李兆泽
- 作品数：15 被引量：78H指数：6
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中国人民解放军总装备部预研基金国防科技技术预先研究基金更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程金属学及工艺理学更多>>
- MEMS固体微推进器中Cr薄膜点火电阻的研究
- 点火电路是MEMS固体化学微推进器中最重要的组成部分,其点火电压的大小及点火可靠性则主要取决于点火电阻.国内外均采用多晶硅(polysilicon)或贵金属铂(Pt)作为点火电阻材料,所制备出来的点火电阻的阻值都比较大,...
- 徐超李兆泽万红吴学忠
- 关键词：MEMS微推进器点火电路
- 文献传递
- 磨料水射流抛光技术研究
- 随着对光学性能要求的不断提高,越来越多的非球面以及自由曲面光学元件被广泛应用。同时,光学系统元件也向着多极化方向发展,大尺寸大相对口径元件、高陡度大长径比内腔元件以及微小尺寸非球面光学元件的应用与需求都在不断增加。然而对...
- 李兆泽
- 关键词：非球面计算流体动力学去除函数
- 文献传递
- 三维光场调控装置
- 一种三维光场调控装置，包括激光器，沿该激光器发出的光束方向依次是同轴的起偏器、衍射光学元件、傅里叶变换透镜、径向偏振光转换器、振幅型波带片和高数值孔径聚焦透镜，所述的衍射光学元件和径向偏振光转换器分别位于所述的傅里叶变换...
- 朱菁葛丹丹宋强李兆泽张方曾爱军黄惠杰杨宝喜陈明李璟
- 文献传递
- 光刻投影物镜波像差和成像最佳焦面的检测方法
- 一种光刻投影物镜波像差和成像最佳焦面的检测方法，通过对特殊设计的二维检测标记在最佳焦面位置的仿真空间像进行主成分分析和多元线性回归，提取出包含像差影响的空间像的主成分和线性回归矩阵，利用主成分拟合实测空间像，以拟合残差的...
- 李思坤王向朝杨济硕闫冠勇李兆泽
- 文献传递
- Cr薄膜的沉积与湿法刻蚀工艺研究
- 本文通过台阶仪和扫描电镜、原子力显微镜测试观察了PVD方法制作Cr薄膜的溅射速率和表面形貌,实验分析了相关工艺参数对溅射速率的影响情况,并对薄膜的湿法刻蚀工艺进行了初步研究.同时给出了Cr膜与其腐蚀后的电阻图形的显微镜照...
- 李兆泽徐超吴学忠万红李圣怡
- 关键词：PVD湿法刻蚀扫描电镜原子力显微镜
- 文献传递
- 光刻机光源与掩模的联合优化方法
- 一种光刻机光源与掩模优化方法，利用像素化的光源照明模式与掩模,将理想图形与当前光源照明模式曝光下掩模对应的光刻胶像之间欧氏距离的平方作为评价函数,利用随机并行梯度速降算法计算评价函数的梯度信息,通过评价函数的梯度信息引导...
- 李兆泽李思坤王向朝
- 文献传递
- 基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法被引量：10
- 2014年
- 随着集成电路特征尺寸进入2Xnm及以下节点,光源与掩模联合优化(SMO)成为了拓展193nm ArF浸没式光刻工艺窗口、减小工艺因子的重要分辨率增强技术(RET)之一。提出了一种基于随机并行梯度速降(SPGD)算法的SMO方法,通过随机扰动进行梯度估计,利用估计梯度来迭代更新光源与掩模,避免了求解梯度解析表达式的过程,降低了优化复杂度。对周期接触孔阵列及十字线、密集线三种掩模图形的仿真验证表明,三种掩模图形误差(PE)值分别降低了75%、80%与70%,该方法较大程度地提高了光刻成像质量。
- 李兆泽李思坤王向朝
- 关键词：光学制造光刻分辨率增强技术
- MEMS固体微推进器的设计与制作
- 微飞行器技术的不断完善与发展,使其对微推进系统提出了越来越高的要求。基于微机电系统(MEMS)的微推进器由于具有体积小、成本低、功耗低、可靠性高、无污染等优点,近年来受到了广泛的重视。本课题主要在研究相关微加工工艺的基础...
- 李兆泽
- 关键词：MEMS微推进器微加工工艺溅射刻蚀
- 光刻机光源与掩模的联合优化方法
- 一种光刻机光源与掩模优化方法，利用像素化的光源照明模式与掩模,将理想图形与当前光源照明模式曝光下掩模对应的光刻胶像之间欧氏距离的平方作为评价函数,利用随机并行梯度速降算法计算评价函数的梯度信息,通过评价函数的梯度信息引导...
- 李兆泽李思坤王向朝
- 文献传递
- Cr薄膜的沉积与湿法刻蚀工艺研究被引量：14
- 2006年
- 通过台阶仪和扫描电镜、原子力显微镜测试观察了PVD方法制作Cr薄膜的溅射速率和表面形貌,实验分析了相关工艺参数对溅射速率的影响情况,并对薄膜的湿法刻蚀工艺进行了初步研究.同时给出了Cr膜与其腐蚀后的电阻图形的显微镜照片.
- 李兆泽徐超吴学忠万红李圣怡
- 关键词：PVD湿法刻蚀扫描电镜原子力显微镜
