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赵珑现

作品数:7 被引量:13H指数:1
供职机构:沈阳仪表科学研究院有限公司更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 6篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 3篇透射
  • 3篇光学
  • 2篇单次
  • 2篇镀膜
  • 2篇多工位
  • 2篇掩膜
  • 2篇真空镀膜
  • 2篇真空镀膜设备
  • 2篇膜系
  • 2篇宽光谱
  • 2篇工位
  • 2篇光谱
  • 2篇光学元件
  • 2篇反射型
  • 1篇导引头
  • 1篇余弦
  • 1篇余弦函数
  • 1篇杂散光
  • 1篇三角波
  • 1篇视场

机构

  • 7篇沈阳仪表科学...
  • 1篇中国科学院研...
  • 1篇中国科学院长...

作者

  • 7篇赵珑现
  • 6篇金秀
  • 6篇张勇喜
  • 5篇阴晓俊
  • 3篇杨文华
  • 2篇李野
  • 2篇马敬
  • 2篇赵帅锋
  • 2篇高鹏
  • 1篇胡雯雯
  • 1篇刘英
  • 1篇张艳姝
  • 1篇姜洋
  • 1篇任少鹏
  • 1篇孙强

传媒

  • 1篇光子学报

年份

  • 1篇2021
  • 1篇2017
  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2011
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
多工位渐变薄膜镀制设备
本发明属真空镀膜设备领域,尤其涉及一种多工位渐变薄膜镀制设备,它包括驱动模块、基板(8)、工件盘(7)、掩膜机构(10)及均匀机构(11);所述工件盘(7)位于基板(8)之上;所述工件盘(7)可绕其轴心旋转,其与基板(8...
张勇喜金秀杨文华李野阴晓俊赵帅锋赵珑现
切趾变密度滤光片
本发明属光学元件领域,尤其涉及一种用于消除边缘杂散光或调整光源强度分布的切趾变密度滤光片,所述切趾变密度滤光片膜层厚度沿中心轴或对称轴对称分布,其透射率符合切趾函数;所述切趾变密度滤光片的几何形状为圆形或方形;所述切趾变...
金秀张勇喜阴晓俊赵珑现杨文华张帆郭俊峰
文献传递
多光束能量同步调节中性密度滤光片
本实用新型属中性密度滤光片领域,尤其涉及一种多光束能量同步调节中性密度滤光片,它包括圆形线性渐变密度滤光本体(1);所述圆形线性渐变密度滤光本体(1)上设有第一光密度渐变区域膜层(101)及第二光密度渐变区域膜层(102...
金秀张勇喜胡雯雯任少鹏赵珑现张艳姝
文献传递
大视场红外导引头光学系统消热差设计被引量:13
2013年
为消除温度变化对共形光学导引头像质的影响,利用光学被动消热差理论对具体设计方法进行实际分析.根据消热差条件选择合理的透镜材料组合,利用衍射元件特殊的光热特性采用折/衍混合结构进行消热差设计.采用椭球形共形整流罩结构减小空气阻力,降低导弹头部气动加热效应,利用三片式反远距结构实现短焦大视场系统设计.该系统工作波段为3~5μm,系统F/#为2,视场角为±90°;凝视结构的导引头光学系统后工作距达22.8mm,为制冷型探测器留有足够的空间;冷光阑效率为100%;在-40℃~60℃温度变化范围内,15lp/mm处全视场MTF值均大于0.4,满足高准确度定位导引头系统对成像质量的要求,保证了系统的轻小型设计.
姜洋孙强刘英赵珑现
关键词:大视场消热差设计红外
低反射型中性密度滤光片
本发明属光能衰减光学元件领域,尤其涉及一种低反射型中性密度滤光片,包括基底及镀制其上的膜系层;所述膜系层结构为 G|AMB 或 BM|G|MB ;其中M为实现透射衰减及中性透射的金属层;G为基底;A及B为匹配实现金属宽光...
阴晓俊高鹏张勇喜金秀马敬赵珑现
文献传递
多工位渐变薄膜镀制设备
<B>本发明属真空镀膜设备领域,尤其涉及一种多工位渐变薄膜镀制设备,它包括驱动模块、基板(</B> <B>8</B> <B>)、工件盘(</B> <B>7</B> <B>)、掩膜机构(</B> <B>10</B> <B>...
张勇喜金秀杨文华李野阴晓俊赵帅锋赵珑现
文献传递
低反射型中性密度滤光片
本发明属光能衰减光学元件领域,尤其涉及一种低反射型中性密度滤光片,包括基底及镀制其上的膜系层;所述膜系层结构为G|A M B或B M|G|M B;其中M为实现透射衰减及中性透射的金属层;G为基底;A及B为匹配实现金属宽光...
阴晓俊高鹏张勇喜金秀马敬赵珑现
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共1页<1>
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