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汉语

作品数:6 被引量:12H指数:3
供职机构:中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信化学工程机械工程金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇会议论文
  • 1篇专利

领域

  • 2篇化学工程
  • 2篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程

主题

  • 3篇光学
  • 2篇应力
  • 2篇面形
  • 2篇光学加工
  • 1篇底面
  • 1篇迭代
  • 1篇迭代算法
  • 1篇应力分析
  • 1篇预应力
  • 1篇正则
  • 1篇正则化
  • 1篇适定问题
  • 1篇数值仿真
  • 1篇抛光
  • 1篇偏折
  • 1篇奇异值
  • 1篇奇异值分解
  • 1篇轴向刚度
  • 1篇稀薄气体
  • 1篇相位测量

机构

  • 6篇中国科学院
  • 2篇中国科学院研...
  • 2篇中国科学院大...
  • 1篇电子科技大学
  • 1篇兰州理工大学
  • 1篇四川大学

作者

  • 6篇汉语
  • 3篇万勇建
  • 2篇范斌
  • 2篇伍凡
  • 2篇房凯
  • 1篇张景文
  • 1篇刘元坤
  • 1篇张启灿
  • 1篇刘海涛
  • 1篇李志炜
  • 1篇赵文川

传媒

  • 2篇光电工程
  • 1篇激光技术
  • 1篇强激光与粒子...

年份

  • 2篇2020
  • 1篇2019
  • 2篇2010
  • 1篇2009
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
基于立体相位测量偏折术的预应力薄镜面形检测被引量:6
2020年
应力抛光技术通过在镜面上施加预定载荷,将包括自由曲面在内的非球面转化为球面进行加工,对加工镜面的形变进行精准检测是实现高精度应力抛光的关键。利用立体相位测量偏折术对预应力薄镜进行镜面面形和形变检测,获得被测镜表面的连续相位分布,结合表面法线唯一性与梯度分布积分,最终得到被测镜的高度分布和面形。模拟了系统误差成分,同时采用旋转平均法对系统误差进行标定去除,保证和提高了测量精度。对一块口径320 mm,球面半径5200 mm的预应力薄镜面形和变形量进行测量,静态测量结果与三坐标机测量结果对比,动态应变测量结果与有限元仿真结果对比,分别一致吻合,表明本文方法具备微米级的测量精度,相比于干涉仪和三坐标机更适用于大面形变化的预应力薄镜检测。
陈贞屹赵文川张启灿汉语刘元坤
被动半刚性磨盘在平滑中频误差中的应用
2010年
介绍了一种去除中频误差的有效工具被动半刚性磨盘。被动半刚性磨盘由刚性基底、变形层、薄板层以及抛光层组成。这种特殊的夹层式结构使磨盘在平滑过程中具有高通滤波特性,因而能够有效去除中频误差。基于弹性力学和滤波器理论,分析了被动半钢性磨盘的平滑机理,讨论了磨盘基本参数和误差频率之间的相互关系。以一块表面具有明显中频误差的抛物面镜为实验件,对被动半刚性磨盘的平滑能力进行验证,经过2个周期(共计75 min)的平滑后,中频误差得到了有效抑制。
汉语伍凡万勇建房凯
关键词:光学加工应力分析非球面
一种底面驱动预应力加工支撑系统
本发明公开了一种底面驱动预应力加工支撑系统,属于先进光学制造领域,适用于大口径弯月型离轴非球面反射镜的精密加工,该系统由面形检测装置、待加工反射镜、力促动器、定位支撑、柔性侧支撑、计算机和基座构成。受到轴向刚度限制,目前...
汉语范斌万勇建刘海涛
文献传递
CCOS技术驻留时间的计算方法
驻留时间求解问题是计算机控制光学表面成型技术(CCOS)中的关键问题。本文对CCOS技术的加工模型进行了讨论,按照数学领域中对正反问题的划分方法,将CCOS技术驻留时间的求解方法划分为沿正问题方向求解和沿反问题方向求解两...
汉语伍凡万勇建
关键词:光学加工迭代算法奇异值分解
文献传递
Tikhonov正则化在Zernike多项式拟合中的应用被引量:3
2010年
Zernike多项式系数的求解问题是一个典型的离散不适定问题,最小二乘法、格拉姆-斯密特正交化法和Householder变换法均无法求得稳定的数值解。本文对导致该问题解的不稳定性的原因进行了分析,并采用Tikhonov正则化法对Zernike多项式系数进行求解,利用L曲线准则确定了正则参数。数值仿真结果表明,Tikhonov正则化法有效的保证了解的稳定性,利用该方法得到的拟合面形很好的反映了面形的真实情况。
汉语伍凡万勇建房凯
关键词:不适定问题
变结构反应离子刻蚀腔室流场热场的数值仿真被引量:3
2020年
为了提高刻蚀的均匀性,对400mm反应离子刻蚀(RIE)腔室建立了气体流动的连续流体模型和热传递模型,研究了反应腔室内压强、流速和温度分布。冷却板恒温285K时,依次改变入口流量和出口压强,分别分析了腔室内部基片晶圆附近的流速、压强、温度的分布;依次改变极板间距离(30mm^60mm)、进气口直径(300mm^620mm)、抽气口直径(50mm^250mm),分析了反应腔室内气流和温度分布。结果表明,压强分布呈现出边缘低中心高的特征,流速呈现边缘高且中心低的特征,且在小流量时压强的均匀性较好;压强分布的均匀性随腔室极板间距离增加而有所提高,且随腔室气体出口面积减小与进口面积增加也有所提高;基片晶圆上方附近处温度场大面均匀、稳定,几乎不受入口流量波动变化的影响,热稳定性良好。该研究对大口径RIE腔室结构设计改进及对大口径反应离子刻蚀工艺控制具有重要意义。
张景文张景文范斌李志炜
关键词:光学制造反应离子刻蚀
共1页<1>
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