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汪明波

作品数：18 被引量：2H指数：1
供职机构：沈阳芯源微电子设备有限公司更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术经济管理更多>>

合作作者

文献类型

  • 16篇专利
  • 2篇期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇经济管理
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 10篇半导体
  • 8篇半导体设备
  • 6篇化学品
  • 5篇晶圆
  • 3篇支臂
  • 3篇涂胶
  • 3篇刻蚀
  • 3篇刻蚀设备
  • 3篇回收
  • 3篇废液
  • 2篇电路
  • 2篇电路制造
  • 2篇药品
  • 2篇粘稠
  • 2篇粘稠度
  • 2篇真空吸盘
  • 2篇三维封装
  • 2篇深孔
  • 2篇喷胶
  • 2篇腔体

机构

  • 18篇沈阳芯源微电...

作者

  • 18篇汪明波
  • 6篇王绍勇
  • 2篇郑春海
  • 2篇郑右非
  • 1篇张怀东
  • 1篇宗润福
  • 1篇邢栗

传媒

  • 1篇电子工业专用...
  • 1篇电子与封装

年份

  • 2篇2016
  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 4篇2012
  • 7篇2011
  • 2篇2010
共 18 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
AZ4620光刻胶的喷雾式涂胶工艺被引量：2
2011年
对于一些MEMS应用,需要在形貌起伏很大的晶圆表面均匀地涂布光刻胶。喷雾式涂胶工艺满足了这些要求。研究了几种稀释的AZ4620光刻胶溶液的雾化喷涂性能,在沈阳芯源微电子设备有限公司KS-M200-1SP喷雾式涂胶机上进行了雾化喷涂试验,分别对裸片及深孔不同尺寸的晶圆进行喷雾式涂胶实验;特别研究了决定喷涂薄膜膜厚和均匀性的光刻胶流量和浓度;实验得到的膜厚和均匀性可以满足图形复杂、有深孔的晶圆。结尾列出了喷雾式涂胶在实际中的一些应用。这些结果证明喷雾式涂胶存在的潜力以及美好前景。
邢栗汪明波
关键词：膜厚均匀性
一种超微雾化喷涂方法
本发明涉及半导体微观结构的加工技术，更具体的说，本发明是一种可以提高产能的化学品雾化喷涂加工工艺方法，解决现有技术中存在的表面均匀性不好，生产率较低等问题。利用超声波或者二流体喷嘴，两个或两个以上喷嘴同态沿X-Y轴做二维...
宗润福汪明波
文献传递
一种生产使用过程中化学品自动供给的管路系统
本发明涉及生产使用的过程中化学药品的供给系统领域，具体地说是一种生产使用过程中化学品自动供给的管路系统。包括控制系统、补液桶、供液罐、控制阀体、电磁阀、产生负压的管路系统、上位液压传感器及下位液压传感器，其中供液罐上设有...
汪明波
文献传递
一种提高涂胶产能的方法
本发明涉及集成电路制造硅片处理技术，具体来说是一种提高涂胶产能的方法，解决现有技术中对硅片喷涂的产能低等问题。首先将加工载体硅片置于承片台上；然后将涂胶胶嘴从与硅片一端对应的起始位置处开始涂胶，涂胶胶嘴喷涂感光胶同时，在...
郑春海郑右非汪明波
文献传递
一种磁悬浮晶圆旋转系统
本发明属于半导体设备领域，具体地说是一种利用磁流体的磁悬浮晶圆旋转系统，包括可升降的上盖支撑架、上盖、磁流体轴承、下腔体及安装在工作台上的驱动电机，驱动电机的输出端连接有下腔体，下腔体通过驱动电机旋转，在下腔体内设有真空...
汪明波
文献传递
硅通孔用光刻胶雾化喷涂技术
2012年
IC 3D集成需要穿透硅互连技术,也就是需要实现晶圆一侧到另一侧的电互连。很多穿透硅互连技术的应用需要在表面起伏很大的晶圆表面光刻图形,这就要先在晶圆表面均匀涂布光刻胶层。文章研究了光刻胶AZ4620的雾化喷涂性能,在沈阳芯源微电子设备有限公司KS-M200-1SP喷雾式涂胶机上进行了雾化喷涂试验,对光刻胶流量、扫描速度、热板温度等工艺参数进行了研究以找到适合硅通孔喷涂的工艺配方。对光刻胶雾化喷涂技术的难点做了探讨并提出加热吸盘的解决方案,找到了得到最佳覆盖性和表面粗糙度的热盘温度。
汪明波王绍勇
关键词：光刻胶
多种化学品分类排放回收系统
本实用新型涉及用于半导体设备上多种化学品的分类排放或回收的装置，具体为一种多种化学品分类排放回收系统，在工艺处理单元的化学品使用后，对要排放的多种化学品进行自动分类排放或回收，多用于半导体制成的显影设备清洗设备刻蚀设备等...
王绍勇汪明波
文献传递
可旋转加热的吸附装置
本发明涉及半导体设备领域，具体为一种可旋转加热的吸附装置，它是晶圆工艺处理时的装载、吸附、加热、旋转等多功能整合为一体的工艺处理装置。该装置设有吸附热板、支撑针驱动装置、旋转滑环、转动轴，转动轴顶部安装吸附热板，晶圆设置...
王绍勇汪明波
晶圆视觉对中单元
本发明涉及半导体设备领域，具体为一种晶圆视觉对中单元，它是晶圆进出工艺处理单元前后必须经过的确保后续安全的单元。本发明多用于半导体制程的涂胶、显影、清洗、刻蚀等需要晶圆高速旋转的设备。该单元设有基板、上下两个隔板、框架、...
汪明波张怀东
文献传递
多种化学品分类排放回收系统
本发明涉及用于半导体设备上多种化学品的分类排放或回收的装置，具体为一种多种化学品分类排放回收系统，在工艺处理单元的化学品使用后，对要排放的多种化学品进行自动分类排放或回收，多用于半导体制成的显影设备清洗设备刻蚀设备等。该...
王绍勇汪明波
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