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汪星
作品数:
15
被引量:1
H指数:1
供职机构:
西安电子科技大学
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
电子电信
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合作作者
刘红侠
西安电子科技大学
费晨曦
西安电子科技大学
赵璐
西安电子科技大学
殷磊
西安电子科技大学
张强
西安电子科技大学
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文献类型
14篇
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电子电信
主题
10篇
场效应
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晶体管
8篇
场效应晶体管
7篇
栅介质
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氧化物半导体
6篇
金属氧化物半...
6篇
金属氧化物半...
6篇
半导体
6篇
半导体场效应...
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衬底
4篇
淀积
4篇
原子层淀积
4篇
介质
4篇
金属栅
4篇
高K栅介质
3篇
栅介质材料
2篇
电介质膜
2篇
多聚焦图像
2篇
多聚焦图像融...
2篇
氧化层
机构
15篇
西安电子科技...
作者
15篇
汪星
10篇
刘红侠
7篇
赵璐
7篇
费晨曦
2篇
王龙
2篇
韩军功
2篇
卓青青
2篇
孔宪光
2篇
陈树鹏
2篇
范小娇
2篇
张强
2篇
殷磊
1篇
张丹
1篇
李伟
1篇
刘永杰
1篇
赵东东
年份
1篇
2020
1篇
2019
2篇
2018
7篇
2017
1篇
2016
2篇
2015
1篇
2013
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基于65nm工艺的环栅抗辐照MOS场效应管
本发明公开了一种基于65nm工艺的环栅抗辐照MOS场效应管,主要解决传统65nm MOS场效应管在总剂量辐照环境下,阈值电压漂移、亚阈值摆幅退化和关态漏电流退化的问题。其包括P型衬底(1)和位于衬底上的外延层(2),外延...
刘红侠
陈树鹏
张丹
陈煜海
刘永杰
王倩琼
赵东东
汪星
文献传递
基于La基栅的LaAlO<Sub>3</Sub>/SrTiO<Sub>3</Sub>异质结场效应晶体管及制作方法
本发明公开了一种基于La基栅结构的LaAlO<Sub>3</Sub>/SrTiO<Sub>3</Sub>异质结场效应晶体管及制作方法,主要解决现有技术中栅电容对器件沟道电荷控制能力弱的问题。其自下而上包括:SrTiO<S...
刘红侠
赵璐
陈煜海
冯兴尧
汪星
费晨曦
文献传递
基于一致性约束非负稀疏表示的多聚焦图像融合方法
本发明提出了一种基于一致性约束非负稀疏表示的多聚焦图像融合方法,用于解决现有技术中存在的融合图像清晰度低和融合复杂度较高的技术问题。其实现步骤是:输入经过配准的源图像;构建源图像的向量化矩阵;构建基于一致性约束的非负稀疏...
张强
汪星
曹运峰
史涛
韩军功
王龙
文献传递
基于锗衬底的La基高介电常数栅介质材料的制备方法
本发明公开了一种基于锗衬底的La基高介电常数栅介质材料的制备方法,主要解决传统材料介电常数低,热稳定性和薄膜致密性差的问题。该栅介质材料自下而上包含界面层(1)、阻挡层(2)、La基高介电常数薄膜(3)和保护层(4),其...
刘红侠
范小娇
费晨曦
卓青青
汪星
尹淑颖
文献传递
基于增强交互方式的远程维修支持系统及方法
本发明提出了一种基于增强交互方式的远程维修支持系统及方法,用于解决现有技术中存在的指导信息准确性差和维修支持效率低的技术问题,实现步骤为:设置专家手势数据的获取参数;手势动作捕捉识别模块获取手势数据;设置手势动作恢复识别...
殷磊
孔宪光
汪星
薛博文
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基于SOI衬底的环栅抗辐照MOS场效应管
本发明公开了一种基于SOI衬底的环栅抗辐照MOS场效应管,其包括Si衬底(1)和位于Si衬底(1)内的埋氧层(2),以及Si衬底(1)上的外延层(3),外延层中部内设有漏区(5),漏区外边界紧邻的外延层上方设有环形栅极(...
刘红侠
刘贺蕾
冯兴尧
陈树鹏
赵璐
汪星
王倩琼
李伟
文献传递
基于Si衬底的La基介质材料高K金属栅结构及制备方法
本发明公开了一种基于Si衬底的La基介质材料高K金属栅结构及制备方法,主要解决传统高K金属栅结构栅氧化层介电常数低和栅极金属向栅氧化层扩散的问题。该高K金属栅结构在Si衬底上自下而上包含La基高k栅介质薄膜(1)、TiN...
刘红侠
汪星
赵璐
冯兴尧
王永特
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原子层淀积La基高k介质材料的性能研究与应用特性研究
在过去的几十年中,微电子技术的发展一直依循着摩尔定律稳步前进。金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)的性能也随着器件尺寸的持续缩小而不断提升。然而,在互补金属氧化物半导体(CMOS)技术发展至45 nm节点时,...
汪星
关键词:
原子层淀积
场效应晶体管
基于一致性约束非负稀疏表示的多聚焦图像融合方法
本发明提出了一种基于一致性约束非负稀疏表示的多聚焦图像融合方法,用于解决现有技术中存在的融合图像清晰度低和融合复杂度较高的技术问题。其实现步骤是:输入经过配准的源图像;构建源图像的向量化矩阵;构建基于一致性约束的非负稀疏...
张强
汪星
曹运峰
史涛
韩军功
王龙
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基于Ge衬底的La基介质材料高K金属栅结构及制备方法
本发明公开了一种基于Ge衬底的La基介质材料高K金属栅结构及制备方法。主要解决传统高K金属栅结构栅氧化层介电常数低和栅极金属向栅氧化层扩散的问题。该结构自下而上包含Ge衬底(1)、La基高k栅介质薄膜(2)、TiN阻挡层...
刘红侠
王永特
赵璐
汪星
费晨曦
冯兴尧
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