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刘国纯

作品数：3 被引量：3H指数：1
供职机构：中南工业大学材料科学与工程系更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇金属学及工艺

主题

  • 2篇粘结
  • 2篇粘结强度
  • 2篇微观结构
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化钛
  • 1篇涂层
  • 1篇气相沉积
  • 1篇温度
  • 1篇覆层
  • 1篇PCVD
  • 1篇TI(C,N...
  • 1篇TIN涂层
  • 1篇CH
  • 1篇沉积速率

机构

  • 3篇中南工业大学

作者

  • 3篇刘国纯
  • 2篇马柳莺
  • 2篇刘华佾
  • 1篇李晓伟

传媒

  • 2篇中国有色金属...
  • 1篇中南工业大学...

年份

  • 1篇1995
  • 1篇1994
  • 1篇1993
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
成份及微观结构对涂层硬度及粘结强度的影响被引量：1
1993年
测定了物理化学气相沉积(PCVD)Ti(C,N)-TiN 涂层和化学气相沉积(CVD)Ti(C,N)-TiN 涂层的显微硬度(Hv)和粘结强度(E_b)。采用 X 射线衍射实验、扫描电子显微术以及 X 射线光电子谱分析了 PCVD 与 CVD 涂层部分力学性能间差别的原因。指出涂层择优取向及物相组成是影响涂层硬度的重要因素;涂层-基体粘结强度与沉积工艺、界面上新相和孔隙的存在密切相关。
马柳莺李晓伟刘国纯卞恒正
关键词：粘结强度
温度和时间对TiN涂层性能的影响被引量：1
1995年
采用松理化学气相沉积（即ＰＣＶＤ）技术，在不同的温度和时间下制备２组ＴｉＮ涂层试样；讨论了温度与时间对涂层性能的影响，并在微观结构分析基础上。
马柳鸳刘华佾刘国纯卞恒正
关键词：微观结构氮化钛气相沉积涂层温度
CH_4与N_2流量比对Ti（C，N）涂层性能的影响被引量：1
1994年
采用物理化学气相沉积（ＰＣＶＤ）技术，在硬质合金上涂复Ｔｉ（ＣＮ１－ｘ）膜（０＜Ｘ＜１），测定了涂层厚度、显微硬度、粘结强度与反应气体中ＣＨ４／Ｎ２比值的关系。在本实验条件下，当ＣＨ４／Ｎ＝１：１时，涂层具有最佳综合性能和最大沉积速率。采用ｘ射线衍射（ＸＲＤ）、扫描电子显微镜（ＳＥＭ）及ｘ射线光电子谱（ＸＰＳ）技术，分析了涂层微观组织、表面形貌、化学成分及涂层／基体界面区微观形貌。在此基础上，就ＣＨ４／Ｎ２值、微观结构及性能间的关系进行了讨论。
马柳莺刘华佾卞正恒刘国纯
关键词：覆层粘结强度沉积速率PCVD
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共1页<1>
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