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陈有梅

作品数:6 被引量:7H指数:1
供职机构:中国科学技术大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划高等学校学科创新引智计划更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 5篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 6篇光刻
  • 3篇光刻胶
  • 3篇SU-8
  • 3篇SU-8光刻...
  • 2篇掩模
  • 2篇英文
  • 2篇接近式光刻
  • 2篇计算机
  • 2篇计算机模拟
  • 1篇紫外曝光
  • 1篇柯勒照明
  • 1篇快速傅里叶变...
  • 1篇光刻技术
  • 1篇傅里叶
  • 1篇傅里叶变换
  • 1篇LIGA技术

机构

  • 6篇中国科学技术...

作者

  • 6篇陈有梅
  • 5篇郑津津
  • 2篇周洪军
  • 2篇李晓光
  • 2篇沈连婠
  • 1篇李木军
  • 1篇刘刚
  • 1篇田杨超
  • 1篇张自军

传媒

  • 1篇光学精密工程
  • 1篇中国科学技术...
  • 1篇微细加工技术
  • 1篇2007中德...

年份

  • 6篇2007
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
紫外深度光刻的计算机模拟及误差修正
深度光刻是LIGA工艺的核心技术之一,是获得高精度大高宽比微结构的关键工艺。随着LIGA技术在微电子机械系统加工工艺中的广泛应用,尤其是在生物科学技术领域的广泛应用,深度光刻技术也越来越成为研究应用的热点。然而对于深度光...
陈有梅
关键词:LIGA技术光刻技术计算机模拟
文献传递
SU-8紫外深度光刻的误差及修正(英文)被引量:4
2007年
在深紫外LIGA加工中,制作高精度大高宽比的微器件是很困难的。难点在于SU-8光刻胶对紫外光的吸收系数随着波长变短而很快变大,而且其穿透深度也相应迅速变小;同时由于紫外光的衍射效应,获得高精度的大高宽比结构并不容易。本文深入研究了影响紫外深度光刻图形转移精度的如下因素:衍射效应、曝光剂量、紫外光波长和蝇眼透镜的分布等等。建立了基于模型区域的校正系统,该校正系统采用了分类分区域的思想将掩模图形按其畸变的特点进行了分类,在校正过程中对不同的类别分别建立校正区域,在每一校正区域内进行校正优化处理和校正评价,这种基于模型的分类分区域评价思想,使得校正过程有效且实时,该校正方法不仅降低了校正的复杂性,同时提高了校正的效率。
郑津津陈有梅周洪军田杨超刘刚李晓光沈连婠
关键词:SU-8光刻胶掩模
SU-8紫外深度光刻的误差及修正(英文)
在深紫外LIGA加工中,制作高精度大高宽比的微器件是很困难的。难点在于SU-8光刻胶对紫外光的吸收系数随着波长变短而很快变大,而且其穿透深度也相应迅速变小;同时由于紫外光的衍射效应,获得高精度的大高宽比结构并不容易。本文...
郑津津陈有梅周洪军田杨超刘刚李晓光沈连婠
关键词:SU-8光刻胶掩模
文献传递
SU-8紫外深度光刻的误差及修正
在深紫外LIGA加工中,制作高精度大高宽比的微器件是很困难的.难点在于SU-8光刻胶对紫外光的吸收系数随着波长变短而很快变大,而且其穿透深度也相应迅速变小;同时由于紫外光的衍射效应,获得高精度的大高宽比结构并不容易.本文...
郑津津陈有梅周洪军田杨超刘刚李晓光沈连婠
关键词:SU-8光刻胶
文献传递
接近式光刻衍射光场的快速计算机模拟被引量:1
2007年
接近式光刻中一般采用柯勒照明系统,并采用蝇眼透镜形成多点光源均匀掩模面的光场分布.利用基尔霍夫衍射理论及多点光源的衍射光场非相干叠加方法,对光刻胶表面的衍射光场进行了快速计算机模拟,并与霍普金斯理论计算结果进行了分析比较.结果表明采用基尔霍夫衍射理论及多点光源的衍射光场非相干叠加的模型不仅快速而且也可以比较准确地模拟接近式光刻的衍射光场分布.
陈有梅郑津津周洪军沈连婠张自军
关键词:接近式光刻柯勒照明计算机模拟
接近式光刻的角谱法仿真研究被引量:1
2007年
在基于UV-LIGA技术的大高宽比微细结构的加工技术中,接近式紫外光刻工艺会因衍射效应而使掩模图形在复制过程中产生图形失真,从而引起光刻胶结构的形状缺陷。对该衍射光场进行计算机仿真,预测光刻图形误差,可以为误差修正提供理论依据。运用快速傅里叶(FFT)方法对接近式曝光进行角谱计算,研究了FFT相关参数的选择依据和参数范围的确定原则,详细讨论了光刻机的照明机理对参数选择的影响。通过对光刻胶表面和内部的衍射光场分布的仿真计算,表明了该方法既具有好的计算精度,又具有计算速度快的明显优势。给出了与利用瑞利索末菲衍射公式进行的仿真计算的比较,两者的计算精度相差很小,但本方法的计算速度快了几十倍。由此表明,本FFT方法可以为在掩模设计阶段就预修正微结构图形,为获得理想的光刻胶图形的可制造设计(design for manufacture)的工程实用化提供一种可行的途径。
李晓光沈连郑津津李木军陈有梅
关键词:紫外曝光接近式光刻快速傅里叶变换
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