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沈峰
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4
被引量:7
H指数:2
供职机构:
武汉理工大学
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相关领域:
电气工程
一般工业技术
理学
电子电信
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合作作者
赵修建
武汉理工大学材料科学与工程学院...
夏冬林
武汉理工大学材料科学与工程学院...
李蔚
武汉理工大学材料科学与工程学院...
周学东
武汉理工大学
倪佳苗
武汉理工大学
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CuIn1-xGaxSe2太阳能电池薄膜电沉积制备与性能研究
Cu(In,Ga)Se2(CIGS)薄膜太阳能电池由于具有高的光电转换效率、低的制造成本以及稳定的光电性能而成为国际光伏界研究的热点.采用Mo/钠钙玻璃衬底为研究电极,饱和甘汞电极(SCE)为参比电极,铂网电极为辅助电极...
夏冬林
沈峰
李坤
赵修建
关键词:
电沉积
太阳能电池
电学性能
文献传递
PECVD法制备P型非晶硅薄膜及多晶硅薄膜
硅薄膜太阳能电池相对于单晶硅和多晶硅太阳能电池而言,具有所消耗硅材料少,成本低的特点,尤其是廉价衬底的引入,使硅基薄膜太阳能电池在成本控制方面具有更强的市场竞争力。非晶硅薄膜太阳能电池是目前光伏市场研究热点,多晶硅薄膜以...
沈峰
关键词:
多晶硅薄膜
等离子增强化学气相沉积
光电性能
文献传递
沉积功率对多晶硅薄膜结构和光学性质的影响
被引量:3
2007年
采用等离子体化学汽相沉积(PECVD)方法在普通玻璃衬底上制备出多晶硅薄膜。研究了在不同沉积功率下的薄膜的沉积速率、晶相结构、吸收系数和光学禁带宽度。实验结果表明,沉积功率为140W时薄膜沉积速率最大,达到7.8nm/min。沉积功率为30W多晶硅薄膜的晶粒较大,平均尺寸200nm左右。沉积功率为100W薄膜有较高结晶度,晶化率达到68%。薄膜样品在波长为500nm的光吸收系数达到6×10^4cm^-1,在不同功率下样品的光学禁带宽度在1.70—1.85eV之间变化。
沈峰
夏冬林
李蔚
赵修建
关键词:
多晶硅薄膜
沉积速率
光学带隙
硅薄膜太阳能电池的关键制备技术
赵修建
夏冬林
赵青南
韩建军
周学东
杨晟
郝江波
沈峰
李蔚
王慧芳
倪佳苗
潘震
该课题属武汉市科技攻关项目。该项目是针对中国面临的能源危机和环境保护的热门研究领域,深入研究在普通平板玻璃上制备a-Si、poly-Si薄膜太阳能电池。该项目的研究对发展新的环境协调型材料和生态建筑材料、保护环境和实现可...
关键词:
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建筑材料
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