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刘柳

作品数:34 被引量:6H指数:2
供职机构:华南师范大学更多>>
发文基金:中国博士后科学基金国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信理学机械工程更多>>

文献类型

  • 29篇专利
  • 5篇期刊文章

领域

  • 7篇电子电信
  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 10篇波导
  • 6篇掩膜
  • 6篇纳米
  • 6篇刻蚀
  • 6篇激光
  • 6篇光波
  • 5篇光刻
  • 5篇光刻胶
  • 5篇钞票
  • 4篇信号
  • 4篇弯曲波导
  • 4篇基底
  • 4篇基底表面
  • 4篇光纤
  • 3篇阵列
  • 3篇阵列信号
  • 3篇正交频分
  • 3篇正交频分复用
  • 3篇制作方法
  • 3篇探测器

机构

  • 34篇华南师范大学
  • 1篇浙江大学

作者

  • 34篇刘柳
  • 11篇张渊
  • 7篇向拓闻
  • 4篇郭昌建
  • 3篇周斌
  • 2篇王娜
  • 2篇洪学智
  • 1篇周习
  • 1篇黄凌晨
  • 1篇刘芬

传媒

  • 5篇华南师范大学...

年份

  • 1篇2022
  • 5篇2021
  • 2篇2020
  • 8篇2019
  • 4篇2018
  • 4篇2017
  • 6篇2016
  • 2篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2012
34 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
PDM-CO-OFDM中采用相位传递的次符号光相位噪声抑制算法
2015年
在符号周期-光源线宽乘积较大的PDM-CO-OFDM系统中,光相位噪声引入的子载波间串扰(ICI)极大地劣化了系统的性能.采用高阶调制格式(如16QAM)的PDM-CO-OFDM系统对光相位噪声的敏感度随调制格式的升高而增加.针对上述受光相位噪声影响较大的系统,该文提出一种采用线性插值、相位传递和符号分割的光相位噪声抑制算法,即P-LI-SCPEC.推导了算法的数学模型,通过蒙特卡洛仿真研究了该算法的性能,并与已有的几种光相位噪声抑制算法进行了横向对比.仿真结果表明,该算法能有效地抑制光相位噪声,提高系统对光源线宽的容忍度,其性能优于此前提出的LI-SCPEC算法.该算法对于PDM-CO-OFDM技术在采用廉价光源的光接入网及采用高阶调制格式的主干网中的应用都具有重要的意义.
洪学智洪晓建刘柳郭昌建
关键词:相干光正交频分复用偏振复用
一种在平面光波导表面制备微纳结构的方法
本发明公开了一种在平面光波导表面制备微纳结构的方法,包括以下步骤:(1)选取表面具有凸起平面光波导的基片,在所述基片的表面上设置光刻胶;(2)利用掩膜对所述凸起平面光波导上的光刻胶进行局部曝光,在所述凸起平面光波导上形成...
胡治朋张渊黄广飞朱圣科刘柳
文献传递
一种柱状同轴圆环纳米结构的制作方法
本发明提供了一种柱状同轴圆环纳米结构的制作方法,包括在基底表面形成图形刻蚀层的工序;对图形刻蚀层进行处理,在基底表面形成柱状同轴圆环纳米结构的工序;以基底表面的柱状同轴圆环纳米结构为掩膜,对基底进行刻蚀,将结构转移至基底...
黄广飞张渊胡治朋朱圣科刘柳
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一种硅基光栅耦合器及其制作方法
本发明公开了一种硅基光栅耦合器及其制作方法,所述耦合器在光纤与芯片进行耦合时可以直接与芯片垂直耦合,而不必使光纤与芯片垂直方向呈一定角度的偏角。其制作方法是:采用了微机电系统技术,将制作有耦合光栅的顶硅层光波导下方的掩埋...
刘柳张晨昭金驰超王思亚
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一种制备纳米孔阵列结构的方法
本发明提供了一种制备纳米孔阵列结构的方法,包括:在基底表面形成图形刻蚀层的工序;对图形刻蚀层进行处理以在基底表面形成纳米孔阵列结构的工序,所述对图形刻蚀层进行处理包括图案掩膜层制作工序和图案刻蚀工序;以基底表面的纳米孔阵...
黄广飞张渊胡治朋朱圣科刘柳
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一种硅基光栅耦合器
本实用新型公开了一种硅基光栅耦合器,所述耦合器包括一绝缘体上硅芯片和光纤,光纤垂直放置在绝缘体上硅芯片的上方;绝缘体上硅芯片由顶硅层、掩埋绝缘体层、硅衬底组成,顶硅层表面制作有一段硅光波导,硅光波导包括依次相连的第一贴合...
刘柳张晨昭金驰超王思亚
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激光干涉法薄膜厚度变化量在线监测方法和装置
本发明公开了一种激光干涉法薄膜厚度变化量在线监测方法和装置,该方法是:激光聚焦到被测薄膜上,在薄膜的上下表面产生的两束反射光发生干涉;干涉光被探测,然后形成可视的周期性变化的“电压‑时间”曲线;结合周期数和所花时间可得薄...
王娜陈楷旋刘柳
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一种弯曲钞票展平装置
本实用新型公开一种弯曲钞票展平装置,包括上夹板、下夹板和安装支架,上夹板和下夹板之间形成有间隙,下夹板的下方还安装有一根转轴,转轴的一端安装有驱动轮,转轴上安装有主动轮,主动轮的端面伸入间隙内,上夹板上安装有浮动轮组件,...
向拓闻廖任张晓生刘柳
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一种制备纳米孔阵列结构的方法
本发明提供了一种制备纳米孔阵列结构的方法,包括:在基底表面形成图形刻蚀层的工序;对图形刻蚀层进行处理以在基底表面形成纳米孔阵列结构的工序,所述对图形刻蚀层进行处理包括图案掩膜层制作工序和图案刻蚀工序;以基底表面的纳米孔阵...
黄广飞张渊胡治朋朱圣科刘柳
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等离子体纳米结构Fano谐振的Q值计算研究
2016年
品质因子(Q值)是谐振模式电磁存储能力的一个重要评价指标,文中从定义出发得到了Q值的时域拟合公式,并结合时域有限差分方法对典型金属纳米结构以及Fano谐振各特征模式的Q值展开研究;此外,用较为简单方便的频域半高宽公式对上述结构进行了Q值计算.通过对比2种方法得到的结果,发现尽管频域半高宽公式能够适用于简单的金属纳米结构谐振模式Q值计算,但在处理Fano谐振的Q值时将会带来较大的误差,有时甚至极大地偏离实际值导致计算结果失去意义.文中采用的时域拟合Q值公式从谐振模式的本质出发,不受结构响应谱线型的影响,适用于各种情况下对谐振模式Q值的准确计算.
胡治朋刘芬刘柳张渊
关键词:Q值金属纳米结构
共4页<1234>
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