吕蓬
- 作品数：17 被引量：22H指数：4
- 供职机构：华侨大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划福建省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信文化科学机械工程更多>>
- 磁控溅射掺Er SiN薄膜的光致荧光谱
- 2008年
- 采用磁控溅射法生长了掺Er SiN薄膜,在高温退火后测试了薄膜的光致荧光谱。薄膜在可见光区域以及红外光区域都表现出了很强的光致发光,观察到了Er离子各高能级到基态的跃迁。对样品进行了RBS等物性分析,给出了薄膜的元素组成,并对Er离子的跃迁发光机制进行了讨论。
- 丁武昌郑军左玉华成步文余金中王启明郭亨群吕蓬申继伟
- 关键词：氮化硅铒
- 纳米Si/SiN_x薄膜的制备及对Nd∶YAG激光器的被动调Q被引量：4
- 2008年
- 为了研究纳米硅镶嵌氮化硅薄膜材料的被动调Q特性,采用射频磁控反应溅射法结合热退火处理在单晶硅衬底上制备该薄膜,用该样品作为可饱和吸收体,在凹-平腔中实现了氙灯抽运Nd∶YAG激光器的被动调Q运转,在抽运重复频率1Hz情况下获得脉宽最小可达19ns的调Q单脉冲输出。并且研究了该薄膜结构特性、激光器参数,如抽运电压、腔长对调Q脉冲输出性能产生的影响。在此基础上,对实验现象产生的原因做了分析讨论。结果表明,纳米硅镶嵌氮化硅薄膜有一定的调Q效果,具有潜在的研究及应用价值。
- 吕蓬郭亨群王加贤李立卫申继伟
- 关键词：激光技术射频磁控反应溅射ND:YAG激光器被动调Q
- 纳米Si镶嵌SiN_x薄膜实现Nd:YAG激光器被动锁模被引量：7
- 2007年
- 采用射频磁控溅射技术和热退火处理技术制备了石英衬底的纳米Si镶嵌SiNx薄膜(nc-Si-SiNx),薄膜厚度为200 nm.由X射线衍射(XRD)谱计算得出,经800℃连续3 h退火的薄膜中的Si晶粒平均尺寸为1.7 nm.把纳米Si镶嵌SiNx薄膜作为可饱和吸收体插入闪光灯抽运的平凹腔Nd∶YAG激光器内,实现1.06μm激光的被动锁模运转.当激光器腔长为120 cm时,获得平均脉冲宽度32 ps,输出能量25 mJ的单脉冲序列,脉冲序列的包络时间约480 ns,锁模调制深度接近100%.量子限域效应使得纳米Si的能隙宽度大于1.06μm光子能量,所以双光子饱和吸收和光生载流子的快速能量弛豫是导致纳米Si镶嵌SiNx薄膜实现1.06μm激光被动锁模的主要原因.
- 王加贤郭亨群李立卫吕蓬
- 关键词：激光技术纳米硅被动锁模双光子吸收
- 纳米硅镶嵌氮化硅薄膜的制备与光致发光特性被引量：2
- 2007年
- 为研究氮化硅薄膜发光材料的制备工艺及其光致发光机制,实验采用射频磁控反应溅射技术与热退火处理制备了纳米硅镶嵌氮化硅薄膜材料。利用红外光谱(IR)、X射线衍射谱(XRD)、能谱(EDS)和光致发光谱(PL),对不同工艺条件下薄膜样品的成分、结构和发光特性进行研究,发现在制备的富硅氮化硅薄膜材料中形成了纳米硅颗粒,并计算出其平均尺寸。在510 nm光激发下,观察到纳米硅发光峰,对样品发光机制进行了讨论,认为其较强的发光起因于缺陷态和纳米硅发光。
- 申继伟郭亨群曾友华吕蓬王启明
- 关键词：射频磁控反应溅射氮化硅薄膜纳米硅光致发光
- 一种斜视调频连续波SAR的改进的波数域成像算法
- 本发明涉及一种斜视调频连续波合成孔径雷达(Bistatic Synthetic Aperture Radar‑SAR)的改进的波数域成像算法，包括：构造斜视模式下的斜距表达式；将所述斜距对应的调频连续波SAR的回波信号进...
- 谭鸽伟杨晶晶潘光武吕蓬李梦慧
- 文献传递
- 布拉格衍射实验的类比教学研究被引量：2
- 2014年
- 布拉格衍射实验是近代物理实验中重要的实验教学课题之一.在该实验课程教学中有针对性地安排用X射线和微波来研究布拉格衍射现象,这两种实验在教学中各有特色,也各有不足.但同步开展这两个实验项目能各取所长,优势互补,有效激发学生兴趣,促进对抽象理论的理解,提高实验研究能力的培养.这种类比形式的实验教学方式是一种实验教学上的创新.
- 吕蓬廖坤山陈宏斌
- 关键词：布拉格衍射X射线微波实验教学
- 一种曲线运动轨迹SAR的切比雪夫斜距模型和Chirp Scaling成像方法
- 本发明公开了一种曲线运动轨迹SAR的切比雪夫斜距模型和Chirp Scaling成像方法，包括：依据SAR系统的几何模型和运动方程，建立曲线运动轨迹模式下的斜距表达式；利用切比雪夫多项式对所述斜距表达式进行四阶近似；推导...
- 谭鸽伟孟亭亭潘光武吕蓬李梦慧杨晶晶
- 具有恒加速度的双基SAR的改进RD算法
- 本发明针对具有恒加速度的双基合成孔径雷达(Bistatic Synthetic Aperture Radar，BiSAR)实时成像的要求，提出了一种改进的RD算法。首先对斜距利用Chebyshev多项式展开为高阶幂级数形...
- 谭鸽伟李梦慧潘光武吕蓬杨晶晶
- 文献传递
- 纳米硅镶嵌氮化硅薄膜的制备及非线性光学性质研究被引量：5
- 2008年
- 采用射频磁控反应溅射法结合热退火处理技术制备纳米硅镶嵌氮化硅(nc-Si/SiNx)复合薄膜。通过X射线能谱(EDS)、红外光谱(IR)、X射线衍射(XRD)及紫外-可见吸收光谱(UV-vis)的测定,对薄膜进行了组分、键合状态、结构及光学带隙的表征。采用皮秒激光运用单光束Z扫描技术开展了对该复合薄膜的非线性光学性质的研究,测得其三阶非线性折射率系数和非线性光吸收系数分别为10-8esu和10-8m/W量级,并将薄膜这种三阶光学非线性增强的原因归因于量子限域效应。
- 吕蓬郭亨群申继伟王启明
- 关键词：射频磁控反应溅射光学非线性量子限域效应Z扫描
- 纳米Si-SiN<,X>复合薄膜发光与非线性光学性质的研究
- 半导体硅基材料是电子技术、信息技术领域最为重要的基础材料之一。近年来，研究和开发以硅为基质材料的光子器件乃至实现光电集成(OEIC)已成为半导体光电子学领域需攻克的重大课题。在众多的硅基材料中，氮化硅作为一种典型的硅基材...
- 吕蓬
- 关键词：光学性质硅基材料
- 文献传递
