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文献类型

  • 2篇会议论文
  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇电气工程

主题

  • 5篇衬底
  • 3篇电流扩展
  • 3篇绿光
  • 3篇绿光LED
  • 3篇SI衬底
  • 2篇电极
  • 2篇通孔
  • 2篇硅衬底
  • 2篇N
  • 1篇压强
  • 1篇愈合
  • 1篇色域
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体质量
  • 1篇扩散板
  • 1篇缓冲层
  • 1篇激光
  • 1篇激光光源
  • 1篇光效
  • 1篇光源

机构

  • 6篇中山大学

作者

  • 6篇罗睿宏
  • 4篇王钢
  • 4篇张佰君
  • 4篇刘扬
  • 3篇冼钰伦
  • 3篇卫静婷
  • 3篇范冰丰
  • 3篇招瑜
  • 1篇向鹏

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇第十五届全国...

年份

  • 2篇2011
  • 4篇2008
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
一种新型垂直结构的Si基GaN绿光LED
2008年
为了改善Si基LED的电流扩展问题以及降低其工作电压,阐述了一种工艺简单新型垂直结构的Si基GaN绿光LED(V-LED)。利用ICP在芯片上刻蚀出通孔结构露出n-GaN层和Si衬底层,在通孔上的n-GaN层和Si衬底层蒸镀金属,将n-GaN层和Si衬底层直接导通,形成第一n电极,在减薄的Si衬底背面蒸镀背电极用于形成第二n电极。并且通过改变探针的测试位置,在同一芯片上进行了V-LED与横向导电的LED结构(L-LED)的比较,V-LED展现出了良好的性能,其串联电阻相对降低了10%,在大电流注入的情况下,相对光输出强度也有了提高。
卫静婷张佰君刘扬范冰丰招瑜罗睿宏冼钰伦王钢
关键词:硅衬底通孔电流扩展绿光LED
一种新型垂直结构的硅基GaN绿光LED
为了改善Si基LED的电流扩展问题,以及降低其工作电压,本论文阐述了一种工艺简单的新型垂直结构的Si基GaN绿光LED(V-LED),利用ICP在芯片上刻蚀出通孔结构露出n-GaN层和Si衬底层,在通孔上的n-GaN层和...
卫静婷张佰君刘扬范冰丰招瑜罗睿宏冼钰伦王钢
关键词:SI衬底绿光LED电流扩展
文献传递
一种新型垂直结构的Si基GaN绿光LED
为了改善Si基LED的电流扩展问题以及降低其工作电压,阐述了一种工艺简单新型垂直结构的Si基GaN绿光LED(V-LED)。利用ICP在芯片上刻蚀出通孔结构露出n-GaN层和Si衬底层,在通孔上的n-GaN层和Si衬底层...
卫静婷张佰君刘扬范冰丰招瑜罗睿宏冼钰伦王钢
关键词:硅衬底通孔电流扩展绿光LED
文献传递
侧入直下式背光模组
本发明涉及背光模组技术领域,公开了一种侧入直下式背光模组,它包括侧入光源、侧入直下转换结构和扩散板,侧入光源位于侧入直下转换结构的侧端,扩散板位于侧入直下转换结构上端。本发明由于光源是侧面放置,模组能做的更薄;但经过转换...
王钢罗睿宏
文献传递
Si衬底GaN基材料生长及器件研究
罗睿宏
Si衬底GaN基薄膜的生长方法
本发明公开了一种Si衬底GaN基薄膜的生长方法,在AlN缓冲层等中间结构生长完成后,调节金属有机化学气相沉积系统反应腔压强至50—150mbar,将衬底加热至900-1200℃,生长一高温低压GaN插入层,再在该插入层上...
张佰君罗睿宏向鹏刘扬
文献传递
共1页<1>
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