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纠智先

作品数:10 被引量:22H指数:2
供职机构:武汉工业学院数理科学系更多>>
发文基金:教育部科学技术研究重点项目更多>>
相关领域:理学电子电信机械工程文化科学更多>>

文献类型

  • 7篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 9篇理学
  • 2篇电子电信
  • 1篇机械工程
  • 1篇文化科学

主题

  • 6篇脉冲激光
  • 6篇脉冲激光沉积
  • 4篇ZNS薄膜
  • 3篇等离子体
  • 3篇场发射
  • 2篇射频
  • 2篇冷阴极
  • 2篇非晶
  • 2篇非晶碳
  • 2篇FED
  • 2篇ZNS
  • 1篇等离子体化学...
  • 1篇镀膜
  • 1篇演示实验教学
  • 1篇荧光薄膜
  • 1篇照像
  • 1篇实验教学
  • 1篇数码
  • 1篇数码相机
  • 1篇碳化钼

机构

  • 6篇武汉工业学院
  • 4篇郑州大学

作者

  • 10篇纠智先
  • 3篇张兵临
  • 3篇李强
  • 3篇姚宁
  • 2篇袁泽明
  • 2篇王朝勇
  • 2篇邓记才
  • 1篇徐滔滔
  • 1篇江建平
  • 1篇李玉华
  • 1篇孙向阳
  • 1篇赵斌

传媒

  • 5篇武汉工业学院...
  • 1篇激光技术
  • 1篇微纳电子技术
  • 1篇第八届全国高...

年份

  • 1篇2011
  • 2篇2008
  • 2篇2007
  • 2篇2006
  • 2篇2005
  • 1篇2004
10 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
显微镜放大照像识别微小长度被引量:2
2011年
通过显微镜将物体待测量进行充分放大,由数码相机对清晰的成像进行拍照。利用光栅作为显微镜下的测量标尺,其光栅常数为1.667μm,同样拍摄照片。将拍摄的图像输入计算机内,利用画图工具将其无损打开,可以获得标尺每单位所占的像素点数和物体待测量长度所占的像素点数,将后者与前者相比较,由此得到物体待测量的长度。该实验装置具有快速灵活、无接触式测量、适用面广、实时获取和分析数据、省力方便、不易出错等优点,并且造价较低,便于推广。
纠智先赵斌徐滔滔
关键词:显微镜数码相机光栅
ZnS薄膜脉冲激光沉积及其发光特性被引量:11
2004年
综述了ZnS的发光机制 ,脉冲激光沉积 (PLD)制备薄膜的原理、特点 ,分析了在用PLD制备ZnS过程中各主要沉积条件对成膜质量的影响 ,展望了ZnS薄膜的应用前景。
纠智先张兵临姚宁
关键词:脉冲激光沉积ZNS薄膜等离子体纳米材料
关于物理演示实验教学的初步探讨
本文对物理演示实验教学的必要性和重要性进行了初步的研究探讨,并对物理演示实验课及其选修课提出了自己的感悟.
纠智先李玉华江建平孙向阳
关键词:物理教学实验教学
文献传递
非晶碳/Mo_2C混合膜冷阴极FED发光显示
2006年
对Al2O3陶瓷衬底进行粒度为W20的金刚砂机械抛光,采用磁控溅射方法镀过渡层Mo,对其表面进行Nd∶YAG激光刻蚀处理。最后在微波等离子体增强化学汽相沉积(MPCVD)反应腔中在一定条件下沉积了薄膜,反应气体为CH4和H2。从样品的Raman谱可以看出薄膜有非晶碳成分。样品XRD谱线中有比较明显的晶态Mo2C衍射峰。所制备的样品为非晶碳/Mo2C混合结构薄膜。在高真空室中测量了样品的场发射特性,其开启场强为0.55V/μm,在1.8V/μm电场下测得样品的场发射电流密度为6.8mA/cm2。由样品CCD照片观察其发射特性可以看出,样品发射点密度随场强的增大而增加,发射点比较均匀。同时计算样品在2.2V/μm场强下样品发射点密度大于103/cm2。实验表明该薄膜是一种好的场致电子发射体。
王朝勇姚宁张兵临纠智先邓记才袁泽明
关键词:场发射非晶碳碳化钼
退火处理对脉冲激光沉积制备ZnS薄膜的影响被引量:1
2008年
利用射频辅助脉冲激光沉积技术,研究了退火处理对制备ZnS薄膜的影响。利用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对制备样品的结构、形貌特性进行了表征。结果表明:退火处理更有利于ZnS薄膜的发光。
纠智先李强孙金战
关键词:脉冲激光沉积ZNS薄膜退火
脉冲激光能量密度对ZnS薄膜的影响
2007年
采用YAG固体激光器(1064nm)和XeCl(308nm)准分子激光器,利用脉冲激光沉积技术,研究了不同的脉冲激光能量密度和不同波长的激光器对制备的ZnS薄膜的影响。利用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对制备样品的结构、形貌特性进行了表征。结果表明:脉冲激光能量密度过高会使薄膜质量变坏;XeCl激光器制备的薄膜质量更好。
纠智先
关键词:脉冲激光沉积ZNS等离子体
射频辅助脉冲激光沉积镀膜技术的特点被引量:2
2006年
介绍了脉冲激光沉积(PLD)制备薄膜的原理,讨论了射频辅助脉冲激光沉积镀膜技术的特点,通过分析比较证实了射频辅助脉冲激光沉积比无射频辅助脉冲激光沉积具有更突出的优点。
纠智先李强
关键词:脉冲激光沉积射频等离子体
非晶碳Mo2C混合膜冷阴极FED发光显示
对Al2O3陶瓷衬底进行粒度为W20的金刚砂机械抛光,采用磁控溅射方法镀过渡层Mo,对其表面进行Nd∶YAG刻蚀处理,形成2条/mm的图形。最后在微波等离子体增强化学气相沉积(MPCVD)反应腔中在一定条件下沉积了薄膜,...
王朝勇姚宁张兵临纠智先邓记才袁泽明
关键词:场发射微波等离子体化学气相沉积非晶碳
文献传递
沉积温度对制备ZnS薄膜的影响被引量:6
2008年
采用YAG固体激光器(1064nm)和XeCl(308nm)准分子激光器,利用射频辅助脉冲激光沉积技术,研究了在不同沉积温度下对制备ZnS薄膜的影响。利用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对制备样品的结构、形貌特性进行了表征。结果表明:沉积温度和射频辅助密切相关,射频辅助更有利于低温下制膜。
纠智先李强
关键词:脉冲激光沉积ZNS薄膜沉积温度射频
ZnS荧光薄膜的脉冲激光沉积及其特性研究
本论文从优化场发射平板显示阳极荧光层的角度出发,采用YAG固体激光器(1064nm)和XeCl(308nm)准分子激光器,利用射频辅助脉冲激光沉积技术,通过改变脉冲激光能量密度、射频辅助及环境气压、沉积温度、基体-靶距、...
纠智先
关键词:硫化锌脉冲激光沉积荧光薄膜场发射平板显示器
文献传递
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