN/Ti多层膜和TiN单层膜的工作温度。
- 龚海飞邵天敏王喜眉
- 关键词：TIN/TI微观结构
