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李凯

作品数:6 被引量:2H指数:1
供职机构:中国科学院半导体研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇专利
  • 2篇期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 4篇砷化铟
  • 4篇砷化镓
  • 4篇纳米
  • 2篇叠层
  • 2篇砷化镓衬底
  • 2篇退火
  • 2篇量子
  • 2篇纳米尺寸
  • 2篇纳米点
  • 2篇纳米环
  • 2篇盖层
  • 2篇衬底
  • 2篇衬底温度
  • 1篇原子力显微镜
  • 1篇数学形态
  • 1篇数学形态学
  • 1篇自动统计
  • 1篇量子点
  • 1篇量子环
  • 1篇分子束

机构

  • 6篇中国科学院

作者

  • 6篇李凯
  • 6篇王占国
  • 5篇叶小玲
  • 1篇陈涌海
  • 1篇鲁华祥
  • 1篇金峰
  • 1篇金鹏

传媒

  • 1篇Journa...
  • 1篇固体电子学研...

年份

  • 1篇2008
  • 2篇2007
  • 2篇2006
  • 1篇2005
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
量子点的原子力显微镜测试结果分析:数学形态学的实现
2005年
提出了从原子力显微镜(AFM)照片中分割出量子点的算法,可以利用程序自动地统计照片中量子点的各种数据.该算法基于数学形态学的方法,包括三个步骤:首先根据照片中每个局部最高点的dynamics值,利用标记分水岭分割方法初步将每个量子点分开;第二步根据量子点的定义,从每个区域中提取出量子点;第三步,为了防止分割过程中将部分衬底一起提取,利用量子点的高度-面积分布,将多余衬底滤去.该算法具有快速、对噪声不敏感的特点,能准确地提取量子点的高度、横向尺寸、体积等数据.
金峰鲁华祥李凯陈涌海王占国
关键词:数学形态学自动统计
利用砷化铟-铟铝砷叠层点制备砷化铟纳米环的生长方法
本发明一种利用砷化铟-铟铝砷叠层点制备砷化铟纳米环的生长方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:以半绝缘砷化镓单晶片为衬底;步骤2:在该衬底上异质外延生长铟铝砷层;步骤3:在该铟铝砷上外延生长砷化铟叠层;步骤4:在该砷化...
李凯叶小玲王占国
文献传递
利用砷化铟-铟铝砷叠层点制备砷化铟纳米环的生长方法
本发明一种利用砷化铟-铟铝砷叠层点制备砷化铟纳米环的生长方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:以半绝缘砷化镓单晶片为衬底;步骤2:在该衬底上异质外延生长铟铝砷层;步骤3:在该铟铝砷上外延生长砷化铟叠层;步骤4:在该砷化...
李凯叶小玲王占国
文献传递
砷化镓衬底上制备纳米尺寸坑的方法
一种砷化镓衬底上制备纳米尺寸坑的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:以半绝缘砷化镓单晶片为衬底;步骤2:异质外延生长砷化铟应变自组装纳米点;步骤3:外延砷化镓薄层,使其部分覆盖上述砷化铟纳米点;步骤4:第一次退火;步...
李凯叶小玲王占国
文献传递
GaAs基上的InAs量子环制备被引量:2
2006年
在分子束外延系统中,利用3nmGaAs薄盖层将InAs自组装量子点部分覆盖,然后在500°C以及As2气氛中退火一分钟,制成纳米尺度的InAs量子环。这一形成敏感地依赖于退火时的生长条件和生长InAs自组装量子点时的淀积量。InAs在GaAs表面的扩散以及同时发生的In-Ga互混控制着InAs量子环的形成。
李凯叶小玲金鹏王占国
关键词:分子束外延
砷化镓衬底上制备纳米尺寸坑的方法
一种砷化镓衬底上制备纳米尺寸坑的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:以半绝缘砷化镓单晶片为衬底;步骤2:异质外延生长砷化铟应变自组装纳米点;步骤3:外延砷化镓薄层,使其部分覆盖上述砷化铟纳米点;步骤4:第一次退火;步...
李凯叶小玲王占国
文献传递
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