施立群
- 作品数：52 被引量：84H指数：4
- 供职机构：复旦大学现代物理研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金上海市教育委员会重点学科基金中国工程物理研究院基金更多>>
- 相关领域：理学核科学技术一般工业技术金属学及工艺更多>>
- Zr-Co薄膜中的氦行为
- 2015年
- Zr-Co是迄今为止研究较多、性能较好的储氚材料，材料中的氚会自发衰变生成3He．随着材料中。He的积累，氦会逐渐聚集成泡，这将对材料的储氚性能造成严重的破坏．温度和氦浓度将显著影响材料中氦的行为．本文采用4He模拟氚衰变生成的。He在材料中的行为，用磁控溅射的方法制备了不同氦含量的Zr-Co薄膜，并用卢瑟福背散射（RBS）方法分析薄膜的元素组成及厚度，弹性反冲探测（ERD）方法分析样品的氦含量及深度分布．分别采用恒温退火和动态热解析方法研究了4He在Zr-Co样品中的滞留和存在状态，并用X射线衍射（XRD）方法分析其微观结构．
- 张宏亮施立群宿冉冉张海斌陈德敏
- Y掺杂Ti膜的吸放氢行为
- 2024年
- 合金化方法通常被用于改善储氢金属的力学性能,然而这往往会影响材料的储氢性能。为了研究Y掺杂对金属Ti吸放氢的影响,本工作从实验和模拟2方面研究了Ni/Ti-Y合金薄膜的吸放氢特性。采用直流磁控溅射方法制备不同Y掺杂含量的Ti-Y薄膜,并在表面镀一层Ni膜以减少表面污染。吸氘实验发现,Ti薄膜中氘(D)含量随着Y浓度的增加而增大,这是因为替位Y能够结合更多的D,且Y易与O结合可降低Ti被毒化的程度,有利于Ti吸D。密度泛函理论计算表明Y增强了与其相邻的Ti—H键能,同时产生了较强的Y—H键,导致紧邻Y的H结合能和扩散势垒增大,Ti-Y对H的束缚力增强;氘热释放实验结果显示Ni/Ti-Y体系的D解吸表观活化能高于纯Ni/Ti,说明Y对Ni/Ti-Y体系的氘脱附动力学产生了重要影响。结果表明Y掺杂对Ti薄膜体系的吸放氢性能都产生了一定程度的影响。
- 李聪王猛屠汉俊施立群
- 关键词：磁控溅射密度泛函理论扩散表观活化能
- 核分析技术在薄膜材料中的应用
- 利用离子束分析的优点,可以独特地应用到薄膜材料研究中。质子激发X射线荧光(PIXE)技术具有元素分辨本领,测量精度高达ppm量级,可以用来测量ZnO:Fe稀磁半
- 张斌施立群承焕生王建中李嘉庆张杰雄
- 关键词：核分析技术
- 质子在固体中的多次散射对PBS法分析Ti、Zr膜中D、T的影响
- 在对固体中的D、T进行PBS分析实验中，质子的多次散射影响不可忽略。本文采用简单的线性修正方法，通过数据分析获取质子在不同材料中，多次散射计数与道数的拟合线性关系，获得满意的修正结果，总的分析误差可控制在10％以内。
- DING Wei丁伟SHI Li-qun施立群LONG Xing-gui龙兴贵
- 关键词：氢同位素多次散射
- 微波离子源聚焦离子束光学系统的研究被引量：2
- 1999年
- 设计了一种微波离子源的聚焦离子束光学系统，分析计算了该光学系统的束径，并数值模拟了由空间电荷作用造成的束径增宽效应，找出了影响束斑大小的主要因素和减小束径的方法。测试结果表明，在束能为２５ｋｅＶ时，束流为１４８ｎＡ，束径约为２０μｍ左右。
- 施立群彭士香冯慧云陈斌胡纯栋王邵虎余增亮
- 关键词：聚焦离子束微波离子源光学系统
- 吸气剂材料的吸氢动力学理论被引量：7
- 2004年
- 以非蒸散型吸气剂材料为研究对象,提出了一种吸氢动力学的基本模型。氢的吸入过程将由表面吸附、表层渗透和体内扩散3步组成。通常情况下,必须对它们的动力学方程同时求解。在氢通过化学解离吸附进入体内(亚表面层)的吸入过程中,表面势垒对氢从表面渗透至体内的障碍作用不可忽略。在低的体氢浓度条件下,采用晶格 气体模型描述体扩散过程,并讨论了影响吸气速率的因素。
- 刘超卓施立群徐世林罗顺忠龙兴贵周筑颖
- 关键词：度条件解离吸附吸气剂体模
- 第一壁碳材料中的氦和氢同位素滞留特性研究
- 为了研究聚变反应堆中等离子面壁材料中氦和氢同位素的滞留特性,在D2和He混合气氛下,利用射频磁控溅射系统在多晶硅和钨基底上制备了碳共沉积薄膜.离子束分析显示：室温条件下,固定气体总压强2.5Pa,随着He相对气体流量(0...
- 唐兴华施立群戚强张斌张卫媛张文钊
- 关键词：聚变反应堆
- 一种高纯度的致密WAlB MAB相陶瓷块体材料及其制备方法
- 本发明提供了一种高纯度的致密WAlBMAB相陶瓷块体材料制备方法，包括以下步骤：步骤1，以硼化钨粉末、铝粉为原料或以硼粉、钨粉、铝粉为原料进行配料；步骤2，向原配料加入球磨介质，以预定转速和预定时间进行湿混得到混合料；步...
- 张东亚施立群
- ^(16)O 弹性前冲测量氦的深度分布被引量：1
- 1998年
- 利用１２ＭｅＶ的１６Ｏ离子弹性前冲测量（ＥＲＤ）方法，研究了以２０ｋｅＶ和４０ｋｅＶ注入４Ｈｅ的镀钛样品。通过分析ＥＲＤ能谱，得到了注入４Ｈｅ的深度分布，并与非卢瑟福背散射结果进行了比较。对４０ｋｅＶ注入的样品观察到有双峰分布，２０ｋｅＶ注入的样品没有双峰分布，实验结果与ＴＲＩＭ模拟计算结果进行了比较。
- 魏澎赵国庆周筑颖施立群杨福家向伟罗四潍
- 关键词：氦4
- Ti-Mo互扩散界面吸氢同位素效应的离子束分析研究
- 2022年
- 为探究Ti-Mo互扩散对金属吸氢的影响,本文采用离子束分析方法对Ti-Mo薄膜的膜-基互扩散界面的吸氢同位素(H和D)效应进行了研究。通过氩离子刻蚀减薄的方法有效降低了表面碳、氧杂质对样品吸氢的影响。吸氢结果表明,对于表面洁净的样品,氢化后固相中氢或氘的浓度均沿着深度随钼原子含量的增加而减小。在单一气体吸氢实验中,氢原子浓度减小的趋势较氘原子缓慢;而在氢氘混合气体吸氢实验中,当容器中的氢氘压强比p(H_(2))∶p(D_(2))≥0.5∶1时,固体中氘氢浓度之比随钼浓度的增加而降低,但当p(H_(2))∶p(D_(2))<0.5∶1时,氘氢浓度之比随钼浓度的增加而升高。因此,由于Ti-Mo界面的互扩散,吸氢出现了显著的氢同位素效应,钼的存在不利于体系对氢同位素气体的吸收。
- 段一鸣李聪张伟光王猛施立群
- 关键词：同位素效应
