汤庭鳌
- 作品数：87 被引量：184H指数：8
- 供职机构：复旦大学更多>>
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- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术理学电气工程更多>>
- 双离子注入短沟道MOS FET的阈值电压解析模型
- 1989年
- 本文对短沟道MOSFET沟道区的硼、砷离子注入分布采用二次函数及指数函数的分段函数分布近似,并利用格林函数法求解二维泊松方程,从而导出非均匀分布短沟道MOS FET的表面势和阈值电压的解析模型.它计及注入能量、剂量、退火温度、退火时间等工艺参数的影响,也包含了漏极电压V_D和栅氧化层厚度等因素的影响.本解析模型的结果与用MINI-MOS数值模拟的结果符合得很好,具有简单、实用的特点.适用于改进有关电路分析程序例如SPICE中的模型.
- 汤庭鳌陈登元Carlos Araujo
- 关键词：泊松方程解析解
- 工艺条件对PZT薄膜界面层电容的影响
- 2008年
- 采用了一种新的界面层电容计算方法来提取PZT薄膜与电极之间的界面层电容,使用这种方法对不同工艺条件下制备的PZT薄膜界面层电容进行了比较。通过实验发现,不同的Pt溅射温度和PZT薄膜的退火温度都会对PZT薄膜与电极之间的界面层产生影响。高温溅射Pt会破坏Pt衬底中的TiO2结构,并导致PZT薄膜与电极之间的界面层特性变差;PZT薄膜600℃退火得到的薄膜表面均匀致密,界面层电容值最大。通过不同工艺条件下PZT薄膜界面层电容的提取比较,获得了调整PZT薄膜工艺条件的优化参数。
- 费瑾文汤庭鳌
- 关键词：PZT薄膜界面层二氧化钛退火温度
- SOI/MOSFET Kink效应的模拟和分析
- 1993年
- 非全耗尽SOI/MOS晶体管由于存在“Kink效应”而限制了它的应用范围。本文考虑了沟道夹断区的碰撞电离和横向寄生晶体管效应,对浮置衬底SOI/nMOS晶体管的电流—电压特性曲线进行了理论计算,讨论了Kink效应的产生机理。计算结果与实验符合甚好。对器件参数的分析可以定性地指导抑制Kink效应的器件优化设计。
- 王晓晖汤庭鳌郑大卫黄宜平C.A.Pazde Araujo
- 关键词：SOI结构MOS场效应管KINK效应
- 铁电电容的电极结构
- 2000年
- 作为铁电电容的电极材料 ,铂是使用最为广泛的金属。在 PZT薄膜的上下两层分别用离子束溅射淀积厚度为 50 nm和 10 0 nm的 Pt。在铂层上按常规工艺需蒸发 1～ 2 μm的 Al作为布线金属。为避免在热处理过程中的固相反应 ,Al/ Pt之间还需嵌入阻挡金属。观察了 Si,Co,Ni,Ti和 Ti/ W合金膜的阻挡特性。实验证明一定组分的 Ti/ W合金膜能有效地抑制 Al/ Pt固相反应 ,获得较为理想的接触特性。
- 姜国宝黄维宁汤庭鳌
- 关键词：电极固相反应
- 中性空位引起的本征扩散对硅中注入砷离子在退火过程中再分布的影响
- 1990年
- 本文对硅中砷扩散系数考虑了中性空位引起的本征扩散项D^0的影响,推导而得出D^0对表面浓度N_s,结深x_j(t)等的影响大约为5-10％。在离子注入退火的解析模型中考虑其影响是有实际意义的。
- 汤庭鳌郑大卫C.A.Paz de Araujo
- 关键词：离子注入硅砷离子退火
- MOS场效应管的新的电流公式被引量：2
- 1994年
- 本文采用由相似变换方法求解的二维泊松方程的结果直接用于推导近代ＭＯＳ场效应管的电流－电压特性，避免了过去在推导中引进的关于表面势的假设．所得到的电流模型适用于包括亚阈值工作区在内的不同工作区域．计及了纵向电场引起的载流子迁移率下降及速度饱和效应，得到了适用于短沟道ＭＯＳ管的电流公式．
- 汤庭鳌王晓晖郑大卫
- 关键词：场效应晶体管MOS
- 用于MFIS的ZrO_2薄膜的制备及特性研究
- 2000年
- 新型不挥发非破坏性读出铁电存储器金属 /铁电 /半导体器件结构中 ,存在着铁电薄膜与半导体衬底之间相互扩散、离子陷阱密度高、铁电薄膜难于直接淀积在硅衬底上、电荷注入等问题 ,因此在铁电薄膜与半导体之间增加一层合适的介质材料作为阻挡层是制备不挥发非破坏性读出铁电存储器的关键。文中研究了运用 SOL- GEL方法制备 Zr O2 介质层的方法 ,并且对制备的介质层的成份、结构、电特性进行了分析 ,为研制 MFIS作了准备。
- 颜雷汤庭鳌黄维宁姜国宝
- 关键词：铁电薄膜半导体材料
- 双栅MOS场效应管精确的二维电势分布与V_（th）的解析模型被引量：3
- 1994年
- 双栅（ＤｕａｌＧａｔｅ）ＭＯＳ场效应管所具有的完全对称的独特结构带来一系列电学特性变化引起了人们广泛的研究兴趣。本文利用格林函数法，采用合理的边界条件，得出ＤＧＭＯＳ体硅的二维电势解析表达式，并由此导出适用于亚微米沟道ＤＧＭＯＳ管阈值电压的解析表达式。阈值电压模型与有关实验数据符合甚好。对于进一步深入探讨ＤＧＭＯＳ管的体反型（ＶｏｌｕｍｅＩｎｖｅｒｓｉｏｎ）效应及其引起的电学特性变化，本模型提供了有效的途径。
- 王晓晖汤庭鳌黄宜平
- 关键词：MOS场效应晶体管阈值电压短沟道效应
- 一种铁电单管锁存结构以及嵌入式非易失性逻辑集成电路
- 本发明涉及一种铁电单管锁存结构以及利用该锁存结构实现的嵌入非易失性逻辑集成电路。铁电单管锁存结构由铁电单管单元、传输门、电阻、倒相器、逻辑门等数字电路基本单元相结合构成，具有锁存数字电路的逻辑状态的功能。将其嵌入大规模集...
- 林殷茵汤庭鳌谢宇涵
- 文献传递
- 一种高密度电荷存储的铁电电容器及其制造方法
- 本发明属于半导体器件技术领域，具体为一种高密度电荷存储的新型铁电电容器及其制作方法。本发明利用氢离子注入到铁电薄膜内部，改变原有的铁电特性，形成新的反铁电特性，这种新的反铁电特性能够使得新型铁电薄膜电容器存储以及释放更多...
- 张燕均江安全汤庭鳌
- 文献传递
