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周瑞花

作品数：5 被引量：9H指数：2
供职机构：中国科学院成都有机化学研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学自动化与计算机技术一般工业技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 2篇自动化与计算...
  • 2篇理学
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇碳膜
  • 3篇类金刚石
  • 3篇类金刚石碳膜
  • 2篇等离子体聚合
  • 2篇离子
  • 2篇磁盘
  • 1篇等离子体
  • 1篇硬磁盘
  • 1篇软磁盘
  • 1篇四丁基锡
  • 1篇耐磨
  • 1篇耐磨损
  • 1篇晶态
  • 1篇晶形
  • 1篇共混
  • 1篇共混膜
  • 1篇防霉
  • 1篇非晶
  • 1篇非晶态
  • 1篇非晶碳

机构

  • 5篇中国科学院

作者

  • 5篇周瑞花
  • 5篇曹伟民
  • 1篇张吉人
  • 1篇黄代荣

传媒

  • 2篇合成化学
  • 1篇功能材料
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 2篇1995
  • 1篇1994
  • 1篇1993
  • 1篇1991
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
等离子体聚合四丁基锡薄膜的制备和结构被引量：1
1995年
研究了Ａｒ和Ａｒ／Ｏ＿２混合气携带四丁基锡的等离子体聚合规律和膜的组成、结构，分别得到低碳氢含量的金属Ｓｎ和ＳｎＯ＿ｘ共混膜。
周坤周瑞花曹伟民
关键词：等离子体四丁基锡共混膜
六甲基二硅胺烷的等离子体聚合被引量：3
1993年
在室温和无添加气体条件下,完成了六甲基二硅胺烷较低功率密度的等寒子体聚合。研究了聚合膜的沉积规律和过程。给出了聚合物膜的结构和性质。得到经验式为 C_(1.42)H_(2.65)N_(0.2)O_(0.15)Si的新聚合物。
周坤粦曹伟民周瑞花
关键词：等离子体聚合
类金刚石碳膜的组成和结构被引量：4
1991年
用射频辉光放电离解烃制备了类金刚石碳膜。由IR、XPS、AES、Raman、SEM、TEM、TED和元素分析等手段,分析表征了膜的组成、碳原子化学键态和晶形结构。表明膜是sp^3C-C和C-H键为主体的非晶态,在非晶碳基质中存在一定的微晶石墨和金刚石成分。
周坤遴曹伟民周瑞花张吉人
关键词：类金刚石碳膜晶形非晶碳非晶态
类金刚石碳膜在硬磁盘中的应用被引量：1
1995年
射频离解烃制备了适用于５英寸计算机硬磁盘减摩、耐磨保护用的类金刚石碳膜。保护膜厚度不均匀性小于５％，硬度１５．２ＧＰａ，结合力３３１ＭＰａ。无润滑下头盘摩擦系数μ≤０．２６，脉动值Δμ≤０．０５。最佳效果是在添加润滑油的组合润滑下得到，μ≤０．１４，Δμ≤０．０４．电磁动态特性和读写试验表明，４０ｎｍ类金刚石碳保护盘达到实用水平。
周坤曹伟民周瑞花
关键词：保护膜硬磁盘
类金刚石碳膜──软磁盘保护膜的性能被引量：1
1994年
射频离解烃方法制备了适用于作软磁盘保护层的类金刚石碳膜。在基本不影响盘原有电磁特性前提下，保护膜兼备良好的耐磨、抗高温高湿和防霉等功能。
周坤遴曹伟民周瑞花黄代荣
关键词：类金刚石碳膜耐磨损防霉
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