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张瑞婷

作品数:9 被引量:12H指数:2
供职机构:电子科技大学更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 4篇专利
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇电气工程

主题

  • 3篇图形化
  • 3篇钛酸
  • 3篇钛酸锶
  • 3篇钛酸锶钡
  • 3篇刻蚀
  • 3篇基片
  • 3篇BST薄膜
  • 2篇蒸发
  • 2篇射频磁控
  • 2篇射频磁控溅射
  • 2篇铁电
  • 2篇铁电薄膜
  • 2篇钟罩
  • 2篇微电子
  • 2篇污染
  • 2篇溅射
  • 2篇高温加热
  • 2篇BST
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射

机构

  • 9篇电子科技大学

作者

  • 9篇张继华
  • 9篇张瑞婷
  • 9篇杨传仁
  • 9篇陈宏伟
  • 3篇余桉
  • 3篇王波
  • 1篇裴亚芳
  • 1篇梁鸿秋
  • 1篇闻伟

传媒

  • 2篇压电与声光
  • 1篇绝缘材料
  • 1篇材料导报
  • 1篇第十届固体薄...

年份

  • 2篇2011
  • 1篇2009
  • 3篇2008
  • 2篇2007
  • 1篇2006
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
晶化温度对钛酸锶钡薄膜电学性能的影响
采用射频磁控溅射,以铝酸镧(LaAlO3)为基片制备钛酸锶钡(BST)薄膜,研究了不同晶化温度对BST薄膜显微结构、介电特性的影响。研究表明:BST 薄膜在800℃晶化温度下已形成钙钛矿结构,且随着晶化温度的升高,BST...
张瑞婷杨传仁陈宏伟张继华裴亚芳
关键词:晶化温度钛酸锶钡薄膜电学性能射频磁控溅射介电特性
文献传递
一种高温加热的真空蒸发镀膜装置
一种高温加热的真空蒸发镀膜装置,属于电子机械技术领域,本发明包括钟罩、基片夹和设置在基座上的蒸发室,所述蒸发室内设置有加热装置,所述基片夹、蒸发室和加热装置为至少两组;各基片夹安装在基片夹基座上;还包括驱动基片夹基座与基...
杨传仁张瑞婷张继华陈宏伟
文献传递
钛酸锶钡铁电薄膜的制备与性能优化研究被引量:2
2007年
综述了目前钛酸锶钡(BST)铁电薄膜最为常用的4种制备工艺:磁控溅射法(Magnetron Sputtering)、脉冲激光沉积法(PLD)、溶胶-凝胶法(Sol-gel)、金属有机物化学气相沉积法(MOCVD)。并介绍了在优化BST铁电薄膜性能方面所作的工作和取得的成果。
王波杨传仁陈宏伟张继华余桉张瑞婷
关键词:铁电薄膜
一种高温加热的真空蒸发镀膜装置
一种高温加热的真空蒸发镀膜装置,属于电子机械技术领域,本发明包括钟罩、基片夹和设置在基座上的蒸发室,所述蒸发室内设置有加热装置,所述基片夹、蒸发室和加热装置为至少两组;各基片夹安装在基片夹基座上;还包括驱动基片夹基座与基...
杨传仁张瑞婷张继华陈宏伟
文献传递
LaAlO_3(110)基片上BST薄膜的制备及性能研究被引量:1
2009年
采用射频磁控溅射法在LaAlO3(110)单晶基片上制备了钛酸锶钡薄膜材料。薄膜在800℃退火30 min,结晶优良,薄膜与基片匹配良好,同时由于基片的诱导作用,薄膜在(110)方向有一定的择优取向。测得薄膜的剩余极化强度Pr=1.37μC/cm2,矫顽电场强度EC=31.7 kV/cm。对比不同频率下的偏压特性,100 kHz时薄膜具有最高的优值因子F,为23.4。对介电损耗在1 MHz时的增大,作出了初步的解释。
王波杨传仁陈宏伟张继华余桉张瑞婷
关键词:射频磁控溅射
ITO/PLZT薄膜湿法刻蚀研究被引量:8
2008年
介绍了一种锆钛酸铅镧(PLZT)基铟锡氧化物(ITO)薄膜的湿法刻蚀法。用V(HCl)∶V(HNO3)∶V(H2O)=50∶3∶50的混合溶液对ITO进行不同温度的刻蚀试验。通过扫描电子显微镜(SEM)和X-射线能谱仪(EDS)分析表明,在35℃经30 nm/min刻蚀能得到图形边缘质量良好和表面无残留物的ITO图形;在同等条件下刻蚀的PLZT薄膜,刻蚀速率不及ITO的2%,表明该刻蚀方法具有良好的选择性。
闻伟杨传仁张继华陈宏伟梁鸿秋张瑞婷
关键词:湿法刻蚀图形化
铁电薄膜移相器研究进展被引量:1
2007年
铁电薄膜移相器响应速度快、成本低、功耗和体积小,是一种模拟移相器,非常适合应用于相控阵天线特别是共形阵天线。介绍了4种主要的铁电薄膜移相器的结构、原理、性能和特点,指出分布型和全通网络型铁电薄膜移相器具有良好的发展前景,并进一步总结了国内外研究现状和存在的问题,提出了今后的研究方向。
余桉杨传仁张继华陈宏伟王波张瑞婷
关键词:移相器铁电薄膜相控阵天线BST薄膜
用于刻蚀BST薄膜的腐蚀液及制备方法
用于刻蚀BST薄膜的腐蚀液及制备方法,涉及一种可刻蚀高温晶化处理的BST薄膜的腐蚀液,属于微电子技术领域,特别涉及电子薄膜制备技术中的图形化过程。本发明其组分中含有HNO<Sub>3</Sub>,以体积比计算,BHF∶H...
杨传仁张瑞婷张继华陈宏伟
文献传递
用于刻蚀BST薄膜的腐蚀液及制备方法
用于刻蚀BST薄膜的腐蚀液及制备方法,涉及一种可刻蚀高温晶化处理的BST薄膜的腐蚀液,属于微电子技术领域,特别涉及电子薄膜制备技术中的图形化过程。本发明其组分中含有HNO<Sub>3</Sub>,以体积比计算,BHF∶H...
杨传仁张瑞婷张继华陈宏伟
文献传递
共1页<1>
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