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NdFeB永磁薄膜性能研究及其溅射模拟: NdFeB永磁薄膜由于具有潜在的优异性能和商业价值而备受青睐。对其进行研究不仅有重要的理论价值,而且具有巨大的经济意义。但由于成分和工艺等方面的原因,目前其实际磁性能与理论值还有较大差距。本论文对NdFeB稀...; 雒哲廷; 关键词：直流磁控溅射射频磁控溅射; 文献传递

NdFeB永磁靶材溅射模拟被引量：3: 2008年; 运用SRIM2006软件对Nd2Fe14B靶溅射过程进行了模拟，并就入射离子的入射能量和角度进行了分析，得到溅射产额与入射离子能量、入射角度以及溅射靶材的一般规律：1）溅射产额随着入射离子能量的增加而增加，在低能量区域增加很快，到了高能量区域增加变缓；2）溅射产额随着入射离子入射角度的增大逐渐增大，且在70°～80°出现极大值，如当入射离子的入射角度为75°，入射离子能量为7keV时，溅射产额可达4，398（原子·离子^-1）；3）溅射原子的摩尔比与靶材原子摩尔比存在一定偏差，导致薄膜成分与靶材成分不一致。; 雒哲廷张敏刚伍静罗春云; 关键词：电子技术溅射

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雒哲廷