您的位置: 专家智库 > >

杨鑫鑫

作品数:2 被引量:2H指数:1
供职机构:南京大学电子科学与工程学院更多>>
发文基金:江苏省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇等离激元
  • 1篇氧化钒薄膜
  • 1篇硫化
  • 1篇硫化钼
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇二氧化钒
  • 1篇二氧化钒薄膜
  • 1篇发光
  • 1篇VO2薄膜
  • 1篇表面等离激元

机构

  • 2篇南京大学

作者

  • 2篇杨鑫鑫
  • 2篇魏晓旭
  • 2篇王军转
  • 2篇施毅
  • 1篇郑有炓

传媒

  • 1篇物理学报

年份

  • 2篇2013
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
表面等离激元效应增强的硫化钼光致发光
MoS2,一个层状的准二维硫化物材料[1],它的电学[2]和光学[3]的特性一直备受人们的关注.尤其是单层的硫化钼是直接带隙半导体,在发光领域将得到很好应用.我们的单层和多层硫化钼样品是从块状硫化钼上剥离,将其制备在具有...
魏晓旭杨鑫鑫邱浩霍达王军转王欣然胡勇施毅
高温氢退火还原V2O5制备二氧化钒薄膜及其性能的研究被引量:2
2013年
过渡金属氧化物二氧化钒(VO2)在温度340 K附近会发生金属绝缘体的转变(metal-insulator transition,MIT).基于金属绝缘体的转变性质,VO2薄膜材料具有很好的应用前景.本文首先采用脉冲激光沉积制备了高质量的V2O5薄膜,再通过高温氢退火还原V2O5薄膜制备出VO2多晶薄膜.研究了不同的退火温度、退火时间、退火气氛对VO2薄膜制备的影响,采用X射线衍射、X射线光电子能谱、变温电阻特性测量等手段对样品进行分析,发现在H2(5%)/Ar退火气氛下,在一定的退火温度范围内(500—525 C),退火3 h,得到了B相和M相共存的VO2薄膜,具有M相的VO2的MIT特性,而相同退火温度下退火时间达到4.5 h,薄膜完全变成B相的VO2.通过纯Ar气氛下对B相VO2再退火,得到了转变温度为350 K,电阻突变接近4个数量级的M相的VO2薄膜.实现了VO2的B相和M相的相互转变.
杨鑫鑫魏晓旭王军转施毅郑有炓
关键词:VO2薄膜
共1页<1>
聚类工具0