2024年12月22日
星期日
|
欢迎来到维普•公共文化服务平台
登录
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
刘晨
作品数:
3
被引量:16
H指数:1
供职机构:
中国科学技术大学信息科学技术学院电子工程与信息科学系
更多>>
相关领域:
电子电信
更多>>
合作作者
刘之景
中国科学技术大学物理学院天文学...
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
3篇
中文期刊文章
领域
3篇
电子电信
主题
2篇
刻蚀
1篇
等离子
1篇
等离子体刻蚀
1篇
电路
1篇
物理机制
1篇
芯片
1篇
芯片加工
1篇
集成电路
1篇
计算机
1篇
计算机建模
1篇
光刻
1篇
半导体
1篇
半导体集成
1篇
半导体集成电...
机构
3篇
中国科学技术...
作者
3篇
刘之景
3篇
刘晨
传媒
1篇
半导体技术
1篇
物理
1篇
表面技术
年份
3篇
1999
共
3
条 记 录,以下是 1-3
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
芯片加工中的器件损伤
被引量:1
1999年
分析了芯片加工中器件损伤的物理机制并给出了减小损伤的方法。
刘之景
刘晨
关键词:
芯片加工
半导体集成电路
光刻与等离子体刻蚀技术
被引量:15
1999年
介绍了光刻与等离子体刻蚀技术的特点与进展。
刘之景
刘晨
关键词:
光刻
等离子体刻蚀
物理机制
等离子作加工中的计算机建模
1999年
介绍了等离子体刻蚀和沉积加工的工业应用,指出在产品加工和设计中,计算机建模的重要性和必要性,强调了等离子体刻蚀反应器、热喷射系统和等离子体化学蒸气沉积中所使用的计算机模型。
刘之景
刘晨
关键词:
刻蚀
计算机建模
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张