李霖
- 作品数：6 被引量：8H指数：2
- 供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程更多>>
- 一种应用于曝光机的新型z向系统方案及实验研究
- 2010年
- z向系统是接触式曝光机的关键部件之一。设计了一种曝光机的新型z向系统方案,该方案采用气动控制的方式,通过控制气体压力来调整接触力,用空气轴承导向,完成找平、微分离的自动控制。对z向系统设计原理进行了详细介绍,并通过实验对其部分功能进行了验证。
- 李霖
- 关键词：气动控制空气轴承
- 光刻机双面对准精度测量系统被引量：1
- 2015年
- 双面对准精度是接触接近式光刻机的关键性能指标,介绍了一种检测此项指标的测量原理及应用该原理研制的双面对准精度测量系统,并对设备的部件构成及控制流程作了叙述。设备实际验证了检测原理,对50、75、100及150 mm圆形基片均可适用。
- 李霖贾亚飞张云鹏杨建章
- 关键词：光刻机
- 接触接近式曝光机曝光方式浅析及实例被引量：4
- 2012年
- 不同的曝光方式适应不同的曝光工艺,对接触接近式曝光机的曝光方式进行了研究,分析了不同曝光方式适用的场合。并给出了一个通过改进曝光方式实现曝光工艺的成功实例,进一步证明了将产品生产工艺知识融入到半导体设备设计研发过程中的必要性。
- 李霖周庆奎宫晨
- 关键词：曝光机
- 掩模光刻机中找平控制研究被引量：2
- 2010年
- 基片与掩模版(或找平版)找平技术是掩模光刻机中的一个关键技术,找平的结果直接决定了光刻机的分辨率精度。找平的目的就是要实现掩模版平面和基片平面的平行,实现基片与掩模版在移动到设定的一个微小间隙后,基片上的各点到掩模版的距离相同,从而保证基片上图形的一致性,提高设备的分辨率。找平过程的控制主要在对找平的判断、压力采集反馈、找平压力的控制等方面。
- 周庆奎刘玄博李霖
- 关键词：找平分辨率
- 接触接近式光刻机微力找平技术被引量：1
- 2016年
- 介绍了一种微力找平技术,该技术应用气缸及间隙找平机构,可满足厚胶光刻工艺要求。
- 李霖周庆奎
- 关键词：光刻机厚胶光刻
- 晶圆传输机械手的实现途径及其结构设计
- 2023年
- 晶圆传输是集成电路制造设备的组成部分之一;研究晶圆传输核心部件机械手的实现途径和国内外的技术状况,分析晶圆传输机械手的更新和迭代,探讨传输精度和效率的优化措施。通过对应用技术和需求分析,对其机械结构和末端执行器进行逆向设计并对其性能进行测试,把设计固化为可以应用的技术成果;同时提出了晶圆传输机械手的优化方向,为后期技术升级和产业化提供了理论依据,其研究结果对同类设计具有借鉴意义。
- 杨树文李霖于朋扬李峥
- 关键词：机械手末端执行器
