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文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇理学

主题

  • 2篇磁性
  • 2篇磁性薄膜
  • 1篇软磁
  • 1篇软磁薄膜
  • 1篇子层
  • 1篇自旋
  • 1篇自旋重取向
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米晶
  • 1篇溅射
  • 1篇FECO
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控共溅射

机构

  • 3篇兰州大学

作者

  • 3篇孙青锦
  • 2篇李发伸
  • 2篇席力
  • 2篇卢建敏
  • 2篇张喆
  • 2篇周军军
  • 1篇左亚路

传媒

  • 1篇科学通报
  • 1篇功能材料

年份

  • 1篇2011
  • 2篇2010
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
稀土Nd掺杂FeCo纳米磁性薄膜的结构和磁性被引量:4
2010年
利用射频磁控共溅射方法,通过改变Nd靶溅射功率,制备了一系列Ta/Ndx(FeCo)100-x/Ta纳米薄膜。研究了其结构和磁性随Nd含量和真空磁场退火温度(T)的变化关系。X射线衍射研究表明制备态的薄膜为非晶态,随着退火温度的升高,逐渐析出Fe-Co纳米晶,随T的进一步升高,FeCo纳米晶粒逐渐变大,而且在薄膜中生成了FeCoNd合金纳米晶。利用振动样品磁强计研究了纳米薄膜的静态磁性,结果表明,饱和磁化强度随着Nd含量的升高而降低。经真空磁场热处理的样品都表现出很好的面内磁各向异性,在Ta/Nd20(FeCo80)/Ta样品中获得了易轴矫顽力135.32A/m,难轴矫顽力为199A/m,各向异性场为8166.96A/m的优异静态磁性,表明在高频领域具有很好的潜在应用前景。
席力周军军孙青锦卢建敏张喆李发伸
关键词:纳米晶软磁薄膜
FeNiSm薄膜的磁性
软磁材料在电磁设备中应用十分广泛,随着电子设备的高速发展,迫切需要进一步改善磁性材料的高频软磁性质。本文中,我们采用磁控共溅射方法在Si(111)衬底上以Ta为种子层制备了FeNiSm磁性薄膜,通过X射线衍射、台阶仪、扫...
孙青锦
关键词:磁性薄膜自旋重取向
种子层对FeCoNd薄膜的磁性影响研究被引量:1
2010年
采用磁控共溅射方法制备了不同种子层的(Fe10Co90)80Nd20磁性薄膜,研究了种子层对结构和磁性的影响.结果表明,对于相同厚度的薄膜样品,Ta为种子层的样品没有面内各向异性,矫顽力(Hc)达91Oe(1Oe=79.58A/m),表面磁畴为条纹畴结构,具有弱的垂直各向异性;Cu为种子的样品,Hc为30Oe,样品具有面内磁各向异性,各向异性场为60Oe,磁谱测量显示自然共振频率为2.7GHz.对样品进行真空磁场热处理后静态磁测量结果表明,Ta为种子层的样品的磁性及磁畴结构都没有明显变化;Cu为种子层的样品的Hc随退火温度的升高先减小后增大,表面磁畴由制备态的局域条纹畴变为连续的条纹畴结构.
席力周军军孙青锦卢建敏张喆左亚路李发伸
关键词:磁控共溅射磁性薄膜
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