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董志武

作品数：3 被引量：7H指数：1
供职机构：武汉大学化学与分子科学学院更多>>
相关领域：化学工程理学电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇化学工程
  • 1篇电气工程
  • 1篇理学

主题

  • 3篇电解
  • 3篇电解槽
  • 3篇水电解
  • 3篇水电解槽
  • 3篇离子
  • 3篇离子对
  • 2篇杂质离子
  • 2篇NAFION...
  • 1篇电解水
  • 1篇电解水制氢
  • 1篇制氢
  • 1篇活性位
  • 1篇NI^2+
  • 1篇MG^2+
  • 1篇槽电压

机构

  • 3篇武汉大学

作者

  • 3篇周元全
  • 3篇董志武

传媒

  • 1篇化工学报
  • 1篇工厂动力
  • 1篇第五届全国氢...

年份

  • 2篇2005
  • 1篇2004
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
杂质离子对固体聚合物电解质水电解槽性能的影响
文章研究了Ni<'2+>、Cu<'2+>、Ca<'2+>、Mg<'2+>等杂质离子对固体聚合物水电解槽性能的影响.在电解槽阳极室中分别加入这些杂质离子的硫酸盐,分析槽电压、阳极和阳极电势随时间的变化关系.结果显示杂质离子...
董志武周元全
关键词：杂质离子NAFION膜电解水制氢水电解槽
文献传递
杂质离子对固体聚合物电解质水电解槽性能的影响被引量：7
2005年
研究了Ni2+、Cu2+、Ca2+、Mg2+等杂质离子对固体聚合物水电解槽性能的影响. 在电解槽阳极室中分别加入这些杂质离子的硫酸盐, 分析槽电压、阳极和阴极电势随时间的变化关系. 结果显示杂质离子对电解槽有极大的损害. 槽电压的迅速上升主要是由于阴极超电势的增加而造成. 其原因是Ni2+、Cu2+ 在阴极催化剂与Nafion膜的界面上沉积为金属, 覆盖阴极催化剂, 减小了反应活性位; 而Ca2+、Mg2+则形成一层导电性差的氢氧化物膜, 不但覆盖催化剂, 减小了反应活性位, 而且增加了阴极催化剂与Nafion膜界面的接触电阻, 导致阴极超电势的迅速增高.
董志武周元全
关键词：杂质离子水电解槽电压
杂质离子对固体聚合物电解质水电解槽性能的影响
2005年
文章研究Ni%^2+、Cu^2+、Ca^2+、Mg^2+等杂质离子对固体聚合物水电解槽性能的影响。在电解槽阳极室中分别加入这些杂质离子的硫酸盐，分析槽电压、阳极和阴极电势随时间的变化关系。结果显示杂质离子对电解槽有极大的损害。槽电压的迅速上升主要是由于阴极超电势的增加而造成，其原因是Ni^2+、Cu^2+在阴极催化剂与Nafion膜的界面上沉积为金属，覆盖阴极催化剂，减小了反应活性位，而Ca^2+、Mg^2+则形成一层导电性差的氢氧化物膜，不但覆盖催化剂，减小了反应活性位，而且增加了阴极催化剂与Nafion膜界面的接触电阻，导致阴极超电势的迅速增高。
董志武周元全
关键词：水电解槽离子对NAFION膜MG^2+NI^2+活性位
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