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王国雄

作品数:36 被引量:67H指数:5
供职机构:浙江大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划浙江省科技厅软科学研究计划项目更多>>
相关领域:电子电信经济管理自动化与计算机技术文化科学更多>>

文献类型

  • 20篇期刊文章
  • 11篇专利
  • 1篇学位论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 14篇电子电信
  • 2篇经济管理
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇化学工程
  • 1篇轻工技术与工...
  • 1篇交通运输工程
  • 1篇文化科学
  • 1篇理学

主题

  • 15篇光刻
  • 10篇电路
  • 10篇集成电路
  • 8篇光学邻近校正
  • 5篇光刻仿真
  • 5篇光刻模拟
  • 5篇硅表面
  • 4篇电路设计
  • 4篇可制造性
  • 4篇集成电路设计
  • 3篇低功耗
  • 3篇亚微米
  • 3篇深亚微米
  • 3篇总线
  • 3篇微米
  • 3篇卷积
  • 3篇卷积核
  • 3篇功耗
  • 3篇分子
  • 3篇分子筛

机构

  • 32篇浙江大学
  • 3篇鞍山钢铁学院
  • 3篇华东地质学院
  • 2篇浙江大学城市...
  • 2篇中南大学
  • 1篇鞍山科技大学
  • 1篇东华理工大学
  • 1篇湖南第一师范...

作者

  • 33篇王国雄
  • 14篇严晓浪
  • 13篇史峥
  • 8篇陈志锦
  • 4篇付萍
  • 4篇陈晔
  • 4篇葛海通
  • 3篇沈海斌
  • 2篇王亮
  • 2篇高根生
  • 2篇马玥
  • 2篇肖丰收
  • 1篇武传胜
  • 1篇胡承敏
  • 1篇陈超
  • 1篇李宁
  • 1篇阳彩
  • 1篇沈珊瑚
  • 1篇张倩
  • 1篇金文光

传媒

  • 3篇半导体技术
  • 3篇Journa...
  • 3篇浙江大学学报...
  • 2篇微电子学
  • 1篇起重运输机械
  • 1篇今日科技
  • 1篇机电工程
  • 1篇基础自动化
  • 1篇计算机辅助设...
  • 1篇研究与发展管...
  • 1篇电路与系统学...
  • 1篇电子器件
  • 1篇科教文汇

年份

  • 1篇2019
  • 2篇2018
  • 1篇2017
  • 1篇2016
  • 1篇2014
  • 1篇2010
  • 2篇2009
  • 1篇2008
  • 6篇2007
  • 6篇2006
  • 3篇2005
  • 1篇2004
  • 3篇2003
  • 3篇2002
  • 1篇1998
36 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种低存储需求的二维DWT VLSI结构设计方法被引量:2
2007年
为了减少基于提升的二维离散小波变换(DWT)VLSI结构设计中的片内存储需求,采用了一种新颖的调度方法,通过读取少量数据进行行滤波操作,并实现和列滤波的并行处理,有效地减少了片内存储容量。此外,行滤波和列滤波变换内部结构采用流水线设计方法,加快了运算速度,提高了硬件资源利用率,减小了电路的规模,并且这种基于提升的9/7离散小波变换二维结构很方便兼容5/3滤波器。经过Verilog HDL仿真验证,结果表明,在50MHz系统时钟下,采用9/7滤波器经3级分解,每秒钟可处理21帧大小为1280×1024×8bit的灰白图像。
金文光王国雄杨崇朋
关键词:离散小波变换VLSI
一种基于卷积核用于光刻模拟的计算稀疏空间点光强的方法(英文)被引量:3
2003年
光学邻近校正 (OPC)系统要求一种精确、快速的方法来预测掩模图形转移到硅圆片的成像结果 .基于 Gabor的“降解为主波”方法 ,一个部分相干成像系统可以用相干成像系统的叠加来近似 ,并用高斯过滤器来模拟光刻胶横向扩散和一些掩模工艺效应 ,由此提出了一种基于卷积核的精确、快速地用于光刻模拟的稀疏空间点光强计算方法 .这种模型的简单性从本质上给计算和分析带来了好处 .
史峥王国雄严晓浪陈志锦高根生
关键词:光刻仿真光学邻近校正卷积核半导体
亚波长设计中的可制造性验证方法(英文)
2006年
描述了一种采用分辨率提高技术后用于可制造性设计的验证方法.该方法的目的是验证设计功能与设计目的是否一致,更精确地说,使刻印出来的图像与设计一致.还描述了这种基于模型的验证方法的过程建模,实例说明这种方法的性能.
王国雄严晓浪
关键词:光学邻近校正
一种抗烧结负载型Pd基催化材料的制备方法
本发明涉及催化材料制备技术,旨在提供一种抗烧结负载型Pd基催化材料的制备方法。包括步骤:将钯前驱体溶解在极性溶剂中,然后添加作为载体的介孔沸石分子筛,在搅拌和0~150℃条件下回流反应6~100小时,使氧化还原后形成的P...
王亮王国雄肖丰收
文献传递
面向区域发展的协同创新中心布局思考被引量:2
2016年
建设面向区域发展的协同创新中心是"2011计划"的重要组成部分。面向区域发展的协同创新中心以"政府主导、区域急需、创新引领、影响突出"为建设宗旨,以推进区域经济建设和区域社会发展为优先重点领域。高校是区域协同创新的主体,既是新技术的供给者,又是产业发展的催化剂,同时在合作中促进自身科研的发展和高等教育水平的提升。本文依据《国民经济和社会发展第十二个五年规划纲要》和地方、区域"十二五"重点发展规划以及《2011协同创新中心建设发展规划》等,结合区域高校的优势和特色,对面向区域发展的协同创新中心布局进行思考和探讨,并对教育部认定的两个面向区域发展的协同创新中心进行了案例分析。
严智宇刘芳王国雄
关键词:协同创新
用于光刻模拟的快速计算稀疏空间点光强的方法被引量:1
2003年
使用光刻仿真工具模拟掩模图形到硅圆片的转移成像结果 ,可以分析集成电路在工艺规则下产品的可靠性和部分电学特性 基于Gabor的“主波分解”方法 ,一个部分相干成像系统可以用相干成像系统的叠加来近似 ,再对空间图像进行高斯卷积来模拟光刻胶的实际扩散效应 ,从而获得一种精确、快速用于光刻模拟的稀疏空间点光强计算方法 根据光学系统的传输交叉系数的特性 。
王国雄史峥严晓浪陈志锦高根生熊军
关键词:光刻仿真集成电路可靠性电学特性矩阵分解
一种高稳定性Pd基分子筛催化剂的制备及其性能研究
贵金属负载型纳米催化剂以其优异的催化性能,广受科研工作者的喜爱,但是在实际工业应用中,催化剂的使用条件往往十分严苛,需要高温高压等条件,这对催化剂的稳定性提出了巨大的挑战,如何在高温条件下保证贵金属纳米粒子不因团聚而失活...
王国雄
关键词:合成工艺高温稳定性
深亚微米下芯片电源网络的设计和验证被引量:2
2006年
随着芯片集成度的逐渐提高,芯片单位面积所消耗的功耗也越来越大,因此,可靠的电源网络设计和验证已成为芯片设计成败的关键因素之一。在以往,集成电路(IC)设计工程师往往根据经验来设计电源网络,但工艺到0.18μm,这往往会引起芯片功能失效。根据这个问题,本文首先介绍电压降(IR-Drop)和电子迁移率(Electro-migration)现象和对芯片性能的影响;其次,提出一种有效的电源网络设计和验证方法,并在芯片的物理设计初期对电源网络作可靠性估计;最后,经过椭圆曲线加密芯片(ECC&RSA)的流片,表明采用该方法设计的芯片,工作情况良好。
樊俊峰王国雄沈海斌楼久怀
关键词:电源网络电压降电子迁移率
一种基于密集采样成像算法的光刻制造模拟方法
本发明公开的基于密集采样成像算法的光刻制造模拟方法,包括重建TCC,频域扩展和利用特性加速计算的步骤,提出了基于密集采样成像算法的光刻制造模拟的计算流程,并采用了全新的加速算法,能够快速计算和预测在集成电路光刻制造过程中...
严晓浪史峥王国雄陈晔
文献传递
协同创新中心绩效评价研究:案例分析与逻辑框架被引量:14
2014年
协同创新中心绩效评价是"高等学校创新能力提升计划"实施的重要环节,也是协同创新中心机制体制改革的重要内容.本文研究了协同创新中心绩效评价学术评价和政府公共项目绩效评价的双重属性,选择美国联邦科研机构绩效评价和中国科学院科技评价改革进行案例研究,在此基础上构建了协同创新中心绩效评价整体逻辑框架,并提出了绩效评价的具体措施.
刘芳王炳富王国雄
关键词:协同创新绩效评价
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