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吴锋

作品数:11 被引量:27H指数:3
供职机构:湘潭大学更多>>
发文基金:湖南省自然科学基金国家自然科学基金湖南省科技厅科技计划项目更多>>
相关领域:金属学及工艺轻工技术与工程化学工程政治法律更多>>

文献类型

  • 5篇专利
  • 3篇期刊文章
  • 3篇学位论文

领域

  • 4篇金属学及工艺
  • 1篇化学工程
  • 1篇轻工技术与工...
  • 1篇政治法律

主题

  • 4篇硬质合金
  • 4篇化学机械抛光
  • 4篇机械抛光
  • 3篇刀片
  • 3篇硬质合金刀片
  • 2篇电机
  • 2篇电器
  • 2篇电器控制
  • 2篇电器控制系统
  • 2篇摇摆
  • 2篇摇摆试验
  • 2篇摇篮
  • 2篇润滑
  • 2篇试验台
  • 2篇饲用
  • 2篇饲用复合酶
  • 2篇停机
  • 2篇轴承
  • 2篇主电机
  • 2篇自动停机

机构

  • 11篇湘潭大学
  • 3篇湖南大学
  • 2篇湖南科技大学
  • 2篇浙江工业大学

作者

  • 11篇吴锋
  • 7篇毛美姣
  • 4篇谭志飞
  • 4篇姜胜强
  • 4篇杨世平
  • 3篇胡自化
  • 2篇李敏
  • 2篇袁巨龙
  • 1篇黄师荣
  • 1篇石文卿
  • 1篇陶能国
  • 1篇秦长江

传媒

  • 2篇表面技术
  • 1篇中国机械工程

年份

  • 1篇2019
  • 4篇2018
  • 1篇2017
  • 2篇2016
  • 1篇2015
  • 2篇2013
11 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
轴承摇摆试验控制系统
本发明公开了一种轴承摇摆试验控制系统,包括触摸屏、PLC、润滑系统、变频系统;在触摸屏上设置摇摆周期和轴承电机转速,输入润滑温度范围,试验时间,调节好润滑流量,PLC通过继电器控制系统将油温加热或冷却至设定温度范围内,使...
毛美姣吴锋谭志飞杨世平姜胜强
文献传递
抛光垫特性对硬质合金刀片CMP加工效果的影响被引量:8
2017年
目的研究不同种类的抛光垫对硬质合金刀片表面化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing/Planarization,CMP)加工过程的影响,为实现硬质合金刀片高效精密CMP加工提供有效参考。方法利用Nanopoli-100智能抛光机,通过自制的Al2O3抛光液,分别采用9种不同种类的抛光垫对牌号为YG8的硬质合金刀片进行CMP实验,将0~40、40~80、80~120 min三个加工阶段获得的材料去除率和表面粗糙度进行对比,同时观察最佳的表面形貌,分析抛光垫特性对CMP加工效果的影响。结果在抛光转速60 r/min,抛光压力177.8 k Pa的实验条件下,9种不同类型的抛光垫中仅有5种适合用于YG8硬质合金CMP加工。而且抛光垫的表面粗糙度在YG8刀片CMP加工过程中的影响最为显著,抛光垫表面粗糙度越高,CMP加工的材料去除率越高。此外,抛光垫的使用时间对CMP过程也有影响,抛光垫使用时间越长,CMP的材料去除率越小。结论 YG8硬质合金刀片经5种不同类型抛光垫CMP加工后,其表面的烧伤、裂纹等缺陷均得到了极大改善。当使用细帆布加工40 min时,材料去除率最高,为47.105 nm/min;当使用细帆布加工80min时,表面粗糙度最低,为0.039μm。
毛美姣吴锋吴锋
关键词:化学机械抛光硬质合金刀片抛光垫
基于响应曲面法的YG8硬质合金刀片化学机械抛光工艺参数优化被引量:15
2018年
为了快速确定YG8前刀面抛光的最佳工艺参数,提高加工效率和精度,利用响应曲面法对YG8硬质合金刀片抛光工艺进行优化试验研究。通过单因素试验确定抛光转速、抛光压力、磨粒粒径和磨粒浓度的水平,并对4个工艺参数进行中心复合设计试验。建立了材料去除率RMR和表面粗糙度Ra的预测模型,基于响应曲面法优化工艺参数获得最佳工艺参数为抛光转速65.5 r/min、抛光压力156.7 kPa、磨粒粒径1.1μm、磨粒浓度14%,此时得到了最小表面粗糙度预测值Ra=0.019μm,材料去除率RMR=56.6 nm/min。试验结果表明,基于响应曲面法的材料去除率与表面粗糙度预测模型准确有效。
袁巨龙毛美姣李敏毛美姣李敏胡自化吴锋
关键词:化学机械抛光硬质合金刀片响应曲面法
轴承摇摆试验控制系统
本发明公开了一种轴承摇摆试验控制系统,包括触摸屏、PLC、润滑系统、变频系统;在触摸屏上设置摇摆周期和轴承电机转速,输入润滑温度范围,试验时间,调节好润滑流量,PLC通过继电器控制系统将油温加热或冷却至设定温度范围内,使...
毛美姣吴锋谭志飞杨世平姜胜强
文献传递
一种以莲子壳为原料生产饲用复合酶的方法
本发明公开了一种以莲子壳为原料生产饲用复合酶的方法,它包括以下步骤:菌种选取;菌种培养;发酵处理,得到饲用复合酶。本发明具有的有益的效果是:1.对大量菌株进行筛选得到能利用莲子壳生产高酶活复合酶的棘孢曲霉;2.以莲子壳为...
陶能国吴锋石文卿黄师荣
文献传递
农村文化管理存在的问题及对策——以怀化市鹤城区为例
随着我国文化管理体制改革的不断推进,农村文化管理创新也取得了一部分成效,丰富了文化的内涵,也拓宽了文化发展的路径,但是,依然不可避免的存在一些问题,尤其是农村文化管理的后劲不足,这严重影响了农村文化的发展,因此,在新农村...
吴锋
关键词:惠农政策社会风气新农村建设
YG8硬质合金刀片CMP机理及工艺参数优化研究
硬质合金刀具以其高硬度、高耐磨性等优良性能成为高速和超高速切削加工领域的主流刀具,随着高速切削技术的不断发展,对硬质合金刀具的切削性能提出了更高的要求,而刀片表面质量成为制约刀具高速切削精度和使用寿命的关键因素之一。化学...
吴锋
关键词:化学机械抛光材料去除机理响应曲面法
轴承摇摆试验装置
本发明公开了一种轴承摇摆试验装置,包括摇摆试验台底架、传动系统、角度调整与指示系统和摇篮支架,摇摆试验台底架与摇篮支架相连,并由其上的主电机通过传动系统带动摇篮支架摇摆,摇篮支架用于安装被试轴承,角度调整与指示系统用于调...
毛美姣吴锋谭志飞杨世平姜胜强
文献传递
硬质合金刀具材料化学机械抛光机理研究被引量:5
2019年
目的研究硬质合金刀具材料化学机械抛光(CMP)机理,为改善硬质合金刀具表面质量提供理论支持。方法分析硬质合金刀具材料在酸性抛光液中的化学反应,研究硬质合金刀具材料CMP的化学反应机理。基于接触力学理论计算抛光垫与工件的实际接触面积和单个磨粒的实际切削面积,在运动学分析的基础上,建立硬质合金刀具材料CMP的材料去除率模型,通过实验验证材料去除率模型的有效性。结果在酸性抛光液中,硬质合金被氧化成Co_3O_4。当工件、抛光垫、磨粒类型、工件安装位置确定时,材料去除率与抛光载荷、磨粒浓度和抛光盘转速有关。常用硬质合金抛光条件下,抛光YG8刀具的修正系数Kcm为8.53,抛光后刀具的最低表面粗糙度能达到48nm,材料去除率为62.381nm/min,材料去除率的理论值和实验值的最大相对误差为13.25%,消除了表面缺陷,获得了较好的镜面效果。结论建立的材料去除率模型具有一定的有效性,对硬质合金刀具材料进行化学机械抛光能消除刀具的表面缺陷,改善表面质量。
袁巨龙毛美姣李敏毛美姣李敏吴锋
关键词:硬质合金刀具化学机械抛光化学反应材料去除率
轴承摇摆试验装置
本发明公开了一种轴承摇摆试验装置,包括摇摆试验台底架、传动系统、角度调整与指示系统和摇篮支架,摇摆试验台底架与摇篮支架相连,并由其上的主电机通过传动系统带动摇篮支架摇摆,摇篮支架用于安装被试轴承,角度调整与指示系统用于调...
毛美姣吴锋谭志飞杨世平姜胜强
文献传递
共2页<12>
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