王丽
- 作品数：39 被引量：78H指数：5
- 供职机构：长春理工大学光电工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中国人民解放军总装备部预研基金国家教育部博士点基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程一般工业技术更多>>
- 红外遥感器网状微结构制作工艺
- 2015年
- 为了满足航天红外遥感器光学元件透过率高、散热性好的要求,提出一种具有波长选择特性的网状微结构。采用等效介质理论、数学建模理论方法设计网状微结构特征参数,并通过Matlab软件辅助模拟微结构表面光谱辐射特性。运用离子刻蚀机制备网状微结构,通过扫描电子显微镜测量微结构表面形貌,并进行分析。根据结果判断反应气体流量、射频电源功率、反应腔内压强三个工艺参数对微结构形貌及微结构侧壁陡直度具有很大影响,以及确定最佳工艺参数组合。实验结果表明:在最佳工艺参数组合下制备的网状微结构,10.6μm工作波长下透射衍射效率大于91.5%,基本满足红外遥感器对网状微结构光学特性的要求。
- 吴博琦董连和孙艳军冷雁冰王丽
- 高校学生干部培养问题研究
- 目前高等学校各年级各类学生干部人数约占在校学生总数的四分之一。这些学生干部绝大多数学习努力刻苦，成绩优秀，思想品德素质高，综合素质好，在同学中有较高的影响力和威信，是高校学生的精英和模范先进的代表。加强对这部分人的教育培...
- 王丽
- 关键词：学生干部
- 文献传递
- 蒸发速率对电子束蒸发法制备CdS薄膜性质影响被引量：1
- 2015年
- 采用电子束蒸发法,以高纯Cd S块料为膜料在玻璃基底上制备了Cd S薄膜。利用X射线衍射仪和原子力显微镜表征其晶体结构和表面形貌,用四探针电阻测试仪和紫外可见分光光度计分析其电学及光学特性。结果表明,蒸发速率对薄膜结构及特性有显著影响,其中在蒸发速率为10?S-1制备的Cd S薄膜均匀致密且其XRD衍射峰强度最大,薄膜的光电性能最好。这些Cd S薄膜的光敏性达到7.7×102,其中亮电阻的最小值为1350Ω/□。
- 陈哲董连和王丽孙艳军冷雁冰
- 关键词：CD电子束蒸发法光电性能
- 利用截头圆锥形仿生蛾眼结构提高LED光提取效率被引量：9
- 2018年
- 为提高发光二极管(LED)光提取效率,根据等效介质理论在LED钝化层(SiNx)表面设计并制作了一种截头圆锥形微结构阵列。通过模拟重点分析了微结构的底面占空比、底面直径、高度和倾角对提高LED光提取效率的影响,得出微结构的底面占空比为0.55、底面半径为220nm、高度为245nm、侧面倾角为70°时器件的光提取效率最优,是无表面微结构器件的4.85倍。采用纳米球刻蚀技术在LED钝化层表面制备该亚波长纳米结构,并与无表面微结构的LED芯片进行电致发光对比测试。结果表明,制作有微结构的样品在20 mA和150 mA工作电流下的发光效率是无微结构参考样品的4.41倍和4.36倍,计算结果与实验结果比较一致,说明在LED钝化层制作该结构可有效提高光提取效率。
- 刘顺瑞王丽孙艳军王君王越吴天祺冷雁冰董连和
- 关键词：光学设计发光二极管纳米球光提取效率电致发光
- 非球面技术在浸没式光刻照明系统中的应用被引量：4
- 2017年
- NA1.35浸没式光刻照明系统是超大规模集成电路的核心设备,为了实现从Ar F激光器发出的光束经过一系列模块传输后到达掩模面的能量满足光刻曝光系统的要求,需要在系统中引入非球面透镜,以减少镜片数量,提高能量利用率。为解决现在非球面透镜具有的加工难度和控制精度不足的缺陷,设计出一种优化控制保证非球面加工和检测的方法。在光学系统设计中优化非球面的形状,保证非球面度,满足非球面变化率在可加工和检测的范围内,并控制非球面拐点的产生。照明系统中镜片数量最多的模块是耦合镜组,通过非球面的优化,镜片数量从12片减少到9片,系统能量利用率提高近25%。此外,提高了系统像质NA一致性,像方远心度,弥散斑直径和畸变,满足了曝光光学系统对掩模面的能量要求,故该非球面控制技术具有良好的可加工性和可检测性。
- 李美萱王丽董连和赵迎
- 关键词：浸没式光刻照明系统非球面优化控制
- 激光直写变剂量曝光制作菲涅尔透镜研究
- 2015年
- 本文利用极坐标激光直写系统，采用变剂量曝光的方法实现了在折射率n=1．512的K9玻璃上制作一焦距为f=100mm，齿高为0．79um，环带半径分别为284．6um、402．5um、493．0um、569．2um、636．4um的菲涅尔透镜，证实了利用光学玻璃制作菲涅耳透镜的可行性及实用性。
- 王丽
- 关键词：菲涅耳透镜
- 光刻照明系统中复眼透镜的设计及公差分析被引量：5
- 2017年
- 在超大规模集成电路中,为了实现NA=1.35,波长193 nm处分辨率达到45 nm的目标,需要对影响光刻照明均匀性的误差源进行详细分析最终确定公差范围。复眼透镜是使光束在系统掩膜面上形成矩形均匀照明区域的关键元件。采用CODE V软件设计了复眼透镜对引起照明不均匀性的因素进行分析,结合复眼透镜组的设计方案和实际加工能力,给出X和Y向复眼曲率公差为±10%,后组曲率公差为±5%,前后组间隔公差为±50μm,位置精度偏心公差为±1μm,装配精度公差为±3μm。制定公差合理、可行,满足了浸没式光刻照明系统高均匀性、高能量利用率的要求。
- 李美萱王美娇王丽冷雁冰董连和
- 关键词：浸没式光刻分辨率光学设计公差分析
- 193nm准分子激光器激光整形微透镜阵列压缩模塑成型工艺参数研究
- 2016年
- 为了实现193 nm准分子激光器激光整形及均匀化,制作一种微透镜阵列光学元件。本文采用L_93~3多因子正交方法进行实验,获得3因子3水平下压缩模塑成型的微透镜阵列。通过Taylor Hobson轮廓仪测量微透镜阵列形状误差,并采用极差分析方法分析模具温度、保压压力、冷却时间3种工艺参数对形状误差的影响程度,确定微透镜阵列光学元件的最优工艺参数组合。结果表明：当模具温度为230℃,保压压力为120 MPa,冷却时间为30 s时,微透镜的形状误差最好,值为0.5276μm,满足193 nm准分子激光器激光整形及均匀化对微透镜阵列形状误差小、精度高等要求。
- 吴博琦董连和孙艳军冷雁冰王丽
- 关键词：微透镜阵列
- 一种激光加热微纳光子学器件模压加工装置及方法
- 本发明涉及一种激光加热微纳光子学器件模压加工装置及系统。该方法包括：利用镀膜工艺在透明衬底上镀待加工材料薄膜，形成带有待加工材料薄膜的透明衬底；将带有待加工材料薄膜的透明衬底置于透明基底上；将微纳结构模具置于待加工材料薄...
- 周见红周姚赵建行曹英浩王丽孙艳军孟颖闫钰峰景文博
- 文献传递
- 激光直写光刻质量控制
- 激光直写光刻属于无掩模光刻的一种，是当今制作衍射光学元件的关键技术之一。为进一步促进激光直写光刻技术的发展，提高衍射光学元件的制作质量，本文针对激光直写光刻质量控制的理论与工艺进行了研究。 论文主要通过以下几个方面进行...
- 王丽
- 文献传递
