孙智勇
- 作品数:9 被引量:6H指数:1
- 供职机构:西安工业大学数理系更多>>
- 发文基金:国家自然科学基金更多>>
- 相关领域:理学文化科学电子电信更多>>
- 教师流失原因的分析与对策——基于铁岭县第二高中个案研究
- 在知识经济迅猛发展的今天,各种资源变得更加稀缺,学校之间的竞争进一步加剧,人力资源日益成为学校获取竞争优势的首要资源。而教师流失确是当前许多学校面临的主要问题之一,它严重影响着学校的师资队伍建设、学科建设,影响着教学质量...
- 孙智勇
- 关键词:教师流失人力资源管理
- 文献传递
- NiFeSiMn//Mo//Cu//NiFeSiMnMo多层膜的非线性巨磁阻抗效应
- 近年来,巨磁阻抗效应的发现及其在磁传感器、磁记录头等方面可喜的应用前景引起了科学家的广泛兴趣。到目前为止,研究主要集中在Co基非晶和Fe基纳米晶材料,关于Ni基的坡膜合金有少量的报到。最近研究表明,由软磁合金层包覆着高导...
- 孙智勇
- 关键词:巨磁阻抗坡莫合金多层膜
- 文献传递
- Co/C与Co-Pt/C膜的微结构研究
- 2011年
- 利用磁控溅射方法制备Co/C和Co-Pt/C薄膜。用X射线衍射谱(XRD)和透射电子显微镜(TEM)测量样品结构和微观形貌。对Co/C和Co-Pt/C晶粒的大小进行计算,表明Co/C颗粒膜Co是以团簇的形式镶嵌在C层中的,面心立方(fcc)CoPt3和面心四方(fct)CoPt两个稳定有序相在Co-Pt/C薄膜中很好地耦合。
- 孙智勇赵志明王宝纯姜宏伟王艾玲郑鹉
- 关键词:磁记录磁控溅射
- 巨磁阻抗效应及其传感器被引量:3
- 2010年
- 回顾电感和电阻的阻抗,对磁性导体的阻抗进行分析,对封闭式的三明治模型阻抗用Maxwell磁矢量方程和Landau-Lifshitz方程计算进行分析;对制作巨磁阻抗传感器元件的材料进行比较;对巨磁阻抗线性传感器电路、三轴巨磁阻抗效应传感器电路、GMI传感器低功耗测量集成电路进行分析和总结。
- 孙智勇赵志明郑鹉王艾玲姜宏伟王霞
- 关键词:巨磁阻抗效应阻抗测量
- NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜的非线性巨磁阻抗效应被引量:1
- 2005年
- 观察用蒸镀法制备的NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜的巨磁阻抗效应,经过退火后,得到性能优良的坡莫合金材料,研究了GMI效应与交变电流频率f和外加直流磁场H的关系,样品在3MHz的频率下能够获得一个14.9%的非线性巨磁阻抗效应。
- 孙智勇郑鹉王艾玲姜宏伟
- 关键词:巨磁阻抗效应非线性多层膜电流频率直流磁场
- NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜的磁导率和巨磁阻抗比的研究被引量:1
- 2008年
- 用磁控溅射方法制备NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜;理论研究了多层膜巨磁阻抗效应与磁导率的关系;实验研究了NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜结构的磁导率和巨磁阻抗比。在驱动频率3MHz下Δμ′/μ′(%)出现800%的最大值,巨磁阻抗比出现14.4%的最大值。
- 孙智勇赵志明董刚季勇郑鹉王艾玲姜宏伟
- 关键词:巨磁阻抗磁导率多层膜
- NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜中Cu层对巨磁阻抗效应的影响
- 2008年
- 在康宁玻璃上用真空蒸镀法沉积NiFeSiMnMo单层膜、NiFeSiMnMo/Cu双层膜和NiFeSiMnMo/Cu/Ni-FeSiMnMo多层膜。对单层膜和双层膜的软磁性能进行了分析,对多层膜的巨磁阻抗效应随Cu层宽度的变化进行了研究。实验研究表明,NiFeSiMoMn/Cu双层膜比NiFeSiMnMo单层膜矫顽力小、饱和磁化强度高;多层膜Ni-FeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo随着Cu层宽度的增加巨磁阻抗比上升到一个最大值后下降,在磁性层宽度3mm的情况下,Cu层宽度在0.7mm时,巨磁阻抗比最大。
- 孙智勇赵志明季勇郑鹉王艾玲姜宏伟
- 关键词:巨磁阻抗坡莫合金多层膜
- NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜结构中磁性层厚度对巨磁阻抗效应的影响
- 2007年
- 在康宁玻璃上用真空蒸镀法沉积NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜,对所沉积单层膜的软磁性能随膜厚的变化和多层膜的巨磁阻抗效应随磁性层(NiFeSiMnMo)厚度的变化进行分析。实验结果表明:NiFeSiMnMo单层膜随厚度的增加,矫顽力增大,软磁性能变差;退火后的多层膜的纵向巨磁阻抗比(GMI ratio)的最大值随磁性层NiFeSiMnMo的厚度增加而增加。
- 孙智勇赵志明郑鹉王艾玲姜宏伟
- 关键词:巨磁阻抗坡莫合金多层膜
- Cu对超坡膜合金软磁性能及GMI效应的影响
- 用磁控溅射方法制备了超坡莫合金NiFeSiMoMn(50nm~200nm)单层膜、NiFeSiMoMn(50nm~200nm)/Cu(50nm)双层膜,研究了Cu的扩散对超坡塻合金软磁性能的影响,结果表明:NiFeSiM...
- 季勇孙智勇周丽萍姜宏伟王艾玲郑鹉
- 关键词:软磁性能驱动频率磁控溅射巨磁阻抗效应
- 文献传递