周旭东
- 作品数：13 被引量：21H指数：3
- 供职机构：重庆光电技术研究所更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信理学自动化与计算机技术机械工程更多>>
- 256×256高帧频可见光CCD的研制被引量：1
- 2004年
- 采用三相全帧帧转移结构和常规的CCD工艺,设计并研制了一种高速摄像用256×256元高帧频可见光CCD成像器件。器件光敏元采用MOS结构,尺寸为10μm×10μm,4信号抽头输出,占空比100%。测试结果表明,器件工作波长为0.4～1.1μm,光灵敏度为0.05lx(峰值波长处,积分时间40ms),帧速为500帧/秒,动态范围大于等于54dB,响应非均匀性小于等于2%。
- 邓光华周旭东张坤钟四成
- 关键词：CCD图像传感器高帧频动态范围
- 基于NIOSⅡ的光纤以太网CCD相机系统设计
- 2009年
- 光纤以太网络相机是目前最具前景的相机应用模式之一。设计了基于NIOSⅡ的光纤以太网相机系统,利用FPGA的NIOSⅡ内核对网卡芯片W3150A进行配置及驱动,实现图像采集模块与计算机通过TCP/IP协议实现网络传输数据。该相机系统能在1s之内完成一幅2MByte图像数据的网络传输,在速度上能满足系统的技术要求。文章介绍了系统的实现方案。
- 周旭东杨家鉴
- 自适应曝光时间的面阵CCD相机的研制被引量：2
- 2010年
- 依据CCD探测器的光电线性关系,使用KAI-1020内线CCD探测器,研制了一种自适应曝光时间的面阵CCD相机。设计了以FPGA为核心处理单元的自适应光积分的时序驱动。测试结果表明,所研制的面阵CCD相机具有曝光时间自适应调整功能。
- 杨耀龚婧周旭东张坤李凤苓陈林
- 关键词：现场可编程逻辑器件
- 可见光CCD摄像机高灵敏度设计
- 2006年
- 由于CCD摄像机具有灵敏度高、体积小等特点,其应用领域日益广泛。介绍了一种可见光CCD摄像机的设计,就如何保证高灵敏度和降低噪声进行了探讨。
- 李凤苓周旭东祁琳
- 关键词：可见光CCD摄像机灵敏度
- CCD组件靶面脏斑成因分析及解决方法
- 2010年
- 通过三项试验,找到了CCD摄像机组件靶面脏斑形成的原因。潮湿的自然环境、温度变化和运输振动三个因素促成CCD组件机壳内的水汽吸附灰尘,凝聚到芯片靶面上形成脏斑。提出了解决脏斑问题的具体方法。通过在CCD组件的装配、包装过程中采取针对性措施来保证密封性能,这样就能在存储和运输过程中避开空气中的灰尘、水汽等脏斑源,靶面上就不会因受潮而产生脏斑。采取这些措施后,在后续产品中脏斑问题得到了彻底解决。
- 杨亚生周旭东陈林邓艳红熊明昌郑渝吴琼瑶
- 关键词：CCD
- LiH电子结构与光学性质的密度泛函计算被引量：1
- 2009年
- 采用基于密度泛函理论的平面波超软赝势方法计算了LiH晶体的电子结构和光学性质,给出了电子态密度、介电函数、吸收系数、复数折射率等计算结果,并对计算结果进行了分析。介电函数的虚部、吸收光谱、折射率等的峰值位置存在一一对应关系,这表明它们之间存在着内在的联系,与电子从价带到导带的跃迁吸收有关。
- 雷洁红邢丕峰唐永建周旭东吴卫东杨耀
- 关键词：电子结构光学性质
- 512×512元PtSi肖特基势垒IR CCD图像传感器被引量：4
- 2003年
- 研制了隔行扫描单片式内线转移结构512×512元PtSi肖特基势垒红外电荷耦合器件(CCD)。器件采用最小2μm设计规则,两层多晶硅结构。器件的像元尺寸为36μm(H)×34μm(V),填充系数为40％。器件工作在80K温度下。在阵列帧频为30帧每秒及镜头为 F/1条件下,器件噪声等效温差为0.15K。用1000K黑体测得其探测率D~*为1×10^(10)cm·Hz^(1/2)/W。对器件设计及性能测试结果进行了介绍。
- 熊平周旭东邓光华李作金王颖李华高袁礼华蒋志伟
- 关键词：PTSICCD图像传感器
- 一种多功能数字可见光CCD相机的设计
- 2007年
- 介绍了一种多功能数字可见光CCD相机的整体设计过程,并给出了原理框图,详细说明了相机的外同步、电子快门、自动增益、疵点探测和补偿,以及伽玛校正等功能。
- 邓艳红肖邦富乔建社周旭东
- 关键词：CCD相机可见光数字化
- CCD相机的锁相设计被引量：3
- 2006年
- 介绍了锁相环的基本原理和工作过程,利用CXD2463R的外同步功能,运用分解设计的思想设计CCD相机的锁相环,给出CCD相机的锁相环原理图。叙述了有源低通滤波和压控晶体振荡器工作原理,提出了降低CCD相机锁相环噪声的一些措施。
- 乔建社周旭东
- 关键词：CCD相机锁相环
- 磁控溅射不同厚度铝薄膜的微结构及其表面形貌被引量：6
- 2010年
- 用直流磁控溅射法在室温的Si(100)基底上制备了21～55nm范围内不同厚度的铝膜,并用X射线衍射和扫描电镜对薄膜的结构和表面形貌进行了表征。分析结果表明:制备的铝薄膜呈多晶状态,晶粒择优取向为(111),随着膜厚的增加,Al(100)衍射峰宽变窄,薄膜的平均晶粒尺寸逐渐增大,晶面间距逐渐减小,薄膜中的残余应力减小。膜厚为55nm时,Al膜均匀致密。
- 雷洁红段浩邢丕峰周旭东杨耀
- 关键词：直流磁控溅射铝膜微结构表面形貌
