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刘卫芳

作品数：2 被引量：2H指数：1
供职机构：天津大学理学院更多>>
发文基金：天津市自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇氧化铟
  • 1篇氧空位
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇普朗克
  • 1篇普朗克常量
  • 1篇量子
  • 1篇量子化
  • 1篇量子力学
  • 1篇空位
  • 1篇溅射
  • 1篇铟
  • 1篇IN2O3
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 2篇天津大学

作者

  • 2篇刘卫芳
  • 1篇吴萍
  • 1篇周伟

传媒

  • 1篇物理通报

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2012
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
普朗克常量h的物理学意义被引量：2
2016年
普朗克常量h是能量量子化概念的基石,更是理解量子力学诸多内容的关键,本文从4个方面介绍了普朗克常量的意义和应用,包括其在量子力学两种形式中的基础作用、对量子化概念发展的帮助、改变对物质世界连续性认识的启发以及质量新标准建立中的作用.
刘卫芳
关键词：普朗克常量量子力学量子化
In2O3薄膜的制备、结构、光、电及d0铁磁性研究
本工作对射频磁控溅射法制备的纯氧化铟薄膜的结构、光、电、磁特性进行了研究。结果表明纯的氧化铟薄膜中存在室温d铁磁性且可以通过真空退火得到有效的增强。另外,在不同的氧氩流量比下制备的纯氧化铟薄膜,其光学带隙及磁性随着氧氩流...
孙少华邢鹏飞刘卫芳周伟吴萍
关键词：氧化铟氧空位射频磁控溅射
文献传递
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