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刘韶华

作品数：3 被引量：7H指数：2
供职机构：大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术动力工程及工程热物理电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇动力工程及工...
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇热丝
  • 3篇热丝化学气相...
  • 3篇化学气相
  • 3篇化学气相沉积
  • 3篇硅薄膜
  • 2篇多晶
  • 2篇多晶硅
  • 2篇多晶硅薄膜
  • 1篇带隙
  • 1篇导体
  • 1篇微晶硅
  • 1篇微晶硅薄膜
  • 1篇无机非金属
  • 1篇无机非金属材...
  • 1篇光学
  • 1篇光学带隙
  • 1篇非金属材料
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体薄膜

机构

  • 3篇大连理工大学
  • 1篇大连民族学院

作者

  • 3篇刘韶华
  • 2篇刘艳红
  • 1篇刘爱民
  • 1篇刘东平
  • 1篇吕博嘉
  • 1篇马腾才
  • 1篇温小琼
  • 1篇吕博佳

传媒

  • 1篇真空
  • 1篇电子元件与材...

年份

  • 1篇2008
  • 2篇2006
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
热丝化学气相沉积制备多晶硅薄膜的研究被引量：5
2006年
采用热丝化学气相沉积技术制备了多晶硅薄膜。利用Raman、XRD、SEM等检测手段，系统研究了沉积气压、衬底温度、衬底与热丝间距离、衬底种类等实验参数对多晶硅薄膜晶态比、晶面择优取向、晶粒尺寸的影响。得出优化条件：沉积气压42Pa，衬底温度250℃，衬底与热丝间距离48mm，在玻璃衬底上制备出晶态比Xc〉90％，择优取向为（111），横向晶粒尺寸为200～500nm，纵向晶粒尺寸为30nm左右的优质多晶硅薄膜。
刘韶华刘艳红吕博佳温小琼
关键词：无机非金属材料热丝化学气相沉积多晶硅薄膜
热丝CVD制备微晶硅薄膜的研究被引量：2
2008年
采用热丝化学气相沉积技术制备微晶硅薄膜,利用X射线衍射谱、Raman散射谱、透射光谱和扫描电子显微镜等检测手段,系统地研究沉积过程中沉积气压对微晶硅薄膜晶粒尺寸、晶态比和光学带隙的影响,运用Tacu法则对薄膜的透射率和厚度进行计算分析,得到薄膜光学带隙与沉积气压之间的关系,结果表明薄膜的光学带隙随着沉积气压的升高而单调下降。
吕博嘉刘艳红刘东平刘爱民刘韶华马腾才
关键词：热丝化学气相沉积微晶硅薄膜光学带隙
热丝化学气相沉积制备多晶硅薄膜的研究
多晶硅薄膜在薄膜太阳电池和薄膜晶体管等大面积电子学方面具有明确的应用前景。由于具有高速沉积、气体利用率高和易晶化等特点，采用HWCVD技术制备大面积、优质多晶硅薄膜是当今研究热点之一。 本论文主要内容是热丝化学...
刘韶华
关键词：热丝化学气相沉积多晶硅薄膜半导体薄膜
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