叶丽娜
- 作品数：17 被引量：85H指数：6
- 供职机构：山东大学物理学院晶体材料国家重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金山东省自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程更多>>
- 聚合物基片对柔性有机发光器件性能的影响被引量：2
- 2003年
- 以聚合物基片柔性ITO膜为透明电极,制备了ITO/TPD/Alq3/Al结构柔性有机发光器件,并与在相同条件下制备的玻璃基片相同结构器件作了比较。研究了不同基片对有机材料及器件性能的影响,指出选择不易吸湿、耐温高、热胀系数小的聚合物材料,提高柔性ITO膜的附着力和导电性,结合柔性ITO膜的具体特性,优化有机层的蒸镀条件,是提高柔性有机发光器件发光亮度和稳定性的重要途径。
- 赵俊卿韩圣浩解士杰姜雪宁夏广瑞叶丽娜
- 关键词：有机发光器件光电特性透光率紫外-可见分光光度计原子力显微镜
- 射频磁控溅射法制备ZnO∶Zr透明导电薄膜的方法
- 本发明涉及一种射频磁控溅射法制备ZnO:Zr透明导电薄膜的方法，属于电子材料技术领域。首先将纯度均为99.99WT%的ZnO和ZrO<Sub>2</Sub>粉末按重量比99∶1-90∶10充分混合，压制成型后，在空气中1...
- 韩圣浩吕茂水叶丽娜庞智勇修显武
- 文献传递
- 掺钼的氧化锌透明导电薄膜及其制备方法
- 本发明涉及一种掺钼的氧化锌透明导电薄膜及其制备方法，属于电子材料技术领域。将纯度为99.99wt%的ZnO和MoO<Sub>3</Sub>粉末按重量比99∶1-95∶5充分混合，压制成型后，在空气中800℃-1300℃下...
- 韩圣浩修显武庞智勇吕茂水叶丽娜林亮
- 文献传递
- 有机薄膜衬底 ITO 透明导电膜的制备及光电特性的研究被引量：6
- 1998年
- 采用真空反应蒸发技术，在有机薄膜基片上制备出高质量的ＩＴＯ透明导电薄膜，对薄膜的结构和光电特性进行了研究。制备的最佳薄膜在可见光范围的平均透过率达８４％，电阻率为８．２３×１０－４Ωｃｍ，载流子浓度为１．７２×１０２０ｃｍ－３。
- 马瑾李淑英马洪磊赵俊卿叶丽娜
- 关键词：ITO透过率电阻率载流子浓度
- 柔性衬底ITO导电膜的低温制备及特性研究被引量：7
- 2000年
- 用真空反应蒸发技术在有机薄膜衬底上制备出ITO透明导电薄膜 ,对薄膜的低温制备 (80～ 2 4 0℃ )、结构和光电特性进行了研究。制备的薄膜为多晶膜 ,具有纯三氧化二铟的立方铁锰矿结构 ,最佳取向为 (111)方向。薄膜在可见光区的最低电阻率为 6 .6 3× 10 - 4Ω·cm ,透过率达到 82 %。
- 马瑾赵俊卿叶丽娜田茂华马洪磊
- 关键词：柔性衬底透明导电膜ITO薄膜
- 有机层厚度对柔性衬底OLED性能的影响被引量：1
- 2008年
- 采用真空热蒸发的方法制备出具柔性衬底和ITO/TPD/Alq3/Al结构的有机电致发光器件(OLED)。利用原子力显微镜(AFM)研究了制备条件对有机层结构形貌的影响。通过改变有机层的厚度,研究了有机层厚度对柔性OLED工作电压、发光效率等性能的影响。同时发现分别增大空穴传输层TPD或发光层Alq3的厚度都会提高器件的工作电压。发光层Alq3厚度的增大还能引起发光效率的提高,而TPD厚度的增大对发光效率的影响则是复杂的。对于上述现象用遂穿理论以及直接带模型进行了解释并对制备高亮度、高效率及低耗的柔性OLED具有一定的指导意义。
- 叶丽娜夏广瑞赵俊卿庞智勇
- 关键词：工作电压发光效率
- 有机层厚度对OLED性能的影响被引量：1
- 2005年
- 采用真空蒸发的方法制备出玻璃衬底ITO／TPD／Alq／A1结构的有机发光器件(OLED)。改变有机层的厚度, 比较不同厚度下OLED的各项性能的差异,包括工作电压,发光效率。实验发现无论增大空穴传输层TPD的厚度 抑或是发光层Alq的厚度都会增大器件的工作电压。发光层Alq厚度的增大还能引起发光效率的增大,而TPD厚 度的增大对发光效率的影响则是复杂的。对于上述现象用隧穿理论以及直带模型进行了解释。对制备高亮度, 高效率低损耗的OLED具有指导意义。
- 夏广瑞韩圣浩赵俊卿修显武吕茂水叶丽娜解士杰
- 关键词：有机LED工作电压发光效率
- 真空蒸镀双层有机电致发光器件及其稳定性被引量：27
- 2001年
- 以 8 -羟基喹啉铝 (Alq3)为发光层 ,成功地制备成 ITO(铟锡氧化物 ) / TPD(2 -甲基 - 4-苯基联苯二胺 ) / Alq3/ Al结构的双层有机发光器件 .与 ITO/ Alq3/ Al结构器件相比 ,其亮度和稳定性明显增加 ,阈值电压有所增大 .通过一定电压下工作电流随时间的变化测定了器件的稳定性 。
- 赵俊卿解士杰韩圣浩杨志伟叶丽娜杨田林
- 关键词：有机发光器件真空蒸镀稳定性
- ZnO:Mo透明导电薄膜及其制备方法
- 本发明涉及一种ZnO:Mo透明导电薄膜及其制备方法，属于电子材料技术领域。将纯度为99.99wt％的ZnO和MoO<Sub>3</Sub>粉末按重量比99∶1－95∶5充分混合，压制成型后，在空气中800℃－1300℃下...
- 韩圣浩修显武庞智勇吕茂水叶丽娜林亮
- 文献传递
- 柔性衬底ITO膜的性质与制备参数关系的研究被引量：18
- 2001年
- 用偏压磁控溅射法在水冷PPA(PolypropyleneAdipate)聚脂胶片上制备了性能优良的ITO(IndiumTinOxide)透明导电膜 ,对薄膜的光电性质进行了研究。制备样品的相对透过率为 80 %左右、最小电阻率为 6 .3× 10 -4 Ωcm ,与衬底附着良好。当衬底负偏压为 40V时 ,晶粒平均尺寸最大为 5 5nm ,相应地自由载流子霍耳迁移率有最大值为 89 3cm2 /Vs,薄膜的电阻率有最小值。X射线衍射表明薄膜为多晶纤锌矿结构 ,垂直于衬底的C轴具有 [2 2 2 ]方向的择优取向 ,随衬底负偏压的增大 ,沿 [4 0 0 ]方向生长的晶相减少。最佳衬底负偏压取值范围为 2 0～ 40V。XPS分析表明随衬底负偏压的增大 ,薄膜中的氧空位浓度最大 。
- 杨志伟韩圣浩杨田林叶丽娜马洪磊韩锡贵
- 关键词：光电性质溅射柔性衬底ITO膜
