才玺坤
- 作品数：36 被引量：30H指数：4
- 供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
- 发文基金：国家科技重大专项浙江省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信机械工程医药卫生更多>>
- 离子束溅射制备GdF_3光学薄膜沉积速率分布特性被引量：2
- 2016年
- 本文采用离子束溅射方法制备GdF_3薄膜,并研究其沉积速率分布特征。首先,采用膜厚仪测量得出GdF_3薄膜在行星盘平面的二维沉积速率分布图,通过拟合模型得到二维沉积速率分布公式。其次,分析了束流束压及靶材角度对沉积速率分布特征的影响。最后,以二维沉积速率分布公式为基础,通过计算机编程设计均匀性挡板,并进行膜厚均匀性实验验证。结果表明,沉积速率在水平方向上满足ECS函数分布,在竖直方向上满足标准Gauss分布,拟合公式残差为2.05×10^(-6)。改变离子源的束流和束压,沉积速率分布特征保持不变。而随着靶材角度的增大,Gauss分布的半峰宽值ω逐渐增大,峰值位置x_c逐渐增大,在θ=292°时,GdF_3薄膜的沉积速率最大。通过挡板修调实验,可将270 mm口径平面元件的膜厚均匀性调整为97.9%。
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- 关键词：离子束溅射光学薄膜沉积速率膜厚均匀性
- 一种清洗和镀膜为一体的夹具
- 一种清洗和镀膜为一体的夹具，属于光学镀膜技术领域，解决了现有技术中在清洗和镀膜的过程中造成元件污染和崩边的技术问题；包括镜座S1、镜座S2、连接构件、清洗支撑构件和固定构件；镜座S1和镜座S2为圆环形，在镜座S1和镜座S...
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- 分子束外延生长[111]晶向CdTe的研究被引量：2
- 2012年
- 本文采用分子束外延(MBE)方法在BaF_2衬底上直接外延生长了CdTe(111)薄膜.反射高能电子衍射(RHEED)实时监控生长表面,衍射图样揭示了CdTe(111)在BaF_2表面由二维生长向三维生长的变化过程.XRD表征验证了外延生长的CdTe薄膜的单晶性质.由红外透射光谱测量和理论拟合相结合,得到了CdTe外延薄膜室温带隙宽度E_g=1.511 eV.
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- 关键词：CDTERHEED
- 一种重复可调式的镀膜仿面形工装
- 一种重复可调式的镀膜仿面形工装，属于光学镀膜领域，解决了现有技术仿面形夹具难以模拟多种曲率半径和不同口径的镀膜基片，在反复的加热、镀膜过程中，容易发生变形的技术问题；本发明包括行星盘、多个可调式镜座和镀膜基片；多个可调式...
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- 一种建立用于计算沉积速率的理论模型的方法
- 本发明实施例公开了一种建立用于计算离子束溅射薄膜过程中沉积速率的理论模型的方法，通过实验测试得到待测平面二维离散点的膜厚数据，对数据进行拟合处理获得理论模型中的未知参数，进而可采用所述理论模型计算获得该平面任一点的沉积速...
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- 文献传递
- 一种用于确定非正入射条件下光学原件透过率的方法
- 本发明提供一种用于确定非正入射条件下光学原件透过率的方法，属于光学原件领域。解决现有的方法需要透过率已知的参考样品、需要制作两个透过率完全一致的样品、样品透过率存在制作误差与测量误差的问题。该方法先按照分光光度计的透过率...
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- 透明ZnSnO薄膜晶体管特性研究
- 陈勇跃王雄才玺坤吴惠桢
- 关键词：薄膜晶体管退火迁移率磁控溅射
- 利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性的方法
- 本发明涉及一种利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性的方法，包括以下步骤：对所述大口径元件进行预处理，消除大口径元件内部残余应力；静置第一预设时间后，利用斐索干涉仪对大口径元件进行面形测量，并标记为初始面形W1；为大口径...
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- 文献传递
- 提高深紫外大口径球面光学元件膜系一致性的方法
- 提高深紫外大口径球面光学元件膜系一致性的方法，涉及深紫外薄膜制备领域，解决了在采用热蒸发方法为大口径、大口径/曲率半径球面光学元件镀制深紫外减反膜系时，由于元件表面不同位置沉积速率和沉积角不同，导致元件表面各处厚度及填充...
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- 用于确定光学材料激光辐照老化寿命的加速实验方法
- 用于确定光学材料激光辐照老化寿命的加速实验方法，涉及光学材料，解决测试光学元件的使用寿命时，存在的耗费时间长，且浪费人力物力等问题，同时采用加速实验方法时无法确定加速比的问题，本发明方法将材料加工成符合激光量热吸收测试所...
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- 文献传递
