徐向东
- 作品数：142 被引量：357H指数：11
- 供职机构：中国科学技术大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：机械工程理学电子电信一般工业技术更多>>
- 全息离子束刻蚀衍射光栅制作
- 本文着重介绍真空紫外闪耀光栅、软X射线Laminar光栅和软X射线自支撑透射光栅的全息离子束刻蚀制作技术,给出相应的研制结果.
- 徐向东洪义麟刘颖傅绍军
- 关键词：全息光刻离子束刻蚀衍射光栅
- 文献传递
- X射线光学进展被引量：3
- 1998年
- Ｘ射线光学的发展，有利于Ｘ射线分析技术的进一步发展，进而提高人们的认识水平．本文从Ｘ射线光源、光学元件和应用领域几方面来概述Ｘ射线光学的最新进展．
- 徐向东付绍军张允武
- 关键词：X射线光学元件
- X射线毛细管及其应用被引量：7
- 1999年
- 介绍了Ｘ射线毛细管光学元件的原理、特征和类型及其在蛋白质晶体学、微束衍射、微束光谱等方面应用新进展．
- 徐向东洪义麟付绍军张允武
- 关键词：X射线衍射毛细管光学元件
- 真空紫外硅闪耀光栅的制作被引量：4
- 2010年
- 利用单晶硅在KOH溶液中的各向异性刻蚀特性,在相对Si(111)面切偏角为5°的单晶片上制作了1200gr/mm的真空紫外闪耀光栅。结合全息干涉曝光以及光刻胶灰化技术,在单晶硅表面得到了小占宽比的高质量光刻胶掩模,用湿法刻蚀将光栅掩模图形转移到单晶硅表面的天然氧化层上,并将其作为硅各向异性湿法刻蚀的掩模,成功获得了接近于理想锯齿槽形的闪耀光栅。用原子力显微镜分析光栅闪耀面,结果表明其表面均方根粗糙度约为0.2nm。在真空紫外波段对其进行衍射效率测量,发现光栅在135nm波长处显示出良好的闪耀特性。此方法可以应用于真空紫外和软X射线波段的光栅制作,在获得较高的槽形效率的同时,可以大大减少其制作难度及成本。
- 盛斌徐向东刘颖洪义麟付绍军
- 关键词：闪耀光栅单晶硅真空紫外掩模
- 一种平面双角闪耀光栅的制作方法
- 本申请提供了一种平面双角闪耀光栅的制作方法，该平面双角闪耀光栅的制作方法，采用全息离子束刻蚀技术，其方法相比较电子束刻蚀技术而言，降低了工艺成本，且制作周期短、重复性好以及可控性高；并且，采用倾斜刻蚀的方式对梯形同质掩模...
- 陈智文邱克强刘正坤徐向东洪义麟付绍军
- 文献传递
- 用于大尺寸衍射光栅的光刻胶残余物的灰化系统研制被引量：4
- 2008年
- 在制作大尺寸厚基底衍射光学元件时,经常需要清除残余底胶,为此我们研制了大尺寸衍射光栅灰化装置.该装置可以在450 mm×450 mm(Ф650 mm)范围内产生均匀性良好的等离子体,通过气体辉光放电来达到去残胶的目的,辉光放电速率可通过调节工作气体的浓度来控制.已用该装置灰化处理了200 mm×400 mm×50mm的脉宽压缩光栅。
- 洪义麟刘良保周小为徐向东付绍军
- 关键词：大尺寸衍射光栅辉光放电灰化
- 具有双反射镜的直接计数式变栅距单光栅光位移传感器
- 本实用新型涉及一种抗电磁干扰的绝对式位移传感器领域，即具有双反射镜的直接计数式变栅距单光栅光位移传感器。解决了现有光位移传感器的连杆连接的反射镜在导轨上移动时有一定的角度误差的问题。本实用新型的改进在于：反射镜为两块，分...
- 刘正坤付绍军洪义麟徐向东刘颖
- 文献传递
- 一种凹面变线距光栅的制备方法及制备系统
- 本申请公开了一种凹面变线距光栅的制备方法及制备系统，该制备方法包括：基于初始曝光参数，对第一基底表面上的第一光刻胶层进行曝光和显影，以形成第一光刻胶光栅；检测得到第一光刻胶光栅聚焦的光斑；当第一光刻胶光栅聚焦的光斑不满足...
- 任涛邱克强刘正坤徐向东洪义麟付绍军
- X射线全息衍射光栅分束器
- 本发明涉及X射线全息衍射光栅分束器。解决了全息光刻方法制作线密度小于100线/mm光栅很不方便的问题。本发明分束器包括光栅基片，光栅基片一侧面上设有工作光栅和调试光栅，调试光栅的栅线包含着工作光栅的栅线，且两者栅线平行，...
- 刘颖谭鑫徐向东洪义麟付绍军
- 文献传递
- 压弯光栅线密度检测被引量：2
- 2006年
- 对压弯光栅的线密度进行了实验研究。首先制作了大变化率的变线距光栅(约9.2 line/mm),并选取薄玻璃(0.16 mm)作为光栅基底材料。其后采用长程面形仪测试压弯后光栅面形,使用衍射法测试压弯前后光栅线密度,从而得到线密度的变化曲线。实验与理论计算结果误差小于0.41 line/mm rms。
- 刘斌楼俊刘正坤王秋平徐向东付绍军
- 关键词：线密度光学检测
