段林昆
- 作品数：6 被引量：9H指数：3
- 供职机构：昆明理工大学材料与冶金工程学院新材料科学与工程制备与加工重点实验室更多>>
- 发文基金：云南省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术电子电信更多>>
- 磁控溅射Al/Pb纳米多层膜调制结构研究
- 2010年
- 用磁控交替沉积制备Al/Pb纳米多层膜,运用XPS,AFM,TEM考察表面状况及膜结构.结果表明,实验条件下,当Al层厚60 nm时,Pb子层标定厚度从20 nm增至30 nm,可形成较完整埋层调制结构.随Pb层厚度增加,连续性变好、表面糙度降低,Al层对Pb层表面糙度克服能力提高,改善层状结构完整性.多层膜中Al,Pb子层均存在(111)择优取向特征,由fcc结构的表面自由能最小化引起.
- 郭中正孙勇段林昆李玉阁郭诗玫
- 关键词：纳米多层膜调制结构表面粗糙度磁控溅射
- 难混溶Al-Pb系纳米薄膜材料的界面、结构及光学性能研究
- 已知种类达500种以上的难混溶合金(immiscible alloy)系中,许多合金若以适当方法得到合理组织结构,就可能表现出特殊物理和力学性能并可获广泛应用,诸如工程和电子材料。膜技术为难混溶体系的研究和应用提供了更广...
- 段林昆
- 关键词：溅射尺寸效应
- 文献传递
- 磁控溅射共沉积Al-Pb复合薄膜微观结构及电性能被引量：3
- 2009年
- 采用磁控溅射共沉积法制备Al-Pb复合薄膜,运用TEM、SEM、EDX和电阻-温度仪对薄膜微观结构和电性能进行研究。结果表明,Al-Pb薄膜具有温度敏感性,电阻温度系数(TCR)可达8.4×10-3℃-1。薄膜微观结构含富Al基体相和富Pb第二相,呈两相组织。随着厚度的增大,第二相粒子及基体相晶粒粒度增大,界面密度降低,界面电子散射效应减弱,电阻率下降,TCR值增大。与Al膜和移去Al基体形成的Pb膜的电性能对比研究显示,Al-Pb薄膜存在并联导电机制,电阻率受两相电阻率和体积分数的影响。
- 郭中正孙勇段林昆李玉阁彭明军
- 关键词：微观结构温度敏感性电阻温度系数
- Pb/Al金属多层膜的红外性能研究被引量：1
- 2009年
- 利用紫外-可见-近红外分光光度计和傅立叶红外光谱仪分析了用真空磁控溅射技术制备的Al/Pb金属多层膜的对红外光的吸收、反射和透射.结果表明,在近红外200～2500nm波段,多层膜具有良好的吸波特性,在中红外和远红外波段,多层膜呈现出低反射强吸收效果.
- 段林昆孙勇郭中正沈黎
- 关键词：吸波特性
- 溅射沉积Cu-W合金薄膜的结构及力学性能被引量：5
- 2010年
- 用磁控共溅射法制备Cu-W合金薄膜,运用EDX,XRD,TEM,SEM和纳米压痕仪对薄膜成分、结构和力学性能及其关系进行了研究。结果表明,含W较低的Cu82.1W17.9(%,原子分数)和W浓度较高的Cu39.8W60.2薄膜为晶态结构且出现固溶度扩展,分别存在fccCu(W)亚稳过饱和固溶体(固溶度4.8%W)和bccW(Cu)亚稳过饱和固溶体(固溶度5.7%Cu),W含量为31.8%,45.7%,54.8%的Cu-W薄膜呈非晶态,表面粗糙度较晶态Cu-W薄膜低。总体上非晶Cu-W薄膜弹性模量E和硬度H值较低,fccCu-W膜实测E值介于Voigt和Reuss规则预测值之间,bcc和非晶Cu-W膜实测E值分别高于和低于预测值;晶态Cu-W膜实测H值与Voigt规则计算值的符合性优于非晶膜,薄膜结构对力学性能预测可靠性影响较大。
- 郭中正孙勇段林昆郭诗玫李玉阁
- 关键词：微观结构非晶态力学性能
- 难混溶体系Al/Pb金属多层膜的Pb膜微观形貌和生长方式被引量：3
- 2009年
- 用磁控溅射法在载玻片上镀制了难混溶体系Al/Pb金属纳米多层膜,考察了调制波长对Pb膜成膜的影响,借用Philip XL370型扫描电子显微镜研究了成膜质量、表面形貌及膜层断面结构形貌,并采用X射线观测了样品中Al、Pb相的存在形式和膜层结构变化。结果表明,当Pb膜达到一定厚度时,可得到均一、致密的难混溶体系Al/Pb金属纳米多层膜。探讨了膜的形成机理,给出了成核过程模型,并进一步修正了传统成膜机制。
- 段林昆孙勇郭中正沈黎
- 关键词：表面形貌
