徐晔
- 作品数：10 被引量：14H指数：2
- 供职机构：上海交通大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金上海市科委纳米专项基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术自动化与计算机技术理学社会学更多>>
- 调节磁控溅射反应气体分压制备Ti－Si－N膜的方法
- 一种薄膜技术领域的调节磁控溅射反应气体分压制备Ti－Si－N膜的方法。本发明采用直流反应磁控溅射，溅射靶为Ti－Si镶嵌靶，工作气氛为氮气和氩气的混合气氛，Ti－Si镶嵌靶上Ti、Si有效溅射面积比固定，总工作气压固定，...
- 蔡珣徐晔陈秋龙沈耀胡亚威
- 文献传递
- 磁控溅射Ti-Si-N超硬膜的研究
- 本文用钛-硅复合靶，通过控制反应磁控溅射的各工艺参数制得了一系列Ti-Si-N膜，并借助能谱仪(EDS)、X射线衍射(XRD)，纳米压入仪和划痕仪对膜层的成分、结构和力学性能进行了分析。结果发现，可方便地通过改变氮气分压...
- 蔡珣徐晔
- 关键词：磁控溅射纳米压入
- 文献传递
- 氮气分压对直流磁控溅射Ti-Si-N膜的影响
- 在利用磁控溅射方法制备Ti-Si-N膜的过程中,反应气体中氮气的分压是一个重要的参数。本文采用钛-硅复合靶,在不同氮气分压下制得了一系列Ti-Si-N膜,并借助能谱仪（EDS）、X射线衍射（XRD）、纳米压入仪和划痕仪对...
- 徐晔蔡珣陈秋龙沈耀
- 关键词：XRD纳米压入
- 文献传递
- 通过PC-PLC实现的复合离子注入机实时监控被引量：1
- 2005年
- 在PLC广泛应用于工业控制的背景下,希望对应用于表面改性处理的复合离子注入机进行实时监控,阐述了控制系统的工作原理以及所实现的监测和控制功能,介绍了采用LG公司的MASTERK200S系列PLC在该系统中进行的硬件及软件设计方法等,开发出基于PCPLC的复合离子注入机的实时控制系统。
- 郭善伟李刘合蔡珣陈秋龙徐晔翁海峰徐鸣李刘合
- 关键词：PLC控制系统实时监控梯形图
- Ti-Si-N纳米超硬膜的研究进展被引量：10
- 2006年
- 随着现代工业对材料表面涂层的要求不断提高,Ti-Si-N膜以其独特的纳米复合结构、超硬性及其他优异的力学性能成为研究的热点。本文综述了Ti-Si-N纳米复合膜的制备工艺以及工艺参数对Ti-Si-N膜的微观结构与力学性能的影响。
- 徐晔蔡珣陈秋龙沈耀李刘合
- 关键词：纳米复合膜微观结构工艺参数
- 氮气分压对直流磁控溅射Ti-Si-N膜的影响
- 在利用磁控溅射方法制备Ti-Si-N膜的过程中,反应气体中氮气的分压是一个重要的参数。本文采用钛—硅复合靶,在不同氮气分压下制得了一系列Ti-Si-N膜,并借助能谱仪(EDS)、X射线衍射(XRD)、纳米压入仪和划痕仪对...
- 徐晔蔡珣陈秋龙沈耀
- 关键词：XRD纳米压入
- 文献传递
- 氮气分压对直流磁控溅射Ti-Si-N膜的影响
- 在利用磁控溅射方法制备Ti-Si-N膜的过程中,反应气体中氮气的分压是一个重要的参数.本文采用钛-硅复合靶,在不同氮气分压下制得了一系列Ti-Si-N膜,并借助能谱仪(EDS)、X射线衍射(XRD)、纳米压入仪和划痕仪对...
- 徐晔蔡珣陈秋龙沈耀
- 关键词：复合膜直流磁控溅射相结构力学性能
- 文献传递
- 直流磁控溅射Ti-Si-N超硬纳米复合膜的结构与力学性能被引量：4
- 2007年
- 采用Ti-Si复合靶在321不锈钢基体上用直流磁控反应溅射方法制得超硬纳米复合Ti-Si-N膜层,并借助能谱仪(EDX)、X射线衍射(XRD)、X光电子谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)、纳米压入仪和划痕仪对膜层的成分、结构和力学性能进行了分析.结果表明:随着膜层中Si含量的增加,Ti-Si-N膜的硬度逐渐升高,当a(Si)=11.2%时达到峰值42 GPa;随着Si含量的进一步增长,膜层硬度开始下降.XRD和XPS结果显示,最硬的Ti-Si-N膜层包含大小约为8 nm的TiN纳米晶以及包围在其周围的非晶态Si3N4.XRD结果显示,随着Si的引入,膜层中TiN晶粒的择优取向由纯TiN膜层中的(111)变为Ti-Si-N膜层中的(200).划痕实验也显示了Si的添加对膜层结合力的影响.最后对该纳米复合膜的强化机制进行了探讨.
- 徐晔李刘合蔡珣陈秋龙朱建豪
- 关键词：结合力
- 仙霞新村街道电子政务发展研究
- 本文首先为电子政务进行定义，并阐述了电子政务在中国、在上海和长宁区以及在仙霞街道的发展状况。接着主要从实事及数据上对目前仙霞街道电子政务的现状进行分析，分析包括了街道电子政务内外需求，电子政务的内外组成部分，软硬件的投入...
- 徐晔
- 关键词：电子政务资源整合受众需求服务质量
- 文献传递
- 超硬Ti-Si-N纳米复合膜的研究
- 徐晔
- 关键词：微观结构工艺参数
