张学铭
- 作品数：7 被引量：15H指数：2
- 供职机构：河南科技学院机电学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：自动化与计算机技术电子电信一般工业技术交通运输工程更多>>
- 固结磨料研磨SiC单晶基片(0001)C面研究被引量：8
- 2014年
- 碳化硅(SiC)单晶基片已广泛应用于微电子、光电子等领域.本文针对传统游离磨料研磨加工的缺点,提出了固结磨料研磨SiC单晶基片技术,以前期研究的SiC单晶基片研磨膏配方,试制了一系列固结磨料研磨盘,研究了固结磨料研磨SiC单晶基片(0001)C面时的材料去除率、表面粗糙度及平面度,并与游离磨料研磨进行了对比.结果表明,固结磨料研磨后样品表面有深度较浅的划痕,游离磨料研磨后表面没有划痕,但表面呈凹坑状;游离磨料研磨后工件表面粗糙度轮廓最大高度Rz远大于固结磨料研磨;固结磨料研磨的材料去除率高于游离磨料,固结磨料研磨后的表面粗糙度Ra远低于游离磨料研磨,固结磨料研磨可提高平面度;研究结果可为进一步研究固结磨料化学机械研磨盘、固结磨料研磨工艺参数及机理提供参考依据.
- 苏建修张学铭万秀颖付素芳
- 关键词：材料去除率表面粗糙度平面度
- 基于游离磨粒的化学机械抛光材料去除非均匀性形成机制(英文)被引量：4
- 2012年
- 本文主要研究硬脆晶体材料化学机械抛光中基片内材料去除非均匀性的形成机理.首先分析了化学机械抛光时抛光机的运动参数对硅片表面上相对速度分布非均匀性、摩擦力分布非均匀性、接触压力分布非均匀性及磨粒运动轨迹密度分布非均匀性的影响规律.然后通过基片内材料去除非均匀性实验,得出了抛光机运动参数对基片表面材料去除非均匀性的影响.通过比较理论分析与实验结果,基片表面上相对速度分布非均匀性、摩擦力分布非均匀性及接触压力分布非均匀性随转速的变化趋势与基片表面材料去除非均匀性的实验结果相差较大,只有磨粒在基片表面上的运动轨迹分布非均匀性与基片表面材料去除非均匀性的实验结果趋势相同.研究结果表明,基片表面材料去除非均匀性是由磨粒在基片表面上的运动轨迹分布非均匀性造成的,充分说明了基片表面材料去除的机械作用主要是磨粒的机械作用.
- 苏建修张学铭刘幸龙刘志响张竹青
- 关键词：化学机械抛光材料去除机理材料去除率非均匀性磨粒
- 往复式发动机振动特性建模与分析被引量：2
- 2008年
- 在标定工况下的往复式发动机是一个复杂多变的动态系统。其内部惯性力系中的不平衡力、力矩是引起发动机振动和噪声的主要激励源。单缸发动机对一阶往复惯性力、二阶往复惯性力的稳态响应分别为两个振动方向相同、初相位不同、频率之比为1∶2的倍频谐振动;其合振动是复杂的周期振动。而采用平面对称曲轴的直列四缸发动机的作用力矩的基频等于曲轴回转角速度的一半,整机二阶往复惯性力为单缸机的四倍,其稳态响应是简谐振动。对发动机进行动力学分析,了解其振动特性,并采取适当的减振措施,有助于改善整机的工作性能。
- 付素芳张学铭万秀颖张学良
- 冰箱在线配置客户需求交互系统研究
- 2009年
- 在线产品配置系统是一种基于Web的系统,客户可以利用该系统配置自己需要的产品和服务.分析了配置设计的客户需求交互系统,并对客户需求交互系统的关键技术和实现框架进行了分析和综述.最后,给出了冰箱在线产品配置系统的模拟示例.
- 万秀颖张学铭付素芳刘贯军李明强
- 关键词：大批量定制
- HVLP虹吸式521喷枪设计
- 万秀颖刘贯军张学铭马利杰李勇毛新华李明强连黎明马超高德琴高银浩赵晨萍田峰宁欣张文庆
- 传统高压喷枪在中国的使用时间已有20多年历史了，其风帽空气压力较大，喷涂工件表面时，经雾化后的涂料就会随着急速的压缩空气产生一定的反弹而大大降低了涂料的传递效率(即上漆率)，而且还加大了环境的污染。正是由于传统喷枪的这些...
- 关键词：
- 关键词：喷枪涂料喷涂
- 基于PDM的集成化CAPP系统总体设计被引量：1
- 2005年
- 通过分析CAPP常规功能以及CAPP与PDM的信息关联,建立了基于PDM的集成化CAPP系统的体系结构和功能模型。
- 付素芳胡志刚张学铭
- 关键词：CAPPPDM
- 一种墙立式画板
- 本发明公开了一种墙立式画板，包括面板，所述面板背面设置有支撑轴，支撑轴的另一端连接有固定件，支撑轴可相对固定件做旋转运动。本发明通过将面板通过支撑轴与固定件连接，固定件固定在墙体上，进而将面板固定，因为支撑轴与所述固定件...
- 段卫红李爱英张翔张学铭郁艳红
- 文献传递
