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邓晓

作品数:32 被引量:19H指数:3
供职机构:同济大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家科技支撑计划国家教育部博士点基金更多>>
相关领域:机械工程电子电信一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 18篇专利
  • 13篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 11篇机械工程
  • 7篇电子电信
  • 6篇一般工业技术
  • 6篇理学
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇文化科学

主题

  • 18篇光栅
  • 14篇原子
  • 11篇光刻
  • 9篇激光
  • 8篇原子光刻
  • 8篇驻波场
  • 6篇光源
  • 5篇光栅干涉仪
  • 5篇干涉仪
  • 4篇相干
  • 4篇相干光
  • 4篇相干光源
  • 4篇标准物质
  • 3篇衍射
  • 3篇原子力显微镜
  • 3篇原子束
  • 3篇节距
  • 3篇计量学
  • 3篇AFM
  • 2篇单纵模

机构

  • 32篇同济大学
  • 3篇教育部
  • 3篇上海市计量测...
  • 2篇中国计量大学
  • 1篇南京理工大学
  • 1篇苏州大学
  • 1篇天津大学
  • 1篇中国计量科学...
  • 1篇浙江水利水电...
  • 1篇中国计量测试...

作者

  • 32篇邓晓
  • 25篇程鑫彬
  • 24篇李同保
  • 6篇刘杰
  • 4篇马艳
  • 3篇雷李华
  • 3篇邓晓
  • 2篇陈杰
  • 2篇王建波
  • 2篇张萍萍
  • 2篇傅云霞
  • 2篇马蕊
  • 1篇吴子若
  • 1篇张众
  • 1篇李文斌
  • 1篇蒋励
  • 1篇黄迪
  • 1篇何涛
  • 1篇殷聪
  • 1篇江涛

传媒

  • 5篇红外与激光工...
  • 3篇计量科学与技...
  • 2篇光学精密工程
  • 1篇计量学报
  • 1篇光学学报
  • 1篇纳米技术与精...

年份

  • 5篇2024
  • 10篇2023
  • 5篇2022
  • 2篇2021
  • 3篇2020
  • 3篇2018
  • 1篇2015
  • 3篇2014
32 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种具备自溯源角度的二维光栅标准物质及其制备方法
本发明涉及一种具备自溯源角度的二维光栅标准物质及其制备方法,该方法具体为:掩膜版基板的设计和加工,掩膜版基板上开有四个窗口(3),四个相同大小的窗口(3)在掩膜版基板中间区域呈十字形对称分布;掩膜版的制造,采用激光汇聚原...
程鑫彬邓晓唐朝辉肖光旭尹志珺李同保
一种平板位移式计量型原子力显微镜及其使用方法
本发明涉及一种平板位移式计量型原子力显微镜及其使用方法,包括自溯源光栅干涉仪(1)、XY纳米位移台(2)、XY粗调台(3)、原子力测头(4)和基座(5),基座(5)上设有XY粗调台(3)和龙门架(6),XY纳米位移台(2...
邓晓
一种用于加速度振动传感器的校准方法
本发明涉及一种用于加速度振动传感器的校准方法,方法采用一种用于加速度振动传感器的校准装置,方法包括以下步骤:S1、将待校准振动传感器以待校准轴与激振方向平行的姿态固定于水平滑台上;S2、采用信号采集与传输设备,对自溯源光...
邓晓程鑫彬常郅坤林子超李同保
一种自溯源型光栅干涉精密位移测量系统
本发明涉及一种自溯源型光栅干涉精密位移测量系统,包括相干光源、光电探测模块、自溯源光栅和信号处理模块,所述自溯源光栅设置于待测的位移运动平台上,所述相干光源、光电探测模块和信号处理模块依次连接,所述相干光源产生的激光经光...
邓晓程鑫彬林子超顾振杰姚玉林李同保
文献传递
一种基于拼接原子光刻技术的大面积自溯源光栅制备方法
本发明涉及一种基于拼接原子光刻技术的大面积自溯源光栅制备方法,包括以下步骤:基于原子光刻技术在基板上进行一次原子光刻,获得原子光刻光栅样板;至少循环执行一次以下操作:利用光阑的限位作用,保持会聚光指向不变,将主透镜及当前...
程鑫彬邓晓谭文肖光旭唐朝辉林子超李同保
一种具备自溯源角度的二维光栅标准物质及其制备方法
本发明涉及一种具备自溯源角度的二维光栅标准物质及其制备方法,该方法具体为:掩膜版基板的设计和加工,掩膜版基板上开有四个窗口(3),四个相同大小的窗口(3)在掩膜版基板中间区域呈十字形对称分布;掩膜版的制造,采用激光汇聚原...
程鑫彬邓晓唐朝辉肖光旭尹志珺李同保
基于自溯源光栅的自混合计量型位移测量装置和方法
本发明涉及一种基于自溯源光栅的自混合计量型位移测量装置和方法,所述的装置包括:激光光源,用于发出单纵模的激光;光学元件,用于调节发出激光的会聚程度;光衰减器,用于对激光进行光强的衰减;自溯源光栅,根据衰减后的激光产生一级...
程鑫彬顾振杰邓晓谢张宁
原子纳米光刻中双层光学掩膜的实现方法研究被引量:2
2014年
利用原子光刻的方法制备纳米结构的光栅已经成为了一种较为成熟的工艺。通过原子与激光驻波场的相互作用,利用原子自生在势能场中的偶极力对原子的密度进行调制,从而得到所需要的光栅结构。利用此种工艺所制备的光栅相对于传统工艺来说具有精度高,光栅常数直接溯源于原子能级。希望能够通过对激光的改良来提升原子沉积结果。通过双层驻波场来提高原子沉积质量已经被多次提到。实验中利用几何光学的方法实现了所需要的新型激光驻波场。并对其汇聚,相干等特性进行了研究,取得了较为满意的结果。为利用双层驻波场来沉积原子打下了基础。
陈晟马艳张萍萍王建波邓晓肖盛炜马蕊李同保
关键词:原子光刻几何光学
一种二维原子光刻栅格结构制备方法
本发明涉及一种二维原子光刻栅格结构制备方法,包括以下步骤:基于原子光刻技术在基板上进行第一次原子光刻,得到一维原子光刻沉积光栅样板;利用光阑的限位作用,保持会聚光指向与光栅样板的平面法向量指向不变,将光栅样板旋转角度θ;...
程鑫彬邓晓李同保刘杰朱立
文献传递
基于单路利特罗型光栅干涉仪的超精密位移测量技术研究
2024年
基于光栅干涉仪的超精密位移测量技术是先进制造领域的关键共性技术,采用更高刻线密度的光栅是提升光栅干涉仪测量精度与分辨率的有效途径。随着电子束制备光栅技术的提升,采用电子束加工高刻线密度光栅(大于3000线/mm)作为测量基准是优化干涉仪性能的有效途径。利用3333线/mm的高刻线密度电子束直写光栅,采用单路利特罗光栅干涉构型,搭建了原始信号周期为300nm的光栅干涉仪,验证了其在位移测量方面的准确性与稳定性。单路利特罗光栅干涉仪与激光干涉仪比对装置为后续光栅间距标定提供了新的可能性,是电子束直写型高刻线密度光栅在精密位移测量领域的有益探索。
朱宏宇吴益泽冯婧桐林子超禹静薛栋柏邓晓邓晓
关键词:计量学光栅干涉仪激光干涉仪
共4页<1234>
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