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刘青益

作品数:1 被引量:0H指数:0
供职机构:许昌职业技术学院规划建筑工程系更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电致发光
  • 1篇电致发光器件
  • 1篇有机电致发光
  • 1篇有机电致发光...
  • 1篇亮度
  • 1篇空穴
  • 1篇空穴缓冲层
  • 1篇缓冲层
  • 1篇发光
  • 1篇发光器件
  • 1篇PBD
  • 1篇D/A

机构

  • 1篇北京交通大学
  • 1篇许昌职业技术...

作者

  • 1篇苏展
  • 1篇刘青益
  • 1篇张志峰
  • 1篇郭栋

传媒

  • 1篇光子技术

年份

  • 1篇2005
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
PBD空穴缓冲层对有机电致发光器件的改善作用
2005年
实验中制备了不同厚度的缓冲层PBD修饰的有机电致发光器件以及没有缓冲层修饰的有机器件。通过比较发现缓冲层PBD的最优厚度为0.2nm,缓冲层PBD对于器件亮度有显著的影响。当缓冲层PBD厚度为0.2nm,相同电压下器件的亮度要比无缓冲层器件的亮度要高。当电压为16V时,PBD修饰的器件的亮度为1984cd/A,而没有缓冲层材料修饰的器件的亮度为1110cd/A,器件的亮度得到了提高。在电流密度为120mA/cm2的情况下,PBD修饰的器件的效率为3cd/A,要比没有缓冲层材料修饰的器件的效率(为2.6cd/A)高。最主要的原因是由于PBD是电子传输层,因此它对于空穴的注入起阻挡作用。所以缓冲层PBD阻挡和减少了空穴的注入,提高了电子和空穴形成激子的比例,从而提高了器件的效率。
张志峰刘青益郭栋苏展
关键词:缓冲层有机电致发光器件亮度D/A空穴
共1页<1>
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