虞益挺
- 作品数：99 被引量：169H指数：8
- 供职机构：西北工业大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金教育部“新世纪优秀人才支持计划”西安应用材料创新基金更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程自动化与计算机技术理学更多>>
- 含大规模端口的MEMS宏模型提取及角度参数化
- 2010年
- 针对含大规模输入输出端口的MEMS结构,提出分块叠加Arnoldi方法提取其宏模型,针对MEMS器件中广泛存在几何形状相同而初始方位不同的结构,采用矩阵坐标变换实现宏模型的角度参数化,解决宏模型的重复提取问题。最后,结合一种微型可编程光栅的设计验证了宏模型的效率与精度,与有限元仿真结果进行比较,基于宏模型的MEMS器件系统级仿真结果相对误差小于2%,时域仿真速度提高了45倍。
- 徐景辉苑伟政常洪龙虞益挺马炳和
- 关键词：微机电系统宏模型叠加法系统级仿真
- 一种电磁驱动式微机械可调谐珐珀滤波器及其制作方法
- 本发明公开了一种电磁驱动式微机械可调谐珐珀滤波器及其制作方法，属于智能光功能器件领域，主要涉及印刷电路板技术、微加工技术、干涉滤波技术以及电磁驱动技术等。该可调谐珐珀滤波器，主要包括可动镜面支撑4、固定镜面支撑2、第一反...
- 虞益挺朱全发苑伟政
- 文献传递
- 牺牲层刻蚀实验的在线观察与研究被引量：2
- 2007年
- 设计了多种测试结构,采用在线实时观测的手段,深入研究了氢氟酸(HF)刻蚀二氧化硅牺牲层中,多种因素对刻蚀过程产生的影响,并对实验结果进行了详细分析.实验中可以明显观察到刻蚀过程中的反应限制阶段与扩散限制阶段,说明经过长时间的刻蚀,HF酸的扩散效应将成为影响刻蚀速率的主导因素.对于实验过程中观察到的"凹"状的刻蚀前端和"晕纹"现象,分析认为结构中的应力梯度以及材料间不同的亲水性质是产生这些现象的主要原因.实验方法与结论对MEMS牺牲层释放工艺的研究具有一定的参考意义.
- 梁庆苑伟政虞益挺乔大勇
- 关键词：微机电系统牺牲层刻蚀速率
- MEMS微变形镜设计及其薄膜残余应力控制研究
- 基于MEMS技术的微变形镜以其体积小、成本及功耗低、驱动电压小、响应速度快、性能稳定等显著优点在自适应光学领域具有广阔的应用前景。而采用表面工艺制作的静电驱动分立活塞式微变形镜又具有控制简单、集成度高、易于实现批量生产等...
- 虞益挺
- 关键词：自适应光学微机电系统微变形镜
- 文献传递
- 微旋转结构在薄膜应力测量中的应用
- 2005年
- 利用有限元仿真方法,研究了微旋转结构几何参数对结构应变响应的影响.结果表明,固定梁与旋转梁的长度以及这两种梁连接部分的宽度和连接中心距都对结构的应变响应具有较显著的影响,而梁的宽度及连接部分的长度对应变响应的影响可忽略,因此,需要综合考虑以达到结构的优化设计.给出了一组旋转结构的设计参数.
- 虞益挺苑伟政乔大勇
- 关键词：微机电系统残余应力
- 无线电脑控制笔
- 本实用新型公开了一种无线电脑控制笔，包括演示笔和无线数据接收装置。演示笔感测使用者手持演示笔移动时装置的运动加速度，并对加速度数据进行预处理，同时根据多个功能按键的不同状态来实现不同的功能，最后将数据通过射频发送模块发送...
- 毛尧辉梁庆谢志雄虞益挺苑伟政何洋
- 文献传递
- 薄膜残余应力对MEMS微型光栅性能的影响
- 2007年
- 微型光栅结构薄膜中由于残余应力的存在引起器件在光学和机械性能方面发生显著变化.有限元仿真和分析结果表明,膜内的残余拉应力越大,越利于提高和改善器件工作过程中的光学效率.然而,残余拉应力的增加将显著增大结构工作时的驱动电压,使驱动电路的设计与制作更加复杂;同时,还将导致结构的最大工作位移明显减小,极大限制了光栅的应用领域.另外,残余拉应力的增加也会使结构的共振频率变大,从而影响器件的工作带宽.因此,为了使光栅的使用和工作性能满足设计指标要求,在设计当中就要充分并折中考虑残余应力对各个性能参数的影响,并且在随后的加工和制作过程中对其进行严格控制.
- 虞益挺苑伟政梁庆乔大勇
- 关键词：残余应力有限元仿真
- 像素级光学滤波-探测集成器件的研究进展被引量：10
- 2019年
- 传统光谱成像系统采用探测器与传统分光元件耦合的方式,体积较大、定制化能力不足。微/纳光机电系统的快速发展,为微型化光谱成像系统提供了解决途径。基于表面等离激元学和光学超表面的微纳滤波结构,可实现像素级的光场调控,有望替代传统滤波器件并具有与成像系统片上集成的潜力。近年来,集成了动态或静态滤波结构的光谱成像微系统已崭露头角,逐渐构建起全新的光谱成像方法,但在原理机制、器件性能、制造成本、集成装配工艺等方面还有许多需要攻克的难题。本文综述了国内外在像素级微纳滤波结构、滤波和成像器件的集成制造和装配等方面的研究进展,梳理了光学滤波-探测集成器件的发展脉络,探讨了其局限性并展望了发展趋势。
- 余晓畅赵建村虞益挺
- 关键词：集成光学器件
- 表面等离子体透镜的批量化制备方法
- 本发明公开了一种新的表面等离子体透镜的批量化制备方法，属于微/纳光子器件领域。该方法首先在基底旋涂纳米球排列形成的单层自组装结构；对纳米球的直径进行调整后，淀积第一层金属薄膜，去除基底上的纳米球及金属薄膜后，得到完全由纳...
- 虞益挺苑伟政
- 文献传递
- 带仿耳式封装结构的光纤珐珀声波传感器及其制作方法
- 本发明涉及一种带仿耳式封装结构的光纤珐珀声波传感器及其制作方法，该传感器包括仿耳式封装壳、敏感膜片、反射层、单模光纤和套筒，所述的仿耳式封装壳包括耳廓结构和耳道结构，所述的耳廓结构通过耳道结构与敏感膜片连接，所述的单模光...
- 司文荣虞益挺王谢君李浩勇傅晨钊鞠登峰吴旭涛张琪祁陆启宇宋平黄兴德周秀李秀广药炜梁基重何宁辉马飞越倪辉陈川郭经红袁鹏
- 文献传递
