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兰博

作品数:16 被引量:41H指数:4
供职机构:中国科学院研究生院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点实验室开放基金更多>>
相关领域:电子电信核科学技术更多>>

文献类型

  • 14篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 12篇电子电信
  • 2篇核科学技术

主题

  • 6篇偏置
  • 5篇退火
  • 5篇总剂量
  • 4篇偏置条件
  • 4篇总剂量辐照
  • 3篇双极晶体管
  • 3篇退火效应
  • 3篇转换器
  • 3篇模数转换
  • 3篇模数转换器
  • 3篇晶体管
  • 3篇剂量率
  • 3篇辐照效应
  • 3篇NPN双极晶...
  • 2篇低剂量率
  • 2篇总剂量辐射
  • 2篇总剂量辐照效...
  • 2篇部分耗尽SO...
  • 2篇存储器
  • 2篇PMOSFE...

机构

  • 16篇中国科学院新...
  • 14篇中国科学院研...
  • 2篇中国科学院微...
  • 2篇中国电子科技...
  • 1篇新疆医科大学...

作者

  • 16篇兰博
  • 15篇李茂顺
  • 14篇费武雄
  • 13篇崔江维
  • 13篇陈睿
  • 11篇赵云
  • 9篇任迪远
  • 7篇王义元
  • 6篇郑玉展
  • 6篇陆妩
  • 6篇余学峰
  • 5篇郭旗
  • 5篇高博
  • 2篇王志宽
  • 2篇杨永晖
  • 2篇卫平强
  • 2篇李豫东
  • 2篇何承发
  • 2篇刘刚
  • 1篇孙静

传媒

  • 7篇原子能科学技...
  • 3篇核电子学与探...
  • 2篇核技术
  • 1篇物理学报
  • 1篇微电子学

年份

  • 5篇2011
  • 9篇2010
  • 2篇2009
16 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
新型PAGAT聚合物凝胶剂量计的磁共振成像研究被引量:1
2011年
使用丙烯酰胺、明胶、交联剂、除氧剂和甲醛等在常氧条件下制备出一种新型的PAGAT聚合物凝胶剂量计。实验结果表明:剂量计的磁共振横向弛豫率随吸收剂量的增加而增大,经计算,得出了剂量计的探测下限;剂量计样品的批均匀性好于3.2%,且剂量响应在0.05~1.00Gy/s之间基本与剂量率无关。此外,使用该剂量计对异质界面剂量分布的测量结果以及剂量增强效应进行了分析。
赵云何承发刘艳杨进军卫平强兰博崔江维费武雄李茂顺王飞
关键词:磁共振成像
p型金属氧化物半导体场效应晶体管低剂量率辐射损伤增强效应模型研究被引量:2
2011年
对一种非加固4007电路中p型金属氧化物半导体场效应晶体管(PMOSFET)在不同剂量率条件下的电离辐射损伤效应及高剂量率辐照后的退火效应进行了研究.通过测量不同剂量率条件下PMOSFET的亚阈I-V特性曲线,得到阈值电压漂移量随累积剂量、退火时间的变化关系.实验发现,此种型号的PMOSFET具有低剂量率辐射损伤增强效应.通过描述H+在氧化层中的输运过程,解释了界面态的形成原因,初步探讨了非加固4007电路中PMOSFET低剂量率辐射损伤增强效应模型.
高博余学峰任迪远崔江维兰博李明王义元
关键词:电离辐射损伤低剂量率辐射损伤增强效应
变温辐照加速评估方法在不同工艺的NPN双极晶体管上的应用被引量:8
2010年
对6种不同工艺的NPN双极晶体管进行了高、低剂量率及变温辐照的^(60)Coγ辐照实验。结果显示,6种工艺的NPN双极晶体管均有显著的低剂量率辐照损伤增强效应。而变温辐照损伤不仅明显高于室温高剂量率的辐照损伤,且能很好地模拟并保守地评估不同工艺的NPN双极晶体管低剂量率的辐照损伤。对实验现象的机理进行了分析。
费武雄陆妩任迪远郑玉展王义元陈睿李茂顺兰博崔江维赵云王志宽杨永晖
关键词:NPN双极晶体管
国产工艺的部分耗尽SOI PMOSFET总剂量辐照及退火效应研究
2010年
对国产工艺的部分耗尽SOIPMOSFET60Coγ射线的总剂量辐照及退火效应进行了研究。结果表明:随着工艺技术的发展,正栅氧化层具有较强的抗辐照加固能力,背栅由于埋氧层厚度和工艺生长原因而对总剂量辐照较为敏感;辐照引入的深能级界面态陷阱电荷的散射作用,导致了正栅源漏饱和电流的显著降低;退火过程中界面态陷阱电荷的饱和决定了正栅亚阈曲线的平衡位置,而隧穿或热发射的电子只能中和部分背栅氧化物陷阱电荷,使得退火后背栅曲线仍与初始值有一定负向距离。
崔江维余学峰刘刚李茂顺高博兰博赵云费武雄陈睿
关键词:总剂量辐照效应退火
不同偏置条件的10位CMOS模数转换器的辐射效应被引量:3
2010年
对10位CMOSADC7910在不同偏置条件下的电离辐射效应及退火特性进行了研究。结果表明:模数混合电路在不同偏置条件下的电离辐照响应有很大的差异。与加电偏置相比,零偏下0.25Gy/s(Si)剂量率辐照时的辐射损伤更严重。并对其损伤机理进行了初步探讨。
陈睿陆妩任迪远郑玉展王义元费武雄李茂顺兰博崔江维
关键词:模数转换器偏置条件
国产工艺的部分耗尽SOI MOSFET总剂量辐照效应及可靠性
2010年
对国产工艺的部分耗尽SOIMOSFET60Coγ射线的总剂量辐照效应及其可靠性进行了研究。结果表明:辐照引入的氧化物陷阱电荷是阈值电压漂移的主要因素;背栅对总剂量辐照更为敏感,但在背栅特性漂移未超出一定范围的情况下,依然是正栅氧化层质量决定了器件的抗辐照性能;界面态陷阱电荷的散射作用降低了器件的源漏饱和电流;总剂量辐照后器件的常规可靠性可能会降低。
崔江维余学峰刘刚李茂顺兰博赵云费武雄陈睿
关键词:总剂量辐照效应退火效应可靠性
不同偏置条件的10位CMOS模数转换器的辐射效应
对10 位CMOS ADC7910 在不同偏置条件下的电离辐射效应及退火特性进行了研究.结果表明:模数混合电路在不同偏置条件下的电离辐照响应有很大的差异.高剂量率辐照时,相比加电偏置,零偏条件下的辐射损伤更严重.文中对其...
陈睿陆妩任迪远郑玉展王义元费武雄李茂顺兰博
关键词:模数转换器偏置条件
10位CMOS模数转换器高低剂量率的辐射效应被引量:3
2011年
对10位CMOS模数转换器ADC7910的^(60)Coγ射线的电离辐射效应及退火特性进行了研究。结果显示:模数混合电路在不同剂量率辐照下的电离辐照响应有明显区别,在高剂量率辐照下的损伤明显大于低剂量率的辐照,但这种差异可通过高剂量率辐照加与低剂量率辐照相同时间的室温退火来消除,因而具有时间相关效应。对辐射敏感参数和损伤机理进行了初步探讨。
陈睿陆妩任迪远郑玉展王义元费武雄李茂顺兰博
关键词:模数转换器
不同偏置条件下CMOS SRAM的总剂量辐射效应被引量:4
2011年
对1 Mb静态随机存取存储器(SRAM)进行了不同偏置条件下的总剂量辐照效应研究。结果表明,试验选取的CMOS SRAM器件为总剂量辐射敏感器件,辐照偏置条件对器件的电参数退化和功能失效有较大影响。在三种偏置条件中,静态加电为最劣偏置,其次是工作状态,浮空状态时器件的辐射损伤最小。在工作状态和静态加电两种偏置条件下,静态功耗电流的退化与器件功能失效密切相关,可作为器件功能失效的预警量。
李茂顺余学峰任迪远郭旗李豫东高博崔江维兰博费武雄陈睿赵云
关键词:静态随机存取存储器总剂量辐照偏置条件
CMOS SRAM总剂量辐射及退火效应研究被引量:2
2010年
对1 Mbits的静态随机存储器(SRAM)进行了总剂量辐照及退火试验,试验结果表明:静、动态功耗电流均随总剂量增加而显著增大;静态功耗电流的退化与功能失效有密切相关性,非常适合作为辐射环境下器件功能失效的预警量;SRAM的读写出错数存在辐射剂量阈值,超过阈值时出错数便会指数增加;退火过程可以使器件参数恢复到初始值附近,其中高温退火对出错数的恢复作用更加明显。
李茂顺余学峰郭旗李豫东高博崔江维兰博陈睿费武雄赵云
关键词:静态随机存储器总剂量辐射退火
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