谭必松
- 作品数：9 被引量：24H指数：4
- 供职机构：武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料湖北省重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金湖北省高等学校优秀中青年科技创新团队计划项目更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术化学工程更多>>
- 非对称磁镜场ECR氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜
- <正>超光滑表面CVD金刚石膜器件的应用在现代社会中日益广泛,而生产出的CVD金刚石膜表面往往是粗糙不平的,需进行刻蚀、抛光等后序加工后,才能达到应用要求。本文提出一种新的CVD金刚石膜刻蚀方法——非对称磁镜场ECR氧等...
- 谭必松马志斌吴振辉
- 文献传递
- ECR等离子体的磁电加热研究被引量：7
- 2011年
- 在ECR等离子体装置上进行了磁电加热研究,利用离子灵敏探针(ISP)测量了磁电加热前后离子温度的变化,研究了电极环偏压、磁场强度、气压等参数对磁电加热过程以及加热效率的影响.结果表明:等离子体的整体加热是通过离子在电极环鞘层中的磁电加热及被加热的离子沿径向的输运来完成的.轴心处离子温度随电极环偏压的升高呈非线性增加.磁电加热效率随偏压的增大而增大,在电极环偏压为1000V时,磁电加热效率为2%—2.5%,ECR等离子体中的离子温度能够提高20eV以上.磁场强度在磁电加热过程中对离子的限制和加热起到重要作用,当磁场强度在6.3×10-2—8.7×10-2T之间变化时,磁电加热的效率随磁场强度的增大而增大.气压在0.02—0.8Pa范围内,磁电加热的效率随气压的减小而增大.
- 沈武林马志斌谭必松吴俊汪建华
- 关键词：ECR等离子体离子温度
- 磁场位形对微波ECR等离子体电子参数的影响被引量：5
- 2010年
- 测量了两种磁场位形中微波ECR等离子体的电子参数,研究了磁场位形对电子参数空间分布的影响,结果表明:发散场中电子温度在轴心和腔体边缘较大,在过渡的中间区域较小,而磁镜场中电子温度随径向半径R的增大单调减小;电子密度在两种磁场位形中随径向和轴向距离的增大均呈单调下降的趋势,磁镜场中的下降幅度大于发散场;在共振面附近,发散场中气压对电子温度的影响比在磁镜场中大,而气压对电子密度的影响在两种磁场位形中基本相似.
- 沈武林马志斌谭必松
- 关键词：ECR等离子体磁镜场
- CVD金刚石膜的抛光研究进展被引量：6
- 2008年
- 化学气相沉积的金刚石膜表面一般比较粗糙,需要经过抛光才能实现其具体的工业应用。本文介绍了各种抛光CVD金刚石膜的方法及近来研究进展,分析了各种技术的优缺点,并结合工业应用对CVD金刚石膜的抛光前景作了展望。
- 吴振辉马志斌谭必松张磊吴利峰
- 关键词：CVD金刚石膜抛光
- 电极环对离子加热温度的影响
- 2012年
- 在非对称磁镜场微波ECR等离子体中引入了磁电加热系统,研究了电极环大小、轴向位置以及双环加热对离子温度的影响。结果表明,大小合适的电极环能有效提高离子的加热温度,且最优电极环尺寸主要取决于离子回旋半径。电极环轴向位置的选择主要与磁镜场位形有关,将电极环置于磁镜场中部的弱磁场位置时最有利于离子温度的提高。采用双电极环加热能进一步提高离子温度,并且其加热效果是单环加热的两倍。
- 沈武林马志斌谭必松吴俊汪建华
- 关键词：ECR等离子体磁镜场离子温度
- ECR等离子体离子参数的测量研究
- 电子回旋共振(ECR)等离子体由于具有工作气压低、等离子体密度高等优点,广泛应用于微电子刻蚀、薄膜材料沉积、材料加工、材料表面技术中。在ECR等离子体中,等离子体参数(特别是离子参数)对薄膜质量、刻蚀速率等方面有着至关重...
- 谭必松
- 关键词：ECR等离子体离子温度离子密度
- 文献传递
- 氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜被引量：2
- 2009年
- 分别采用直流辉光、微波和电子回旋共振3种氧等离子体对CVD金刚石膜表面进行了刻蚀.利用扫描电子显微镜对三种等离子体刻蚀后金刚石膜表面的形貌进行了观察分析.通过对刻蚀后形貌差异的比较,探讨了它们各自的刻蚀机理,并从等离子体鞘层理论出发建立了刻蚀模型.
- 吴振辉马志斌谭必松郑先锋汪建华
- 关键词：CVD金刚石膜
- 微波ECR氧等离子体参数测量被引量：3
- 2009年
- 利用双探针对微波ECR氧离子体参数进行了诊断研究,测量了等离子体的双探针伏安曲线并计算出电子温度和离子密度,分析了气压、微波功率、氧气流量等参数对等离子体参数的影响.结果表明:a.随着气压的升高,等离子体密度先增大后减小,电子温度逐渐减小.b.等离子密度随微波功率的增加先增加后达到饱和,电子温度受微波功率影响很小.c.随着氧气流量的增加,等离子体密度和电子温度都减小.
- 谭必松马志斌吴振辉
- 关键词：ECR等离子体电子温度等离子体密度
- 非对称磁镜场电子回旋共振氧等离子体刻蚀化学气相沉积金刚石膜被引量：4
- 2010年
- 分别应用郎缪尔双探针和离子灵敏探针对非对称磁镜场电子回旋共振氧等离子体的电子参数、空间分布和离子参数进行了测量,分析了气压对等离子体参数及空间分布的影响。利用该等离子体在优化的气压条件下对化学气相沉积金刚石膜进行了刻蚀,并研究了刻蚀机理。结果表明：电子温度为5～10 eV,离子温度为1 eV左右,而等离子体数密度在1010cm-3数量级。随气压的升高,电子和离子温度降低,而电子数密度先增大后减小。在低气压下等离子体数密度空间分布更均匀,优化的刻蚀气压为0.1 Pa。刻蚀过程中,离子的回旋运动特性得到了加强,有利于平行于金刚石膜表面的刻蚀,有效地保护了金刚石膜的晶界和缺陷。
- 谭必松马志斌沈武林吴振辉
- 关键词：电子回旋共振刻蚀化学气相沉积
