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文献类型

  • 3篇会议论文
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇化学工程
  • 1篇理学

主题

  • 3篇镀液
  • 3篇镀银
  • 3篇添加剂
  • 3篇无氰
  • 3篇无氰镀
  • 3篇无氰镀银
  • 2篇电镀
  • 2篇电镀添加剂
  • 2篇电镀液
  • 2篇镀层
  • 2篇预镀
  • 2篇装饰性电镀
  • 1篇镀层结合力
  • 1篇镀层性能
  • 1篇镀液性能
  • 1篇石英晶体
  • 1篇石英晶体微天...
  • 1篇芯片
  • 1篇络合剂
  • 1篇纳米

机构

  • 6篇福州大学

作者

  • 6篇陈锦怀
  • 5篇谢步高
  • 5篇孙建军
  • 3篇林志彬
  • 3篇向统领
  • 2篇陈国南
  • 1篇陈小波
  • 1篇林志斌

传媒

  • 3篇第十四次全国...

年份

  • 2篇2008
  • 4篇2007
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
有机无氰镀银体系及添加剂作用机理研究
金属化是半导体芯片制造中一个非常重要的工艺过程。在这个过程中,芯片内部的一些元件和结构单元,通过金属布线来连接集成在一起,而这些是金属布线在芯片上的一条条微沟道中沉积得到的.目前主要的金属布线是由铜组成的.与铜相比,银具...
陈锦怀向统领谢步高孙建军
关键词:添加剂半导体芯片
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用于镀银的无氰型电镀液
本发明提供一种用于镀银的无氰型电镀液,其特征在于所述电镀液的原料配方各组分的质量浓度为:含有银的无机盐或有机盐1~200g/L,嘧啶类配位剂1~800g/L,支持电解质1~200g/L,镀液pH调节剂0~550g/L及电...
孙建军谢步高林志彬陈锦怀陈国南
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有机无氰镀银体系及其添加剂作用
陈锦怀
关键词:无氰镀银添加剂
一种非水无氰镀银电镀液
本发明提供一种非水无氰镀银电镀液,所述电镀液采用有机溶剂代替水作为溶剂,所述电镀液中各组分质量浓度为:银离子来源物1~200g/L,配位剂1~800g/L,电镀添加剂10~10000mg/L。本发明的非水无氰镀银电镀液与...
孙建军陈锦怀谢步高林志彬陈国南
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海因无预镀无氰镀银体系及其添加剂作用研究
银具有良好的导电性和可焊性,且色泽光亮,其作为导体具有极好的电特性,被广泛应用于电子及装饰领域。传统的镀银工艺多为氰化镀银,氰化物与银的络合能力极强,因此氰化镀银具有外观光亮、结合力强、镀层结晶微粒均匀等特点。然而,氰化...
向统领陈锦怀谢步高陈小波林志彬孙建军
关键词:海因添加剂
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巴比妥酸无预镀无氰镀银体系的研究
随着世界各国环境保护意识的加强和相关政策的出台,有氰电镀逐渐成为落后产业,成为限制申报、原则淘汰的工艺。因此,针对有氰镀银工艺,电镀工作者们先后提出了硫代硫酸盐镀银、亚硫酸盐镀银、磺基水杨酸镀银和亚氨基二磺酸盐镀银等无氰...
谢步高向统领陈锦怀林志斌孙建军
关键词:巴比妥酸石英晶体微天平镀液性能镀层性能
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共1页<1>
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