李莉
- 作品数：3 被引量：13H指数：2
- 供职机构：中南大学物理与电子学院更多>>
- 发文基金：湖南省科技重大专项长沙市科技计划项目更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术更多>>
- 溅射气压对ZnO透明导电薄膜光电性能的影响被引量：10
- 2009年
- 采用射频磁控溅射方法,在普通玻璃上制备了具有高度c轴取向的ZnO薄膜,研究了溅射气压(0.2～1.5Pa)对ZnO薄膜的微观结构和光电性能的影响。AFM、XRD、UV-Vis分光光度计及四探针法研究表明:随着溅射气压的增大,ZnO薄膜沿c轴方向的结晶质量提高,晶粒细化,薄膜表面更加致密,晶粒大小更加均匀;ZnO薄膜在400～900nm范围内的平均透过率均高于85%,其中在0.5～1.5Pa范围内其透过率高于90%;样品在高纯氮气气氛中经350℃,300s退火后,电阻率最低达到10-2Ω·cm量级。
- 周继承李莉
- 关键词：射频磁控溅射ZNO薄膜溅射气压透明导电薄膜
- ZAO透明导电薄膜的制备与特性研究
- 随着太阳能光伏电池、LED、平板显示/(FPD/)等产业的迅速发展,透明导电氧化物薄膜/(TCO/)也随之壮大、发展起来,其中ZnO：Al/(ZAO/)透明导电薄膜凭借其优良的光学和电学特性而备受人们关注。与传统的ITO...
- 李莉
- 关键词：磁控溅射透过率导电性
- 文献传递
- 氧气流量对TiO_x薄膜结构和光学特性的影响被引量：3
- 2010年
- 用直流反应磁控溅射法在未加热的玻璃基片上制备出晶态TiOx(x<2)薄膜,研究关键工艺因素即氧气流量对薄膜的沉积速率、表面形貌、显微结构和光学特性的影响。研究结果表明:随着氧气流量增加,薄膜的沉积速率从38.54nm/min下降到3.28nm/min,溅射模式也从转变模式过渡到氧化模式,薄膜表面均方根粗糙度逐渐减小,表面更趋平整;当氧气流量≤5mL/min时,得到不透明的晶态TiOx(x<2)薄膜;当氧气流量>5mL/min时,所沉积的TiOx薄膜呈透明非晶态,薄膜平均透射率高于80%。
- 周继承荣林艳赵保星李莉
- 关键词：直流反应磁控溅射
