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严旻

作品数：9 被引量：0H指数：0
供职机构：通用电气公司更多>>

合作作者

文献类型

  • 9篇中文专利

主题

  • 3篇电子器件
  • 2篇多层膜
  • 2篇中间层
  • 2篇透明电极
  • 2篇透射
  • 2篇平面化
  • 2篇阻挡层
  • 2篇完整性
  • 2篇无机
  • 2篇像差
  • 2篇流体
  • 2篇基底
  • 2篇基底膜
  • 2篇发光
  • 2篇发光器件
  • 2篇发射区
  • 2篇反应物
  • 2篇波长
  • 1篇微电子
  • 1篇微电子器件

机构

  • 9篇通用电气公司

作者

  • 9篇严旻
  • 2篇史晓蕾
  • 2篇刘杰

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2010
  • 2篇2008
  • 1篇2005
共 9 条 记 录，以下是 1-9
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排序方式：
有机电子器件用透明电极
本发明披露一种透明电极，该透明电极包括至少一层光学透明导电层和至少一层光学透明中间层，其中所述光学透明导电层与所述光学透明中间层接触，并且其中所述光学透明导电层和所述光学透明中间层整体透射至少50％的波长为约200nm～...
刘杰詹姆斯·A·塞拉严旻阿尼尔·R·达加尔迈克尔·S·赫佐格斯维特拉纳·罗戈杰维克高塔姆·帕撒萨拉蒂
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有机电子器件用透明电极
本发明披露一种透明电极，该透明电极包括至少一层光学透明导电层和至少一层光学透明中间层，其中所述光学透明导电层与所述光学透明中间层接触，并且其中所述光学透明导电层和所述光学透明中间层整体透射至少50％的波长为约200nm～...
刘杰詹姆斯·A·塞拉严旻阿尼尔·R·达加尔迈克尔·S·赫佐格斯维特拉纳·罗戈杰维克高塔姆·帕撒萨拉蒂
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发光器件和物品
一种器件包括层，该层包括光发射区和光非发射区。光提取特征设置在光非发射区之上。光提取特征可以包括表面像差和折射率匹配元件。还提供形成器件的方法。
严旻S.拉库夫史晓蕾赵日安
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高度完整性保护涂层
具有至少一个高度完整性保护涂层的复合物品，所述高度完整性保护涂层具有至少一个平面化层和至少一个有机-无机组合物隔离涂层。一种沉积高度完整性保护涂层的方法。
T·W·金严旻C·M·A·赫勒M·谢普肯斯T·B·戈尔茨卡P·A·麦康奈尔A·G·埃尔拉特
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发光器件和物品
一种器件包括层，该层包括光发射区和光非发射区。光提取特征设置在光非发射区之上。光提取特征可以包括表面像差和折射率匹配元件。还提供形成器件的方法。
严旻S.拉库夫史晓蕾赵日安
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使薄膜容易控制的方法和夹紧装置
装置(10)包括夹紧装置，其中包括至少一个内部件(14)和至少一个外部件(16)。使夹紧装置(10)的形状能够将膜(12)固定在至少一个内部件(14)和至少一个外部件(16)之间。可以进一步加工被固定的膜(12)，获得一...
A·R·杜加尔P·A·麦康奈利M·谢普肯斯严旻
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处理多层膜的方法
本发明提供了一种处理多层膜的方法。所述方法包括提供具有基底膜第一表面和基底膜第二表面的基底膜。所述方法还包括提供邻近基底膜第二表面的阻挡层。所述阻挡层具有至少一个能让基底膜和阻挡层外表面之间流体连接的开口。进一步，所述方...
C·M·A·赫勒A·R·杜加尔D·J·科伊尔严旻A·G·埃尔拉特赵日安
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高度完整性保护涂层
具有至少一个高度完整性保护涂层的复合物品，所述高度完整性保护涂层具有至少一个平面化层和至少一个有机－无机组合物隔离涂层。一种沉积高度完整性保护涂层的方法。
T·W·金严旻C·M·A·赫勒M·谢普肯斯T·B·戈尔茨卡P·A·麦康奈尔A·G·埃尔拉特
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处理多层膜的方法
本发明提供了一种处理多层膜的方法。所述方法包括提供具有基底膜第一表面和基底膜第二表面的基底膜。所述方法还包括提供邻近基底膜第二表面的阻挡层。所述阻挡层具有至少一个能让基底膜和阻挡层外表面之间流体连接的开口。进一步，所述方...
C·M·A·赫勒A·R·杜加尔D·J·科伊尔严旻A·G·埃尔拉特赵日安
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