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陶海华

作品数：16 被引量：0H指数：0
供职机构：上海交通大学更多>>

合作作者

文献类型

  • 16篇中文专利

主题

  • 11篇真空设备
  • 8篇紫外
  • 8篇光源
  • 6篇纳米
  • 5篇光源系统
  • 3篇电学
  • 3篇电学性质
  • 3篇电子器件
  • 3篇氧化改性
  • 3篇原位表征
  • 3篇图案化
  • 3篇准分子
  • 3篇紫外光源
  • 3篇氙灯
  • 3篇微纳米结构
  • 3篇离子束
  • 3篇离子束溅射
  • 3篇纳米光电子器...
  • 3篇化学反应
  • 3篇化学气相

机构

  • 16篇上海交通大学
  • 1篇上海国达特殊...

作者

  • 16篇陶海华
  • 12篇张双喜
  • 9篇陈险峰
  • 6篇王庆康
  • 6篇蒋为桥
  • 1篇钱冬

年份

  • 1篇2020
  • 1篇2019
  • 2篇2018
  • 2篇2016
  • 2篇2015
  • 1篇2014
  • 7篇2013
共 16 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
紫外光/臭氧表面清洗与氧化改性真空设备及其使用方法
本发明公开了一种紫外光/臭氧表面清洗和氧化改性真空设备，包括真空腔室、紫外光源、水冷系统、样品架、真空系统和气压监控系统。真空腔室的内层为高反射铝板，外层为不锈钢加强筋。真空腔室内部顶端固定紫外光源的紫外灯管，紫外灯管的...
陶海华张双喜陈险峰
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利用离子束溅射法制备微纳米结构薄膜的装置及方法
本发明提供了一种利用离子束溅射法制备微纳米结构薄膜的装置和方法，该装置包括离子束溅射装置和准直过滤装置，准直过滤装置与离子束溅射装置的样品架连接，准直过滤装置包括：圆盘、若干过滤网和多个圆环，圆盘的下表面与样品架连接，各...
陶海华张双喜乔延琦蒋为桥陈险峰
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紫外光和臭氧表面清洗与氧化改性真空设备
本实用新型公开了紫外光和臭氧表面清洗与氧化改性真空设备，包括真空腔室、紫外光源、水冷系统、样品架、真空系统和气压监控系统。真空腔室的内层为反射铝板，外层为不锈钢加强筋。真空腔室内部顶端固定紫外光源的紫外灯管，紫外灯管的上...
陶海华张双喜陈险峰
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利用紫外光氧化实现和调控石墨烯薄膜图案化的方法
本发明提供了一种利用紫外光氧化实现和调控石墨烯薄膜图案化的方法，包括：步骤1：利用氙灯准分子紫外光氧化方法和硬质掩膜版实现石墨烯薄膜微米结构图形图案化；步骤2：通过在石墨烯薄膜表面施加垂直方向的非均匀性磁场，控制氧激子沿...
陶海华陈险峰吴艺璇苏树彬岳欢黎浩
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磁场辅助紫外光氧化实现石墨烯薄膜图案化方法及其装置
本发明提供了一种磁场辅助紫外光氧化实现石墨烯薄膜图案化方法，包括如下步骤：步骤1：在紫外光氧化真空设备的样品架(8)上放置磁场发生装置，将紫外光氧化真空设备的磁场调至到预设磁场；所述预设磁场为反应腔室内的磁场、反应腔室内...
陶海华苏树彬黎浩陈险峰钱冬
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氙灯准分子紫外光氧化真空设备及其使用方法
本发明提供的一种氙灯准分子紫外光氧化真空设备及其使用方法，包括：真空腔室，在真空腔室内设有控制机构；氙灯准分子放电管，氙灯准分子放电管设置在真空腔室内部，在氙灯准分子放电管内设有水冷装置，氙灯准分子放电管与控制机构连接；...
陶海华陈险峰苏树彬王国征张子宇吴艺璇
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用于化学气相和紫外光化学干法表面清洗改性的真空装置
本实用新型公开了一种用于化学气相和紫外光化学干法表面清洗改性的真空装置，主要由真空腔室、紫外光源系统、真空泵系统和真空设备控制系统组成，真空腔室由高真空内腔室和低真空外腔室组成：外腔室顶端固定紫外灯光源；内腔室具有高度可...
陶海华张双喜蒋为桥王庆康
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集紫外光/臭氧表面处理与电学性质原位测试的真空设备
本发明公开了一种集紫外光/臭氧表面处理与电学性质原位测试的真空设备，主要由真空腔室、紫外光源系统、真空泵系统和真空设备控制系统以及电子元件测试系统组成，真空腔室由高真空内腔室和低真空外腔室组成：外腔室顶端固定紫外灯光源；...
陶海华张双喜王庆康
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集紫外光化学与化学气相干法表面处理的真空设备
本发明公开了一种集紫外光化学与化学气相干法表面处理的真空设备，主要由真空腔室、紫外光源系统、真空泵系统和真空设备控制系统组成，真空腔室由高真空内腔室和低真空外腔室组成：外腔室顶端固定紫外灯光源；内腔室具有高度可调节的样品...
陶海华张双喜蒋为桥王庆康
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一种对电子元件改性与电学性质表征的设备
本实用新型公开了一种对电子元件改性与电学性质表征的设备，主要由真空腔室、紫外光源系统、真空泵系统和真空设备控制系统以及电子元件测试系统组成，真空腔室由高真空内腔室和低真空外腔室组成：外腔室顶端固定紫外灯光源；内腔室具有高...
陶海华张双喜王庆康
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