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黄万才

作品数:7 被引量:19H指数:2
供职机构:北京有色金属研究总院更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术电气工程化学工程更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 3篇一般工业技术
  • 2篇电气工程
  • 1篇化学工程
  • 1篇理学

主题

  • 4篇等静压
  • 4篇热等静压
  • 3篇HIP
  • 3篇ZNS
  • 2篇导体
  • 2篇透过率
  • 2篇涂层导体
  • 2篇气相沉积
  • 2篇热等静压处理
  • 2篇化学气相
  • 2篇化学气相沉积
  • 2篇CVD
  • 1篇多晶材料
  • 1篇提纯
  • 1篇提纯技术
  • 1篇钇钡铜氧
  • 1篇外用
  • 1篇显微结构
  • 1篇红外
  • 1篇高温超导

机构

  • 7篇北京有色金属...

作者

  • 7篇黄万才
  • 4篇霍承松
  • 4篇鲁泥藕
  • 3篇石红春
  • 3篇杨海
  • 2篇余怀之
  • 2篇郑冉
  • 1篇宋睿丰
  • 1篇古宏伟
  • 1篇付利刚
  • 1篇张福昌
  • 1篇杨坚
  • 1篇苏小平
  • 1篇孙加滢
  • 1篇莫杰
  • 1篇王连红

传媒

  • 1篇稀有金属
  • 1篇应用光学
  • 1篇化工技术与开...
  • 1篇2009年先...

年份

  • 1篇2021
  • 2篇2009
  • 1篇2008
  • 2篇2006
  • 1篇2001
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
采用TFA-MOD技术在LaAlO_3单晶基片上制备YBa_2Cu_3O_(7-x)涂层导体被引量:5
2006年
三氟乙酸盐-金属有机沉积技术(TFA-MOD)是制备钇钡铜氧涂层导体的有发展前景的方法之一。采用TFA-MOD技术在铝酸镧单晶基片上制备出YBa2Cu3O7-x涂层导体,并对不同烧结温度下制备的薄膜作了分析比较,找到了较为合适的烧结温度。用X射线衍射进行了物相的定性分析,由YBCO薄膜的(103)扫描图谱分析了薄膜的外延生长,用原子力显微镜观察了薄膜表面形貌。结果表明制备出的YBCO薄膜表面均匀致密、无明显裂纹、有较强的(00l)衍射峰。
黄万才古宏伟杨坚王连红
关键词:TFA-MOD钇钡铜氧涂层导体
红外用CVD ZnS多晶材料的研制被引量:13
2008年
论述了制备红外用CVD ZnS多晶材料的化学气相沉积工艺和热等静压处理工艺。针对CVD ZnS多晶材料具备优良的光学和力学性能,采用化学气相沉积工艺和热等静压处理技术成功研制出大尺寸多晶材料,其最大尺寸达到250 mm×15 mm。测试了CVD ZnS样品的各项光学、力学性能指标。样品的全波段透过率均接近ZnS材料的本征水平,折射指数均匀性优于2×10-5,在1.06μm的吸收系数为2×10-3cm-1,抗弯强度达到104 MPa。
杨海霍承松余怀之付利刚石红春鲁泥藕黄万才孙加滢郑冉苏小平
关键词:CVDZNS化学气相沉积热等静压处理
三氟乙酸盐-金属有机沉积制备钇钡铜氧涂层导体研究
YBCO涂层导体是高温超导技术强电应用的关键材料。其实用成材技术的突破将会带来革命性成果,实现超导技术在工业领域的大规模应用。目前主要有两种方法来制备YBCO涂层,一种是真空法,一种是化学溶液法。由于后者成本低、沉积速率...
黄万才
关键词:涂层导体高温超导
文献传递
热等静压处理(HIP)对CVDZnS物相结构的影响
采用X射线衍射(XRD)和红外光谱仪(FTIR)对化学气相沉积ZnS和热等静压处理的多光谱ZnS在物相结构和透过率等方面的变化进行了比较分析。结果表明,原生ZnS中除了立方结构的主相外,还存在具有双折射现象的六方结构杂相...
黄万才石红春张福昌鲁泥藕霍承松杨海
关键词:热等静压
文献传递
热等静压(HIP)过程对CVD ZnS显微结构的影响
本文通过测量热等静压(HIP)前后CVD ZnS的光学透过率,采用分析电子显微镜、金相显微镜和X射线衍射对原生CVD ZnS 和经热等静压(HIP)处理后的CVD ZnS 的显微结构和晶体结构进行了分析。根据热等静压(H...
宋睿丰余怀之霍承松黄万才鲁泥藕
关键词:热等静压透过率
文献传递
热等静压(HIP)对CVDZnSe透过率的影响
首次将热等静压技术应用于CVDZnSe的后处理工艺中。通过对热等静压处理前后样品的金相组织及可见光和红外各波段透过率的测试和分析表明。热等静压处理消除或减弱了材料内部的缺陷(如微孔、晶界等),提高了晶体在可见光及红外的透...
石红春郑冉鲁泥藕黄万才霍承松杨海
关键词:透过率
文献传递
硒化氢的制备和提纯技术被引量:1
2021年
硒化氢是一种制备红外光感材料硒化锌的重要原料,也是用于集成电路的外延、掺杂和蚀刻等工艺的重要电子特气。本文对硒化氢的制备和提纯技术进行了综述。
邓俊宝黄万才莫杰胡通冯晓青蒲云平史晶晶赵艳超
关键词:提纯
共1页<1>
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